エッチング時間の短縮とは？課題と対策・製品を解説

『ミニミニエッチャー』は、小型基板の製作および薬液の実験・開発に適した
装置です。

左右の薬液噴射ノズルが首振り動作する「縦型・左右スプレー」をはじめ、
「横型・上下スプレー」や「水平揺動型・上下スプレー」などをラインアップ。

少量の薬液でのエッチングが可能で、数枚単位の基板製作に対応出来、
また、薬液の交換も容易で、省スペースにて設計されています。

【特長】
■小型基板の製作および薬液の実験・開発に好適
■少量の薬液でのエッチングが可能
■数枚単位の基板製作に対応
■薬液の交換も容易
■省スペース設計

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ナップ工業株式会社から、連続自動エッチングシステムのご案内です。

印刷→乾燥→エッチング→剥離→水洗→拭上→保護膜貼り。

大村技研株式会社はガス関連事業と半導体関連事業が密接に結びついている企業です。各種生産工場（半導体・液晶・食料品・機械）、研究所等が当社の得意なフィールドです。大村技研の技術は、半導体業界、液晶、燃料電池、エコ関連、食品工場、各種製造プラント、薬品研究所、 研究機関等、精密性・緻密性・安全性を厳格に求められる多くの業界で採用されています。
当社は半導体のフィールドで培った豊富な経験と、信頼のネットワークを生かし、お客様の仕様に応じて受託加工を行っています。当社の受託加工サービスは、装置開発・評価、各種材料開発・評価、装置のパーツ、お客様の試作・研究開発などで多数のお客様にご利用いただいております。
ウェーハファウンドリーサービスとして
○SOIウエーハ
○シリコンウェーハ販売
○成膜加工（CVD）
○成膜加工（PVD）
○パターニング
○ナノパターン
○その他加工サービス
をおこなっております。いつでもお気軽のお問い合わせください。

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

本製品は、パワー・周波数の異なるプラズマを生成する製品です。

2タイプのパルスユニットを搭載しており、制御ユニット、
パルスユニットB、DC電源ユニット、パルスユニットA、
ブレーカーユニット、抵抗ユニットの6つで構成されています。

【特長】
■2タイプのパルスユニット搭載
■パワー・周波数の異なるプラズマを生成

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【カテゴリー】
凝集不良、脱水不良、水質改善、臭気対策、重金属対策、土壌改良対策、濁水処理、エッチング剤等

【特長】
■凝集剤、重金属除去、リン除去
■脱硫、脱臭、脱色
■エッチング剤（42°Bé～47°Bé）

【濃度】
40°Bé　42°Bé　47°Bé　50°Bé
※濃度調整が必要な際はご相談ください。

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。