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プロセスの安定化とは?課題と対策・製品を解説

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露光・現像におけるプロセスの安定化とは?

半導体製造における露光・現像プロセスは、微細な回路パターンをウェハー上に転写する極めて重要な工程です。このプロセスの安定化とは、製造条件の変動や外部要因に左右されず、常に均一で高品質なパターン形成を実現し、歩留まりの向上と製品の信頼性確保を目指すことを指します。

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【半導体製造業界向け】振動に強く、緩まない座金【タイトニック】

【半導体製造業界向け】振動に強く、緩まない座金【タイトニック】
半導体製造のクリーン環境では、微細な振動も製品の品質に影響を与える可能性があります。装置の安定稼働や精密な作業環境の維持には、振動による緩みを防ぐことが重要です。当社製品「タイトニック」は、接合部分にかかる振動を締め付ける力に変えることで、継続的な振動にも緩むことなく、安定した環境を提供します。 【活用シーン】 ・クリーンルーム内の製造装置の接合部 ・振動が発生しやすい搬送ライン ・精密機器の設置箇所 【導入の効果】 ・装置の安定稼働をサポート ・精密な作業環境の維持に貢献 ・緩みによるメンテナンス頻度の低減

含有化学物質調査回答システム『GGS Tool-1』

含有化学物質調査回答システム『GGS Tool-1』
『GGS(Green Gaia System) Tool-1』は、含有化学物質の調査・ 回答業務を効率化するシステムです。 JAPIAシートに対応し、本システム1つにつき、1つの保管庫を管理します。 また、保管庫内で、部品・材料の編集やコピー&ペーストが可能です。 【機能】 ■Cabinet保管庫管理 ■読込・編集 部品表JAMAシート ■OPTION各種フォーマット変換 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

ディスク拡張ユニット(JBOD)『JB3000シリーズ』

ディスク拡張ユニット(JBOD)『JB3000シリーズ』
当製品は、2U12ベイから4U60ベイまでのマルチフォームファクタ対応 ディスク拡張ユニットです。 Infortrend DSシリーズ、GS/GSe/GSe Proシリーズ製品へ適応します。 ディスク拡張性能の高さは、さまざまなストレージ要求条件に対して データサイズと予算に応じ、適したストレージシステム構成を実現します。 また、2.5/3.5インチ・ハイブリッドベイ、12Gb/sSASインタフェース、 SSDディスクをサポートし、ストレージシステムのディスク拡張を、 高いパフォーマンス性能により実現します。 【特長】 ■2U12ベイから4U60ベイまでのマルチフォームファクタ対応 ■Infortrend DSシリーズ、GS/GSe/GSe Proシリーズ製品へ適応 ■データサイズと予算に応じ適したストレージシステム構成を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【NANA270導入事例】高額消耗品の入出庫管理

【NANA270導入事例】高額消耗品の入出庫管理
半導体業界にディスプレイタグNFCタイプ『NANA270』を導入した事例を ご紹介します。 いつ、誰が、何を、いくつ使用したか管理していないため、高額消耗品の 減りが早く困っていました。 そこで当製品を導入し入出庫を管理。社員証カードをかざすため、 持ち出しに対する意識が変わり消耗品の使用量が減少しました。 また、一定数以下になると自動発注を行う機能も搭載したため、 在庫切れリスク、発注の手間を削減できました。 【事例概要】 ■業種・業界:製造業(電子部品関係)・半導体業界 ■困り事:高額消耗品の減りが早い ■表示内容:品名、数量、入出庫者、前回入出庫日時 など ■メリット・導入効果  ・消耗品の持ち出しに対する意識が変わり消耗品の使用量が減少  ・自動発注機能により、在庫切れリスク、発注の手間を削減 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

現像機洗浄剤『クリンケム5』

現像機洗浄剤『クリンケム5』
『クリンケム5』は、原液を投入し機械を回すだけでスラッジを除去する 現像機洗浄剤です。 複数回使用可能なことにより、その都度廃液する必要がなく廃液処理代を 抑えることが可能。また、薬品のランニングコストも抑えられます。 除去方法は剥離ではなく、溶解、分解。従って、洗浄後のスラッジ脱落が 起こり難くく、洗浄時にノズルを取り外す必要もないため、そのまま配管と 同時に洗浄することができます。 【特長】 ■1液簡単作業 ■短時間処理 ■溶解洗浄により洗浄直後のスラッジ脱落がない ■以前の薬剤、方法と比較して洗浄力数段UP ■複数回使用できることによるコストメリット ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

大気環境用アライナ『EG-303 シリーズ』

大気環境用アライナ『EG-303 シリーズ』
■3本爪可動によるエッジグリップ方式で高精度なセンタリング ■オプションのバッファポートにより、アライメント中のロボット待ち時間を最小化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

SECS、HSMS対応通信ソフトウェア『SDR』

SECS、HSMS対応通信ソフトウェア『SDR』
『SDR』は、主に半導体・液晶製造工場で使用されているSECS・HSMS スタンダードに準拠した通信インターフェースを構築するための組み込み型 パッケージソフトウェアです。 半導体・液晶製造装置やステーションコントローラ、材料搬送システムなどに 当製品を組み込むことで、SECS・HSMS規格といった業界標準規格に対応した 通信インターフェースを追加のハードウェア無しで構築することができます。 また、半導体・液晶業界における20年以上の経験に基づき、みずほ情報総研の 技術サポートスタッフが使用方法習得トレーニングと技術サポートサービスを 通して通信インターフェースの実装を支援いたします。 【特長】 ■カナダ PEER Group社製 ■既製のパッケージソフトウェア ■ワールドワイドの導入実績 ■SECS-I・II・HSMS-SSに準拠 ■他OSへの容易な移植 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

装置組み込み型パッケージソフトウェア『ConX300』

装置組み込み型パッケージソフトウェア『ConX300』
『ConX300』は、装置にGEM300規格対応の通信インターフェースを 構築するための装置組み込み型パッケージソフトウェアです。 300mmウェハ対応装置に当製品を組み込むことで、SECS・HSMS・GEM・ GEM300規格といった業界標準規格に対応した装置インターフェースを 追加のハードウェア無しで構築することができます。 半導体業界における20年以上の経験に基づき、みずほ情報総研の技術サポート スタッフがお客様トレーニングと技術サポートを通して装置インターフェースの 実装を支援いたします。 【特長】 ■カナダ PEER Group社製 ■すぐに使えるパッケージソフトウェア ■テキストでのGEM300設定管理により専用画面が不要 ■装置の挙動に合わせ関数をコールすることにより各規格に準拠した  状態モデル、オブジェクト管理、シナリオを実装 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【NANA270導入事例】クリーンルームでの見える化と誤投入防止

【NANA270導入事例】クリーンルームでの見える化と誤投入防止
半導体業界にディスプレイタグNFCタイプ『NANA270』を導入した事例を ご紹介します。 クリーンルームのため紙が使えず、また誤った工程に投入すると、 1BOX分の部材(シリコンウエハ)すべてが破棄となるため困っていました。 当製品の導入により、紙が使用できない現場での可視化を実現。 誤投入時に警告メッセージ表示と警告音で注意喚起するため、 誤投入防止に貢献しています。 【事例概要】 ■業種・業界:製造業(電子部品)・半導体業界 ■困り事  ・クリーンルームのため、紙が使えない  ・誤った工程に投入すると、1BOX分の部材(シリコンウエハ)すべてが破棄 ■表示内容:前工程、現工程、次工程、優先度、ロット、数量、担当者 など ■メリット・導入効果  ・紙が使用できない現場での可視化  ・誤投入の防止(シリコンウエハが高額なため、費用対効果が高い) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

HPZ4/Z6Workstation用ラックマウントキット

HPZ4/Z6Workstation用ラックマウントキット
HP Z4/Z6 Workstation専用のラックマウントトレイキットです。

【CLA事例】薬液タンク(希硫酸)のレベル検知【半導体装置関連】

【CLA事例】薬液タンク(希硫酸)のレベル検知【半導体装置関連】
電極がPETフィルムのため、色々なタンクに取り付けが可能な非接触で 検出できる液面レベルセンサー「CLA」を使用した薬液タンクのレベル検知の 事例をご紹介します。(検出物:希硫酸) 半導体装置関連の会社様は、液面管理位置を変更したい場合、センサ取付し 直しの手間が発生。点での液面管理の為、どの位置に液面があるのか わからないという課題を抱えていました。 そこで「CLA」を採用。 結果、任意で液面検知位置を4接点、設定出来る事により、センサ位置の変更が 不要。また、アナログ出力で、液面位置を検知し出力できるため、リニアに 液面管理が出来るようになりました。 【現状の課題および要望】 ■現在、静電容量式センサを4台設置し、液面の管理をしている ■液体や稼働状況によって、液面の管理が変更になる ■液面がどの位置にあるかリニアに監視したい ■液面管理位置を変更したい場合、センサ取付し直しの手間が発生 ■点での液面管理の為、どの位置に液面があるのかわからない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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露光・現像におけるプロセスの安定化

露光・現像におけるプロセスの安定化とは?

半導体製造における露光・現像プロセスは、微細な回路パターンをウェハー上に転写する極めて重要な工程です。このプロセスの安定化とは、製造条件の変動や外部要因に左右されず、常に均一で高品質なパターン形成を実現し、歩留まりの向上と製品の信頼性確保を目指すことを指します。

​課題

微細パターン形成のばらつき

露光時の光量や焦点のわずかな変動、現像液の濃度や温度変化が、回路パターンの寸法や形状のばらつきを引き起こし、性能低下や不良の原因となります。

異物混入による欠陥発生

クリーンルーム環境でも微細な異物が混入すると、露光マスクやウェハー上に付着し、パターン欠損やショートといった重大な欠陥を発生させます。

プロセス条件の最適化困難

露光・現像プロセスは多くのパラメータが複雑に絡み合っており、最適な条件を見つけ出し、それを維持することが技術的に困難です。

装置の経年劣化と性能低下

露光装置や現像装置は精密機械であり、長期間の使用により部品が劣化し、性能が徐々に低下することでプロセスの安定性が損なわれます。

​対策

高精度なプロセス制御システム

リアルタイムで露光光量、焦点、現像液の温度・濃度などを精密にモニタリングし、自動でフィードバック制御を行うことで、変動要因を最小限に抑えます。

高度な異物管理と清浄化技術

クリーンルームの環境管理を徹底し、露光マスクや装置の定期的な洗浄、ウェハー搬送時の汚染防止策を講じることで、異物混入リスクを低減します。

データ駆動型のプロセス最適化

製造データを収集・分析し、統計的手法や機械学習を用いて最適なプロセス条件を導き出し、継続的な改善サイクルを構築します。

定期的な装置メンテナンスと校正

装置メーカーの推奨に基づいた定期的な点検、部品交換、性能校正を実施し、常に最適な状態で装置を稼働させます。

​対策に役立つ製品例

プロセス監視・制御ソフトウェア

製造装置から得られる膨大なデータをリアルタイムで収集・分析し、異常を検知して自動でプロセス条件を調整することで、安定したパターン形成を支援します。

高感度・高解像度フォトレジスト

微細なパターンを忠実に再現できる感度と解像度を持つ材料を用いることで、露光・現像工程での再現性を高め、ばらつきを抑制します。

自動ウェハー搬送・検査システム

ウェハーの搬送中に異物が付着するリスクを低減し、搬送後の自動検査で欠陥を早期に発見することで、プロセスの安定化と歩留まり向上に貢献します。

環境モニタリング・制御装置

クリーンルーム内の温度、湿度、粒子数などを常時監視・制御し、最適な製造環境を維持することで、外部要因によるプロセスの不安定化を防ぎます。

⭐今週のピックアップ

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