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めっき厚みの均一化とは?課題と対策・製品を解説

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無電解めっきにおけるめっき厚みの均一化とは?

無電解めっきは、触媒反応を利用して金属イオンを還元し、基板表面に金属膜を析出させる技術です。めっき厚みの均一化とは、プリント基板の表面全体にわたって、めっき層の厚みを一定に保つことを指します。これは、電気特性の安定化、信頼性の向上、および後工程での加工性を確保するために極めて重要です。

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耐食性に優れた無電解Ni-P/置換Auめっき 代替めっきプロセス

耐食性に優れた無電解Ni-P/置換Auめっき 代替めっきプロセス
無電解Ni-P/置換Auめっき 代替めっきプロセスは、無電解Ni-Pめっきと置換Auめっきとの間に緻密で耐食性に優れたPd皮膜を形成させているので、耐食性に優れています。中間層としてPd皮膜を形成していますが、めっき直後の半田濡れ性は無電解Ni-P/置換Auめっきとほぼ同等です。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問合わせ下さい。

半田濡れ性に優れた無電解Ni-P置換Auめっき代替めっきプロセス

半田濡れ性に優れた無電解Ni-P置換Auめっき代替めっきプロセス
「半田濡れ性に優れた無電解Ni-P/置換Auめっき 代替めっきプロセス」は、Auの代わりに特性の似ている4Agを用いためっきプロセスであるため、無電解Ni-P/置換Auめっきプロセスとの代替が可能です。半田濡れ性はめっき直後で、無電解Ni-P/置換Auめっきよりも良好です。詳しくお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

『Ni+Sn/Snリフロー連続フープメッキ一環マシン』

『Ni+Sn/Snリフロー連続フープメッキ一環マシン』
株式会社東電化では、生産設備として 『Ni+Sn/Snリフロー連続フープメッキ一環マシン』を保有しています。 【仕様】 ■材質:SUS系/銅合金/Fe系 ■板厚:0.03mm~3.0mm ■材幅:~200mm ■メッキ仕様  ・下地 半光沢Ni  ・半光沢Sn/リフローSn  ・両面片面及び部分ストライプ可能 ■メッキ厚:Ni ~2.0μm Sn~5.0μm位 ■コイル外形/重量(単重):MAX950mm/~500kg位 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【表面処理サービス】優れた半田濡れ性と無光沢外観を有するめっき

【表面処理サービス】優れた半田濡れ性と無光沢外観を有するめっき
優れた半田濡れ性と無光沢外観を有するめっきは、置換タイプのSnめっき液の為、銅を浸漬するだけでピンホールが少なく、均一な無光沢外観のSn皮膜が析出します。無電解Ni-P/置換Auめっきよりも半田濡れ性が良好です。 【特長】 ○置換タイプのSnめっき液の為、銅を浸漬するだけでピンホールが少なく  均一な無光沢外観のSn皮膜が析出する ○無電解Ni-P/置換Auめっきよりも半田濡れ性が良好 ○プリント基板(被めっき部が銅)に最適 ○研究開発から試作・量産品まで幅広くサポート 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問合わせ下さい。

表面処理材(Au・Ni・Cu・Snなどの各種メッキ加工)

表面処理材(Au・Ni・Cu・Snなどの各種メッキ加工)
『表面処理材(Au・Ni・Cu・Snなどの各種メッキ加工)』は、 各種通信機器・電動工具・電動自転車などの二次加工電池及び基板回路部分の 電気接点部分に数多く採用されているマテリアルです。 ニーズに適した表面処理メーカー(メッキ加工業者)を選定し、小ロット 多仕様の顧客ニーズに対応しております。 【特長】 ■二次加工電池及び基板回路部分の電気接点部分に数多く採用 ■ニーズに適した表面処理メーカー(メッキ加工業者)を選定 ■小ロット多仕様の顧客ニーズに対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

光沢錫めっき

光沢錫めっき
株式会社正信では、月産160トンの処理能力を誇るラインが特長の 『光沢錫めっき』を承っております。 ホイストの導入により、定尺銅帯の3m、2.5m、2mのめっき処理が可能。 主にブスバーの定尺品から加工品まで、迅速に納期対応いたします。 その他、はんだ濡れ性に優れた電気・電子部品向けの「無光沢錫めっき」も ご用意しております。 【特長】 ■有効寸法:W300×H700×L3100 ■月産160トンの処理能力を誇るライン ■ブスバーの定尺品から加工品まで、迅速に納期対応 ■ホイストの導入により、定尺銅帯の3m、2.5m、2mのめっき処理が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ポリイミドフィルムへのダイレクトめっき

ポリイミドフィルムへのダイレクトめっき
フィルム基板に蒸着やスパッタ等の下地膜を必要とせず、ダイレクトに無電解めっきし、高密着性、納期の短縮、コストダウンを実現しました。また、ご要望によってめっき後、エッチングにてパターン形成することも可能です。豊和産業はそんなご用途がある業界の研究開発に少しでもお役に立てるように、一枚の試作からでも対応できる様に準備しておりますので、試作開発をご相談下さい。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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無電解めっきにおけるめっき厚みの均一化

無電解めっきにおけるめっき厚みの均一化とは?

無電解めっきは、触媒反応を利用して金属イオンを還元し、基板表面に金属膜を析出させる技術です。めっき厚みの均一化とは、プリント基板の表面全体にわたって、めっき層の厚みを一定に保つことを指します。これは、電気特性の安定化、信頼性の向上、および後工程での加工性を確保するために極めて重要です。

​課題

複雑形状への対応不足

プリント基板上の微細なパターンや複雑な形状の部分では、めっき液の流動性が悪くなり、厚みムラが発生しやすい。

めっき液の管理難

めっき液の成分濃度や温度、pHなどの管理が不十分だと、反応速度が変化し、均一なめっき厚が得られない。

めっき時間の最適化

めっき時間を長くしすぎると過剰なめっきとなり、短すぎると膜厚不足となる。均一な厚みを確保するための時間設定が難しい。

基板の配置と向き

めっき槽内での基板の配置や向きによって、めっき液の接触効率が異なり、厚みムラが生じることがある。

​対策

めっき液の循環・攪拌強化

めっき槽内のめっき液を効率的に循環・攪拌することで、基板表面への均一な供給を促進し、厚みムラを低減する。

めっき液組成の最適化

安定剤や添加剤を適切に配合し、めっき液の反応性を制御することで、均一な析出速度を維持する。

プロセスパラメータの精密制御

温度、pH、濃度などのめっき条件をリアルタイムで監視・制御し、常に最適な状態を保つことで、安定した膜厚を得る。

基板配置の最適化設計

めっき槽内での基板の配置や向きを、シミュレーションなどを活用して最適化し、めっき液の均一な接触を確保する。

​対策に役立つ製品例

高性能めっき添加剤

めっき液の表面張力を調整し、複雑形状への浸透性を高め、均一な膜厚形成をサポートする。

自動めっき液管理システム

めっき液の成分、温度、pHなどを自動で検知・調整し、常に最適なめっき条件を維持する。

高効率攪拌装置

めっき槽内の液流を最適化し、基板全体に均一にめっき液を供給することで、厚みムラを解消する。

めっきプロセスシミュレーションソフトウェア

基板形状やめっき条件に基づき、厚み分布を予測し、最適な基板配置やプロセス条件を設計するのに役立つ。

⭐今週のピックアップ

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