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シミュレーションと実測の誤差とは？課題と対策・製品を解説
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光学設計・開発におけるシミュレーションと実測の誤差とは？
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「ゴニオフォトメータによる散乱測定」
フィルムなどの物質の光学特性（透過散乱測定、反射散乱測定）を、目的に応じた種々の光を当てながら受光器を自動で回転させることによって測定します。
●測定応用例
・フィルム、ガラス基板等の透過、反射特性の角度変化の測定
・BRDF、BTDFの測定
「紫外可視近赤外分析光度計による分光透過率・反射率測定」
紫外可視から近赤外域までの測定範囲をカバーし、物性の分光特性を解析します。
●測定応用例
ガラスやプラスチック材料を用いた光学部品の透過率、反射率、及び製品の光学特性の測定
材料の光学測定受託サービス
FREDmpcは、最も価値のある資源である「時間」を開発者にも たらすために開発されました。
光学シミュレーションツールは、光学システムや商品の開発における事前の分析結果の提 供と、
製造や試験において評価上用いる法医学的分析において重要な役割を果たしています。
その為、使用するソフトウェアがより短い時間でより正確に結果を導き出せるかどうかは、 開発者にとって非常に重要です。
FREDmpc が CPU を用いた計算よりも 100 倍以上速く、より正確な結果をもたらすこと で、
開発者は設計により多くの時間を掛けることができるようになります。
光学解析ソフトウェア FREDmpc (フレッド)
『裏面反射防止用黒テープ』は、高い隠蔽力で容易に裏面反射を防止します。
反射率が低く、ニュートラルな色相で、リワークが可能なほか、糊残りがなく
貼りやすくなっております。
反射防止フィルム評価、干渉ムラ等光学的外観の検査用に適しております。
【特長】
■高い隠蔽力で容易に裏面反射を防止
■貼りやすい
■リワーク可能、糊残りなし
■反射率が低く、ニュートラルな色相
■反射防止フィルム評価、干渉ムラ等光学的外観の検査用に好適
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【開発品】裏面反射防止用黒テープ
Q：「素材の設定」で自動設定の素材サイズは
実際の素材のサイズを入力するのですか？
A：実際の素材のサイズを入力します。
例えば、素材の高さが450mmであれば、「450mm」と入力します。
Q：「素材の設定」で自動設定のメッシュサイズは、
実際の素材のサイズを入力するのですか？
A：実際の素材のサイズを入力します。
例えば、外壁の高さが2.4mであれば、「2.4m」と入力します。
Q：文字を入力しても画像に表示されません。
A：文字ツールで文字を入力して「OK」をクリックした後、
「貼り付け」ボタンをクリックしてください。
「ハードウェアロック異常」と表示されます。
Q：ドライバが正常にインストールされていない場合があります。
「SSD5411-32bit.EXE」を実行し、
「Sentinel System Driver Installer7.4.2(Win32bit版/Win64bit版)」をクリックして、
ドライバーをダウンロードし、再度インストールしてください。
カラーシミュレーションソフト『リアリム』に関するよくあるご質問
【概要】
お客様の仕様に応じて、さまざまな形状に加工を承っています。
特にトラスなどの構造材として多く用いられる丸型・角型パイプについては、バリエーション豊かに成形用型を用意し、
ご注文に対し迅速に対応いたしております。また三角、六角などの多角形や楕円形への成形も可能です。
●光学機器筐体
CFRPの特徴の一つである低熱膨張特性を応用し、温度での寸法変化の少ない筐体、構造製品を製作します。
★詳細は、資料請求もしくは資料をダウンロード下さい★
【CFRPの成形可能な形状】光学機器筐体
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光学設計・開発におけるシミュレーションと実測の誤差
光学設計・開発におけるシミュレーションと実測の誤差とは？
光学設計・開発におけるシミュレーションと実測の誤差は、理論上の設計値と実際に製造・測定された光学システムの性能との間に生じる差異を指します。この誤差は、設計の妥当性検証、製品の品質保証、そして開発サイクルの効率化において重要な課題となります。
課題
モデル化の限界と現実の乖離
シミュレーションは現実世界の複雑な現象を単純化してモデル化するため、材料の不均一性や製造公差などの影響を完全に捉えきれない場合があります。
測定環境と条件の差異
実測は、シミュレーションとは異なる温度、湿度、振動などの環境下で行われることが多く、これらの要因が測定結果に影響を与えます。
製造公差の影響の過小評価
設計段階で考慮される製造公差が実態よりも甘く設定されている場合、実際の製品ではシミュレーション結果から大きく外れることがあります。
解析手法の選択と精度不足
使用するシミュレーションソフトウェアや解析手法によっては、特定の現象に対する精度が十分でなく、誤差の原因となることがあります。
対策
高精度な物理モデルの導入
より現実に近い物理現象を考慮した高度なシミュレーションモデルを採用し、材料特性や製造プロセスを詳細に反映させます。
実測環境の厳密な管理
実測時の環境条件（温度、湿度、振動など）をシミュレーション条件に近づける、あるいはその影響を正確に把握・補正する手法を導入します。
モンテカルロ法による公差解析
多数のランダムな公差変動をシミュレーションに組み込むことで、製造公差が光学性能に与える影響を統計的に評価し、ばらつきを予測します。
実験計画法(DOE)の活用
シミュレーションと実測を効率的に組み合わせ、誤差要因を特定し、設計パラメータの最適化に繋げるための実験計画を立案・実行します。
対策に役立つ製品例
高度物理モデル搭載光学シミュレータ
材料の非線形性や散乱効果など、より複雑な物理現象を詳細にモデル化し、現実世界に近いシミュレーション結果を提供することで、誤差の低減に貢献します。
環境制御型光学測定装置
温度や湿度などを精密に制御できる測定環境を提供し、シミュレーション条件との整合性を高めることで、実測値の信頼性を向上させます。
統計的公差解析ソフトウェア
モンテカルロ法などを活用し、製造公差のばらつきが光学性能に与える影響を確率的に分析することで、設計段階でのリスク評価を可能にします。
統合型設計・解析システム
設計、シミュレーション、実験計画、データ解析までを一貫して行える環境を提供し、シミュレーションと実測の連携を強化して誤差の要因特定と改善を迅速化します。
