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フォトリソグラフィの高度化とは?課題と対策・製品を解説

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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは?
光半導体・電子デバイスのフォトリソグラフィの高度化とは、微細な回路パターンを半導体基板上に高精度かつ効率的に転写する技術の進化を指します。これは、より高性能で小型な電子デバイスの実現に不可欠であり、半導体産業全体の発展を牽引する重要な要素です。
各社の製品
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レーザーシステム『HAJIME CL1/CL1 PLUS』
『HAJIME CL1/CL1 PLUS』は、すべての設計を見直し、日本工業規格
JIS C 6802:2014のレーザー製品の安全基準である「クラス1」の規定に
準拠したレーザーシステムです。
本体ボディーはレーザービームの拡散反射による露光が起こらないように
設計。加工原点の位置確認用に赤色レーザーポインターを装備しています。
また、高い集じん脱臭能力で室内排気でもレーザー加工機を運用することが
できる小型集じん機「MIRUKU」もご 用意しております。
【特長】
■クラス1に準拠した安全な保護筐体
■ハイパワーレーザーと光学部品を搭載
■スムーズ操作を実現する使いやすさ
■500mm×300mmの加工エリア
■加工可能厚は130mmまで
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
【2023年4月19日~21日】「レーザーEXPO」開催のご案内
当社は、パシフィコ横浜にて「レーザーEXPO」を開催いたします。
情報通信、材料加工、計測など広範にわたる応用においてレーザー技術が
採用され、市場も拡大傾向にあります。本展は研究・開発、生産に至る、
国内外のレーザー製品が一堂に会するレーザー技術総合展です。
製造加工業など光分野に関係のあるお客様は、この機会に是非ご参加下さい。
皆様のご来場を、心よりお待ちしております 。
【概要】
■会期:2023年4月19日(水)~21日(金) 10:00~17:00
■会場:パシフィコ横浜(〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1)
■入場料:無料(但し、完全事前登録制)
■7つの展示会によって構成される「OPIE'23」内で開催
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
レーザー用めがね
レーザー反射 光防止 ホーユー遮光パーテーション
UVランプ
河合光学株式会社 エッチング加工のご案内
画像センサによる外観検査【半導体検査事例】事例資料プレゼント!
ウェハ外観検査装置(自動目視検査装置)
レーザーゴーグル
「LaserShields」は、CE規格に準拠した、安全性が高いレーザーゴーグルです。
当製品は、独自のデザインと高いVLT%値で、明るく広い視界です。
30種以上のフィルターで、半導体(赤外)帯域や、He-Ne/Ar 帯域を
はじめとする、各波長に対応した幅広いラインナップを取り揃えております。
大量発注により、低価格も実現しました。
【特長】
■幅広いラインナップ
→30種以上のフィルターで各波長に対応
■明るく広い視界
→独自のデザインと高いVLT%値
■高い安全性
→CE規格に準拠(一部モデルを除く)
■低い価格
→大量発注により、低価格を実現!!
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウン ロードしてください。
レーザ保護ゴグル『M56 YG-EP』










