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フォトリソグラフィの高度化とは?課題と対策・製品を解説

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは?
光半導体・電子デバイスのフォトリソグラフィの高度化とは、微細な回路パターンを半導体基板上に高精度かつ効率的に転写する技術の進化を指します。これは、より高性能で小型な電子デバイスの実現に不可欠であり、半導体産業全体の発展を牽引する重要な要素です。
各社の製品
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ウェハ外観検査装置(自動目視検査装置)
レーザーゴーグル
「LaserShields」は、CE規格に準拠した、安全性が高いレーザーゴーグルです。
当製品は、独自のデザインと高いVLT%値で、明るく広い視界です。
30種以上のフィルターで、半導体(赤外)帯域や、He-Ne/Ar 帯域を
はじめとする、各波長に対応した幅広いラインナップを取り揃えております。
大量発注により、低価格も実現しました。
【特長】
■幅広いラインナップ
→30種以上のフィルターで各波長に対応
■明るく広い視界
→独自のデザインと高いVLT%値
■高い安全性
→CE規格に準拠(一部モデルを除く)
■低い価格
→大量発注により、低価格を実現!!
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
河合光学株式会社 エッチング加工のご案内
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