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レジストの消費量削減とは?課題と対策・製品を解説
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フォトレジスト塗布におけるレジストの消費量削減とは?
半導体製造プロセスにおけるフォトレジスト塗布工程で、使用されるレジスト液の量を最小限に抑える技術や手法のこと。微細化・高密度化が進む半導体デバイスの製造コスト削減、環境負荷低減、および材料供給の安定化に貢献する。
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『RSコータ』は、独自スリットダイで自由に円形塗布ができる装置です。
円形以外にも四角形、八角形等基板形状に依存しない自由な塗布形状が可能。
φ300mmウエハへの塗布に要する時間は僅か30秒と高いスループットを誇り、
バブルレスで優れた品質を実現します。
【特長】
■高粘度液の厚膜塗布が可能(数100μmの厚塗りも1回で塗布可能)
■パターンへの埋め込み性に優れる(ボイドも少ない)
■EBR(Edge Back Rinse)不要で工程数を削減
■圧倒的な省液性を実現(塗布液使用量はスピンコータの1/3以下)
■洗浄液の使用量及び廃液量も大幅に削減でき、よりエコな生産が可能に
■異形材料への塗布、異形状の塗布が可能
システム提案も対応いたします。
プロセスフロー例:
ロードポート(EFEM) → アライメント →コータ → BAKE → CP → ロードポート(EFEM)
乾燥プロセス Option:VCD(真空乾燥装置)
焼成プロセス Option:Cure Oven等との組合せも可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
円形塗布装置『RSコータ』

