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レジストの消費量削減とは?課題と対策・製品を解説

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フォトレジスト塗布におけるレジストの消費量削減とは?

半導体製造プロセスにおけるフォトレジスト塗布工程で、使用されるレジスト液の量を最小限に抑える技術や手法のこと。微細化・高密度化が進む半導体デバイスの製造コスト削減、環境負荷低減、および材料供給の安定化に貢献する。

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『RSコータ』は、独自スリットダイで自由に円形塗布ができる装置です。

円形以外にも四角形、八角形等基板形状に依存しない自由な塗布形状が可能。

φ300mmウエハへの塗布に要する時間は僅か30秒と高いスループットを誇り、
バブルレスで優れた品質を実現します。

【特長】
■高粘度液の厚膜塗布が可能(数100μmの厚塗りも1回で塗布可能)
■パターンへの埋め込み性に優れる(ボイドも少ない)
■EBR(Edge Back Rinse)不要で工程数を削減
■圧倒的な省液性を実現(塗布液使用量はスピンコータの1/3以下)
■洗浄液の使用量及び廃液量も大幅に削減でき、よりエコな生産が可能に
■異形材料への塗布、異形状の塗布が可能

システム提案も対応いたします。
プロセスフロー例:
ロードポート(EFEM) → アライメント →コータ → BAKE → CP → ロードポート(EFEM)
乾燥プロセス Option:VCD(真空乾燥装置)
焼成プロセス Option:Cure Oven等との組合せも可能


※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

円形塗布装置『RSコータ』

当社は、超精密スプレーコーターによる受託コーティングから装置設計販売、
装置レンタルまでトータルサービスをご提供いたします。

スプレー塗工に適した材料開発・販売も実施。
特に材料開発に関しては、タッチパネル、レンズ等、益々、樹脂化が進む中、
積極的に開発に取り組んでおります。

各種レジスト(MEMS)、ポリイミド、ナノカーボン、接着剤、各種ペースト等、
低粘度から高粘度材料まで、様々な材料のコーティングに関しご相談下さい。

【特長】
■クリーンルーム内で材料毎の条件最適化
■材料塗着効率約85%を実現
■材料ロス低減にも実力を発揮
■研究開発機から量産機までカスタマイズ製作
■オリジナルノズルによる、安定吐出、高速ノズルスピード、高霧化を実現

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

超精密スプレーコート受託サービス

この4チャンバーシステムは、使用時点での混合化学物質を特許取得済みのリテーナーコーム処理システムと組み合わせて優れたプロセス結果を実現することを特徴としています。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジストストリッピングのようなサステナブルなプロセスを行うことで、化学物質や脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。

【特長】
■最大600wphのスループット
■4つのプロセスチャンバー
■設置面積12m2未満
■高度希釈された使い切り化学物質
■硫酸や過酸化物は必要なし


※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』

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フォトレジスト塗布におけるレジストの消費量削減

フォトレジスト塗布におけるレジストの消費量削減とは?

半導体製造プロセスにおけるフォトレジスト塗布工程で、使用されるレジスト液の量を最小限に抑える技術や手法のこと。微細化・高密度化が進む半導体デバイスの製造コスト削減、環境負荷低減、および材料供給の安定化に貢献する。

課題

塗布膜厚の均一性維持

レジスト液の使用量を減らすと、ウェハー表面への均一な塗布が難しくなり、露光工程でのパターン形成精度に影響を与える可能性がある。

レジスト液の飛散・蒸発ロス

塗布時の飛散や、塗布後の乾燥工程での蒸発によるレジスト液のロスが、実質的な消費量を増加させる要因となっている。

装置の清掃・メンテナンス負荷

レジスト液の付着による装置の汚染は、清掃やメンテナンスの頻度を高め、生産効率を低下させる。

高価な特殊レジストの使用

高性能なフォトレジストは高価であり、その消費量削減は製造コストに直結する重要な課題である。

​対策

塗布技術の最適化

スピンコート以外の塗布方式(例:カーテンコート、スロットダイコート)の導入や、塗布条件(回転数、時間、ノズル位置)の精密制御により、レジスト液の使用量を削減する。

低粘度・高固形分レジストの開発

より少ない塗布量で均一な膜厚を実現できる、低粘度でありながら高固形分濃度のレジスト材料を開発・採用する。

塗布装置の改良

レジスト液の飛散を抑制するノズル設計、効率的な乾燥システム、および自動洗浄機能を備えた塗布装置を導入する。

プロセスシミュレーションの活用

塗布プロセスをシミュレーションし、最適なレジスト量や塗布条件を事前に予測することで、無駄な試行錯誤を減らし、レジスト消費量を削減する。

​対策に役立つ製品例

精密塗布ノズルシステム

レジスト液の飛散を最小限に抑え、狙った位置に正確に塗布することで、使用量を削減し均一な膜厚を実現する。

高効率乾燥ユニット

塗布後の乾燥工程でレジスト液の蒸発ロスを低減し、より少ない塗布量で所望の膜厚を得られるようにする。

低粘度・高機能レジスト材料

少ない塗布量でも微細なパターン形成に適した均一な膜厚を形成できる、特殊な組成のレジスト液。

プロセス最適化ソフトウェア

塗布条件やレジスト特性を入力することで、最適な塗布量や膜厚をシミュレーションし、無駄なレジスト使用を削減する。

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