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半導体テクノロジー

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プロセスの安定化とは?課題と対策・製品を解説

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露光・現像におけるプロセスの安定化とは?

半導体製造における露光・現像プロセスは、微細な回路パターンをウェハー上に転写する極めて重要な工程です。このプロセスの安定化とは、製造条件の変動や外部要因に左右されず、常に均一で高品質なパターン形成を実現し、歩留まりの向上と製品の信頼性確保を目指すことを指します。

各社の製品

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含有化学物質調査回答システム『GGS Tool-1』
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『GGS(Green Gaia System) Tool-1』は、含有化学物質の調査・
回答業務を効率化するシステムです。

JAPIAシートに対応し、本システム1つにつき、1つの保管庫を管理します。
また、保管庫内で、部品・材料の編集やコピー&ペーストが可能です。

【機能】
■Cabinet保管庫管理
■読込・編集 部品表JAMAシート
■OPTION各種フォーマット変換

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

ディスク拡張ユニット(JBOD)『JB3000シリーズ』
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当製品は、2U12ベイから4U60ベイまでのマルチフォームファクタ対応
ディスク拡張ユニットです。

Infortrend DSシリーズ、GS/GSe/GSe Proシリーズ製品へ適応します。

ディスク拡張性能の高さは、さまざまなストレージ要求条件に対して
データサイズと予算に応じ、適したストレージシステム構成を実現します。

また、2.5/3.5インチ・ハイブリッドベイ、12Gb/sSASインタフェース、
SSDディスクをサポートし、ストレージシステムのディスク拡張を、
高いパフォーマンス性能により実現します。

【特長】
■2U12ベイから4U60ベイまでのマルチフォームファクタ対応
■Infortrend DSシリーズ、GS/GSe/GSe Proシリーズ製品へ適応
■データサイズと予算に応じ適したストレージシステム構成を実現

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

大気環境用アライナ『EG-303 シリーズ』
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■3本爪可動によるエッジグリップ方式で高精度なセンタリング

■オプションのバッファポートにより、アライメント中のロボット待ち時間を最小化

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【CLA事例】薬液タンク(希硫酸)のレベル検知【半導体装置関連】
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電極がPETフィルムのため、色々なタンクに取り付けが可能な非接触で
検出できる液面レベルセンサー「CLA」を使用した薬液タンクのレベル検知の
事例をご紹介します。(検出物:希硫酸)

半導体装置関連の会社様は、液面管理位置を変更したい場合、センサ取付し
直しの手間が発生。点での液面管理の為、どの位置に液面があるのか
わからないという課題を抱えていました。

そこで「CLA」を採用。

結果、任意で液面検知位置を4接点、設定出来る事により、センサ位置の変更が
不要。また、アナログ出力で、液面位置を検知し出力できるため、リニアに
液面管理が出来るようになりました。

【現状の課題および要望】
■現在、静電容量式センサを4台設置し、液面の管理をしている
■液体や稼働状況によって、液面の管理が変更になる
■液面がどの位置にあるかリニアに監視したい
■液面管理位置を変更したい場合、センサ取付し直しの手間が発生
■点での液面管理の為、どの位置に液面があるのかわからない

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【NANA270導入事例】クリーンルームでの見える化と誤投入防止
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半導体業界にディスプレイタグNFCタイプ『NANA270』を導入した事例を
ご紹介します。

クリーンルームのため紙が使えず、また誤った工程に投入すると、
1BOX分の部材(シリコンウエハ)すべてが破棄となるため困っていました。

当製品の導入により、紙が使用できない現場での可視化を実現。
誤投入時に警告メッセージ表示と警告音で注意喚起するため、
誤投入防止に貢献しています。

【事例概要】
■業種・業界:製造業(電子部品)・半導体業界
■困り事
 ・クリーンルームのため、紙が使えない
 ・誤った工程に投入すると、1BOX分の部材(シリコンウエハ)すべてが破棄
■表示内容:前工程、現工程、次工程、優先度、ロット、数量、担当者 など
■メリット・導入効果
 ・紙が使用できない現場での可視化
 ・誤投入の防止(シリコンウエハが高額なため、費用対効果が高い)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【NANA270導入事例】高額消耗品の入出庫管理
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半導体業界にディスプレイタグNFCタイプ『NANA270』を導入した事例を
ご紹介します。

いつ、誰が、何を、いくつ使用したか管理していないため、高額消耗品の
減りが早く困っていました。

そこで当製品を導入し入出庫を管理。社員証カードをかざすため、
持ち出しに対する意識が変わり消耗品の使用量が減少しました。

また、一定数以下になると自動発注を行う機能も搭載したため、
在庫切れリスク、発注の手間を削減できました。

【事例概要】
■業種・業界:製造業(電子部品関係)・半導体業界
■困り事:高額消耗品の減りが早い
■表示内容:品名、数量、入出庫者、前回入出庫日時 など
■メリット・導入効果
 ・消耗品の持ち出しに対する意識が変わり消耗品の使用量が減少
 ・自動発注機能により、在庫切れリスク、発注の手間を削減

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

HPZ4/Z6Workstation用ラックマウントキット
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HP Z4/Z6 Workstation専用のラックマウントトレイキットです。

SECS、HSMS対応通信ソフトウェア『SDR』
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『SDR』は、主に半導体・液晶製造工場で使用されているSECS・HSMS
スタンダードに準拠した通信インターフェースを構築するための組み込み型
パッケージソフトウェアです。

半導体・液晶製造装置やステーションコントローラ、材料搬送システムなどに
当製品を組み込むことで、SECS・HSMS規格といった業界標準規格に対応した
通信インターフェースを追加のハードウェア無しで構築することができます。

また、半導体・液晶業界における20年以上の経験に基づき、みずほ情報総研の
技術サポートスタッフが使用方法習得トレーニングと技術サポートサービスを
通して通信インターフェースの実装を支援いたします。

【特長】
■カナダ PEER Group社製
■既製のパッケージソフトウェア
■ワールドワイドの導入実績
■SECS-I・II・HSMS-SSに準拠
■他OSへの容易な移植

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

装置組み込み型パッケージソフトウェア『ConX300』
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『ConX300』は、装置にGEM300規格対応の通信インターフェースを
構築するための装置組み込み型パッケージソフトウェアです。

300mmウェハ対応装置に当製品を組み込むことで、SECS・HSMS・GEM・
GEM300規格といった業界標準規格に対応した装置インターフェースを
追加のハードウェア無しで構築することができます。

半導体業界における20年以上の経験に基づき、みずほ情報総研の技術サポート
スタッフがお客様トレーニングと技術サポートを通して装置インターフェースの
実装を支援いたします。

【特長】
■カナダ PEER Group社製
■すぐに使えるパッケージソフトウェア
■テキストでのGEM300設定管理により専用画面が不要
■装置の挙動に合わせ関数をコールすることにより各規格に準拠した
 状態モデル、オブジェクト管理、シナリオを実装

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

現像機洗浄剤『クリンケム5』
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『クリンケム5』は、原液を投入し機械を回すだけでスラッジを除去する
現像機洗浄剤です。

複数回使用可能なことにより、その都度廃液する必要がなく廃液処理代を
抑えることが可能。また、薬品のランニングコストも抑えられます。

除去方法は剥離ではなく、溶解、分解。従って、洗浄後のスラッジ脱落が
起こり難くく、洗浄時にノズルを取り外す必要もないため、そのまま配管と
同時に洗浄することができます。

【特長】
■1液簡単作業
■短時間処理
■溶解洗浄により洗浄直後のスラッジ脱落がない
■以前の薬剤、方法と比較して洗浄力数段UP
■複数回使用できることによるコストメリット

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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露光・現像におけるプロセスの安定化

露光・現像におけるプロセスの安定化とは?

半導体製造における露光・現像プロセスは、微細な回路パターンをウェハー上に転写する極めて重要な工程です。このプロセスの安定化とは、製造条件の変動や外部要因に左右されず、常に均一で高品質なパターン形成を実現し、歩留まりの向上と製品の信頼性確保を目指すことを指します。

​課題

微細パターン形成のばらつき

露光時の光量や焦点のわずかな変動、現像液の濃度や温度変化が、回路パターンの寸法や形状のばらつきを引き起こし、性能低下や不良の原因となります。

異物混入による欠陥発生

クリーンルーム環境でも微細な異物が混入すると、露光マスクやウェハー上に付着し、パターン欠損やショートといった重大な欠陥を発生させます。

プロセス条件の最適化困難

露光・現像プロセスは多くのパラメータが複雑に絡み合っており、最適な条件を見つけ出し、それを維持することが技術的に困難です。

装置の経年劣化と性能低下

露光装置や現像装置は精密機械であり、長期間の使用により部品が劣化し、性能が徐々に低下することでプロセスの安定性が損なわれます。

​対策

高精度なプロセス制御システム

リアルタイムで露光光量、焦点、現像液の温度・濃度などを精密にモニタリングし、自動でフィードバック制御を行うことで、変動要因を最小限に抑えます。

高度な異物管理と清浄化技術

クリーンルームの環境管理を徹底し、露光マスクや装置の定期的な洗浄、ウェハー搬送時の汚染防止策を講じることで、異物混入リスクを低減します。

データ駆動型のプロセス最適化

製造データを収集・分析し、統計的手法や機械学習を用いて最適なプロセス条件を導き出し、継続的な改善サイクルを構築します。

定期的な装置メンテナンスと校正

装置メーカーの推奨に基づいた定期的な点検、部品交換、性能校正を実施し、常に最適な状態で装置を稼働させます。

​対策に役立つ製品例

プロセス監視・制御ソフトウェア

製造装置から得られる膨大なデータをリアルタイムで収集・分析し、異常を検知して自動でプロセス条件を調整することで、安定したパターン形成を支援します。

高感度・高解像度フォトレジスト

微細なパターンを忠実に再現できる感度と解像度を持つ材料を用いることで、露光・現像工程での再現性を高め、ばらつきを抑制します。

自動ウェハー搬送・検査システム

ウェハーの搬送中に異物が付着するリスクを低減し、搬送後の自動検査で欠陥を早期に発見することで、プロセスの安定化と歩留まり向上に貢献します。

環境モニタリング・制御装置

クリーンルーム内の温度、湿度、粒子数などを常時監視・制御し、最適な製造環境を維持することで、外部要因によるプロセスの不安定化を防ぎます。

⭐今週のピックアップ

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