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フォトリソグラフィの高度化とは？課題と対策・製品を解説
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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？
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コートテックではハンディＵＶ照射器を製造しております関係からあらゆるＵＶランプの製造が可能です。各種ＵＶランプの販売いたしますので。ご使用になっているＵＶランプの型番をお知らせください。お見積りいたします。
ＵＶランプ
『HAJIME CL1/CL1 PLUS』は、すべての設計を見直し、日本工業規格
JIS C 6802：2014のレーザー製品の安全基準である「クラス1」の規定に
準拠したレーザーシステムです。
本体ボディーはレーザービームの拡散反射による露光が起こらないように
設計。加工原点の位置確認用に赤色レーザーポインターを装備しています。
また、高い集じん脱臭能力で室内排気でもレーザー加工機を運用することが
できる小型集じん機「MIRUKU」もご用意しております。
【特長】
■クラス1に準拠した安全な保護筐体
■ハイパワーレーザーと光学部品を搭載
■スムーズ操作を実現する使いやすさ
■500mm×300mmの加工エリア
■加工可能厚は130mmまで
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
レーザーシステム『HAJIME CL1/CL1 PLUS』
当社で取り扱っている「レーザー用めがね」をご紹介いたします。
フレーム・レンズがポリカーボネイトで重量が48g、サイズがW158×H58mm
の「レーザー用めがね(RS-02)」は、レーザーの種類と波長に合わせて、
レンズカラー10種類をご用意。
また、アレキサンドライトダイオードや炭酸ガス、ヤグ、ノベオン用など
のレーザー用めがねで本体がプラスチック製の「RS-2400RN」も
ラインアップしています。
【 レンズカラー(一部)】
＜レーザー用めがね(RS-02)＞
■黄色
■オレンジ
■レッド
■青緑
■茶
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
レーザー用めがね
■以下のご要望・お困りごとにお応えする装置です！
・ウェハ（基板）の欠陥目視検査を自動化したい。
・検査員ごとの合否判定ばらつき低減、防止したい。
・検査データの保存、品質のトレースを行いたい。
・自動で欠陥弁別したい。
■装置の特長
・目視可能な欠陥を自動で検出、抽出、弁別できます。
・欠陥種類に合わせて最適化した光学系の提案が可能です。
・手動機/自動搬送(カセットtoカセット）とも提案可能です。
・AI機能も実装しており、学習を進めることで
欠陥弁別精度向上が可能です。
ウェハ外観検査装置（自動目視検査装置）
『MD-W1000』は 、電源部を弁当箱サイズにダウンサイジングした
UV照射装置です。
安定器を使用せず、電子部品化により電源部本体は当社「CT-W1200」から
さらに軽量化が進み1.5kgを実現。
フロアーコーティングの完全硬化に必要な1kWのメタルハライドランプか
水銀灯を選択いただけます。
【特長】
■電子安定器タイプ
■照射部も軽量かつハイパワー仕様
■電源部重量1.6Kg
■60Hzでも50Hz地域でも使用可能
■100Vでも200Vでも使用できる
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
UV照射装置『MD-W1000』
当社は、ケイエコライト、ナトリウム灯用直流点灯装置、ハロゲンランプなど
さまざまな用途の特殊ランプをグローバルに取り扱っております。
「ケイエコライト」はデジタルカメラや液晶テレビなどの画像処理用照明に
使用した蛍光灯直流点灯回路技術を一般の蛍光灯スタンドに応用しています。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【ラインアップ】
■UVランプ
■ケイエコライト
■ナトリウムランプ
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
ランプ
当社は、パシフィコ横浜にて「レーザーEXPO」を開催いたします。
情報通信、材料加工、計測など広範にわたる応用においてレーザー技術が
採用され、市場も拡大傾向にあります。本展は研究・開発、生産に至る、
国内外のレーザー製品が一堂に会するレーザー技術総合展です。
製造加工業など光分野に関係のあるお客様は、この機会に是非ご参加下さい。
皆様のご来場を、心よりお待ちしております。
【概要】
■会期：2023年4月19日(水)～21日(金) 10:00～17:00
■会場：パシフィコ横浜(〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1)
■入場料：無料(但し、完全事前登録制)
■7つの展示会によって構成される「OPIE'23」内で開催
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【2023年4月19日～21日】「レーザーEXPO」開催のご案内
高性能のセンサー、カメラ、フレームグラバ、画像処理装置、
画像処理ソフトウェアを用いた、半導体検査事例をご紹介いたします。
テレダインダルサ社の「Falcon2 CMOSカメラ」は、数百メガピクセルの
解像度と高いフレームレートを持っており、エリアスキャン型の
検査システムに好適。
「TDIラインスキャンカメラ」は高い感度を持っており、優れた
ウェハー検査システムにおいて重要な役割をはたしています。
【事例概要】
■半導体ウェハー検査
■半 導体マスク検査
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
画像センサによる外観検査【半導体検査事例】事例資料プレゼント！
河合光学株式会社では、主にガラス基板上に蒸着した、金属膜や誘電体
多層膜のエッチング加工を行っております。
基板寸法は最大200mm×200mm、最小線幅は10μとなっております。
また、ご希望のエッチ ング箇所によっては、上記以外のサイズにおいても
エッチング可能となる場合がありますので、お気軽にお問合せ下さい。
【特長】
■金属膜・誘電体多層膜に対応
■ご希望の材質・寸法についても対応可能
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
河合光学株式会社 エッチング加工のご案内
基本は弊社が販売しておりますメタルフォト用の露光ランプです。
今まではキセノンランプ、メタルハライド ランプ、水銀灯など
高出力のランプを使っておりましたが、最近はやりのLED光を採用し、
自社設計開発しました紫外線LED露光ランプです。
【特長】
■高さ調整のアーム付き、デジタルタイマー付き
■アームからLED部分が取り外し可能で220gと軽量
■カタログにありますバキュームテーブルも自社設計製品
■メタルフォトに限らず波長と出力があえば他のものにも利用可能
■自社設計のため、光源を変えたり、サイズ変更などカスタマイズ可能
紫外線LED露光機
『UVフラッシャー ストレート型TX2100』は、電源投入後、直ちに稼動できるので待ち時間が要らない高出力紫外線照射装置。従来の水銀/メタルハライドランプのように常時点灯しておかなくて済むため、大幅な消費電力の低減に貢献します。また、キセノンガスを使用しているので、環境負荷が少なく、発光電圧、発光パルス数などを目的に合わせて容易に設定変更が可能。専用ソフトが標準で付属されているので、導入後直ちに使用できます。
【特長】
■電源投入後、待ち時間が不要
■電気料の大幅節約
■環境負荷が少ない
■導入後直ちに使用が可能
※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
高出力紫外線照射装置 UVフラッシャー ストレート型TX2100
「LaserShields」は、CE規格に準拠した、安全性が高いレーザーゴーグルです。
当製品は、独自のデザインと高いVLT％値で、明るく広い視界です。
30種以上のフィルターで、半導体（赤外）帯域や、He-Ne/Ar 帯域を
はじめとする、各波長に対応した幅広いラインナップを取り揃えております。
大量発注により、低価格も実現しました。
【特長】
■幅広いラインナップ
→30種以上のフィルターで各波長に対応
■明るく広い視界
→独自のデザインと高いVLT％値
■高い安全性
→CE規格に準拠（一部モデルを除く）
■低い価格
→大量発注により、低価格を実現！！
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
レーザーゴーグル
当社が取り扱う、レーザ保護ゴグル『M56 YG-EP』をご紹介します。
当製品は広域視野の密閉型ゴグルで、レーザ光とスパッタをシャットアウト。
また、防護性が高い大型レンズのバンドタイプで、
ファイバーレーザ、NdYAG、半導体などに適応しています。
【特長】
■広域視野の密閉型ゴグル
■レーザ光とスパッタをシャットアウト
■めがね・マスク併用可
■防護性が高い大型レンズのバンドタイプ
■適応レーザ：ファイバーレーザ、NdYAG、半導体
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
レーザ保護ゴグル『M56 YG-EP』
『UV用レンズ拡散板 LSD試作キット』は、高い透過率で拡散角度が10種以上
のレンズ拡散板「LSD」を、標準品より小さなサイズにしたキットです。
UV用は、紫外線領域(340nm～)で使えるタイプ。円形拡散と楕円拡散を
ご用意しております。
また、選んだ拡散板は標準品として購入できます。
【LSD 特長】
■透過率が85～92%と非常に高い
■❝拡散を円形8種以上、楕円4種以上選べる
■放射強度はガウス分布で均一度が高い
■LED、ハロゲン、レーザー光源に対応
■白色光でも色分離なし
※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
UV用レンズ拡散板:LSD 試作キット
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光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化
光半導体・電子デバイスにおけるフォトリソグラフィの高度化とは？
光半導体・電子デバイスのフォトリソグラフィの高度化とは、微細な回路パターンを半導体基板上に高精度かつ効率的に転写する技術の進化を指します。これは、より高性能で小型な電子デバイスの実現に不可欠であり、半導体産業全体の発展を牽引する重要な要素です。
課題
微細化限界への挑戦
回路パターンの微細化が進むにつれて、光の回折限界や材料の特性による解像度の限界に直面しています。これにより、より小さなトランジスタや配線を形成することが困難になっています。
歩留まりの低下とコスト増
微細なパターン形成における欠陥の発生率が増加し、製品の歩留まりが低下しています。また、高度な露光装置や材料の開発・導入には高額なコストがかかります。
露光プロセスの複雑化
より微細なパターンを形成するためには、多層露光や特殊なマスク、高度なプロセス制御が必要となり、製造プロセス全体の複雑性が増大しています。
新材料・新技術への対応
次世代デバイスの実現には、従来の材料や技術では対応できない新しい光リソグラフィ技術や材料の開発が求められています。これへの迅速な対応が課題となっています。
対策
次世代露光技術の導入
EUV（極端紫外線）リソグラフィやマルチパターニング技術など、従来の光リソグラフィの限界を超える露光技術を導入し、より微細なパターン形成を実現します。
プロセス最適化と自動化
AIや機械学習を活用して露光プロセスを最適化し、欠陥検出・修正の自動化を進めることで、歩留まり向上とコスト削減を図ります。
高精度マスク・材料開発
パターン転写精度を向上させるための高精度なフォトマスクや、微細パターン形成に適した新規フォトレジスト材料などの開発・採用を推進します。
シミュレーション・設計支援ツールの活用
高度なシミュレーション技術や設計支援ツールを活用し、リソグラフィプロセスの設計段階での課題を予測・解決し、開発期間の短縮と効率化を図ります。
対策に役立つ製品例
高解像度露光装置
微細な回路パターンを高い精度で転写できる、次世代の露光技術に対応した装置です。これにより、より小型で高性能な半導体デバイスの製造が可能になります。
先進フォトレジスト材料
微細なパターン形成に適した感度と解像度を持つ、新しい化学組成のフォトレジスト材料です。これにより、よりシャープで忠実なパターン転写が実現します。
パターン欠陥検査システム
微細な回路パターン上の微小な欠陥を早期に検出し、不良品の流出を防ぐ高度な検査システムです。歩留まり向上に貢献します。
プロセス最適化ソフトウェア
露光条件や材料特性などを詳細にシミュレーションし、最適な製造プロセスを導き出すソフトウェアです。開発効率の向上とコスト削減を支援します。
