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半導体テクノロジー

半導体テクノロジーに関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。

異物混入の防止とは?課題と対策・製品を解説

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薄膜形成における異物混入の防止とは?

半導体製造における薄膜形成プロセスでは、微細な異物混入が製品の性能や歩留まりに深刻な影響を与えます。この異物混入を徹底的に排除し、高品質な半導体デバイスを安定的に生産するための技術や管理体制全般を指します。

各社の製品

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【半導体製造向け】極薄破損止・極薄チャンネル
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半導体製造業界では、クリーンルーム内での精密機器や部品の保護が重要です。特に、限られたスペースでの保護対策は、効率的な製造プロセスを維持するために不可欠です。異物混入や破損を防ぎ、製品の品質を確保する必要があります。当社の極薄破損止・極薄チャンネルは、わずか0.3mmの厚さで、クリーンルーム内の機器や部品を保護します。

【活用シーン】
・クリーンルーム内の精密機器の保護
・半導体製造装置の部品保護
・限られたスペースでの保護対策

【導入の効果】
・省スペースでの保護を実現
・異物混入や破損のリスクを低減
・製品の品質向上に貢献

FM4910認証塩ビ『Trovidur EC-FR』
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'-特徴-
■ クリーンルームで使用可能
■ 優れた自己消化性
■ 着火後の発煙量が少量
■ 優れた加工性
■ 優れた耐薬品性

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

表面処理技術『シュウ酸硬質アルマイト』
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『シュウ酸硬質アルマイト』は、皮膜内に硫黄分を含まない皮膜になり、
半導体製造装置等において妨害物質の放出等が発生しにくい硬質アルマイト処理です。

真空下で使用しても、放出ガスの発生量は硫酸皮膜と比較して減少します。
硫酸硬質アルマイトと比較して、表面粗さは抑制することが可能。
高い耐候性を有し、屋外での使用においても色調変化は殆ど見受けられません。

自然発色でゴールド色の仕上がりとなり、美しい外観を与え、
食器関係(家庭用の鍋ややかん)にも使用していることから、
安全にご使用いただくことができます。

【特長】
■クリーンな皮膜
■放出ガスが少ない
■高い耐候性
■皮膜の安全性
■美しい外観

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【CKD】プロセスガス用バルブ「LGDシリーズ」
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生産方法の最適化により低コストを実現しました。半導体製造装置や工場配管等に使用が可能でプロセスガス・不活性ガスに適用してます。

床材/クリーンルームフロア【半導体など精密機器の製造工場に】
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いかに塵埃を排除するかが大切であるクリーンルームは、床材にも配慮が必要です。
重量化の進む機器の荷重にも対応できる超重荷重パネルなど、クリーンルームの多様化するお客様のニーズに合わせて商品をご提供しております。
センクシアの豊富な二重床の経験と実績が生んだクリーンフロアは、総合的な技術力に支えられながら、より高度化する電子精密機器分野のニーズに対応してまいります。

【特長】
○最軽量:当社独自のFEM解析・湯流れ解析技術を駆使して、国内最軽量フロアパネルを設計
○高品質・高機能:当社の高度な技術により、高品質・高機能フロアパネルを提供
○エコ(環境・資源リサイクル)商品:アルミダイカスト製のため、100%リサイクルが可能
○高い耐震性能:お客様のご要望に合わせてさまざまな耐震性能を実現
○アフターサービス:施工体制を含めたアフターサービスの体制が充実

高純度ライン用 面シール継手/溶接継手『HTCシリーズ』
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ハムレットHTCシリーズは、SEMIスタンダードに準拠した素材、品質管理の高純度ライン用の面シール/溶接継手です。
下記ラインナップでお客様の要求にお応えします。
■グランド(スリーブ)
■ミニタイプ溶接継手
■エルボ/ティ/クロス形状コネクタ
■ロングタイプ溶接継手
■ストレート形状コネクタ
■キャップ/ナット/プラグ
■スイベル式溶接アセンブリ
■ガスケット
■ハイフロー仕様コンポーネント

<特長>
・電解研磨処理対応(Av. 5uインチ)
・SS316L Var、または、Vim/Var材対応(SEMI F20-0305準拠)
 (注)3/4”以上は316L/316L VOD(AOD)材です
・クリーニング仕様はH9800に準拠(参照仕様:SEMI E49.3)
・組立はSEMI E49.6準拠
・サイズ:1/8"~1"
・全てのHTCコンポーネントにはヒートコードがつけられ追跡調査が可能です
・電解研磨品は清浄度を維持する為、二重包装されています。

※標準的なアイテムにつきましては国内在庫対応中。在庫状況につきましてはお気軽にお問い合わせ下さい。

超高密度大気圧プラズマ ToughPlasma FPF20-GM
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FPF20-GMは一般的な大気圧プラズマの10倍以上の超高密度ラジカルを発生させることができる世界最高レベルの大気圧プラズマ装置です。

各種パラメータは最適化されており、余計な調整は不要です。
ボタン一つで簡単に世界最高レベルの大気圧プラズマをご利用できます。
CEマーク、METマークを取得しており、EU加盟国および北米での使用も可能です。

接着不良、塗装剥がれ、表面汚れでお困りの際はお気軽にお問い合わせください。

無溶剤型エキポシ樹脂『アートフロアーEP51』
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『アートフロアーEP51』は、エキポシ樹脂特有の優れた耐薬品性と
美観を併せ持つ塗り床です。

VOC対作品の環境配慮型で、優れた低アストガス性により半導体製造工場の
クリーンルームにも対応します。

また、当製品にガラスクロスを積層した工法でより耐久性を向上させる
「アートフロアーEPー1C工法」がございます。

【特長】
■耐薬品性
■美観
■低アストガス性
■無溶剤型エキポシ系
■ベーストタイプ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくかお気軽にお問い合わせ下さい。

小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】
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『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで
設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。
シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。

【特長】
■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能
■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置
■省スペース/小型化:W500×D395mmサイズで卓上型
■お手持ちの排気系、膜厚計を取付可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体関連製品 「精密加工品/角槽など」
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半導体関連製品「精密加工品/角槽など」は、半導体製造装置の中での使用に対応するためミクロンレベルの超精密加工を行った部品や半導体製造装置で使用される高純度薬液の貯蔵や混合に適したシングル槽、半導体製造装置内でのオーバーフロー洗浄用に適したダブル槽があります。詳しくはカタログをダウンロードしてください。

【台湾MIZUP製】半導体工場用3ピースクリーンボールバルブ
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半導体設備向けの実績豊富で、台湾大手半導体工場へ長年納品しています!

接続方法はSCH5S・SCH10S・TUBEの自動溶接式。
洗浄用パージポート溶接も対応可能です!

組立て、検品、梱包まで一貫したクリーン環境内での生産作業は、当社の特徴の一つです。
作業エリアではバルブを知り尽くした熟練生産スタッフが厳しい品質管理のもと一つ一つ丁寧に仕上げています。

※※弊社では工場見学・視察を歓迎しています!※※
下記「お問い合わせフォームへ」からお問い合わせください。

工業製品用 縦型脱気シーラー・真空包装機 ガス置換包装機
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シール長が450mmまで可能な脱気シーラーです。
立体的・水物・粉物などの包装に適した構造で、
袋を立てたまま上部でシールするガス充填・ガス置換機能付きのガス置換包装機です。
クリーンルーム仕様、両面加熱仕様もございます。

【特長】
●袋を立てたままシールできるので、専用ボックスに入れたままでも脱気包装できます。
●ガス置換・ガス機能付き
●タッチパネル仕様でワーク登録も可能
●ステンレス製でいつまでもきれいで長持ち
●クリーンルーム仕様・ケミカル仕様もあり
●卓上型の真空・脱気シーラーもあり
●オプションにてコロコン対応品もあり
●他シリーズで下記タイプもご用意しております。
・シール長が600mm,800mm,1000mm。
・クリーンルーム仕様、両面加熱仕様。
・テーブルが電動で上下するKtタイプ。

電池業界向けモーノポンプ・モーノディスペンサー カタログ
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『モーノポンプ』は、様々な液体を無脈動・定量移送できる
回転容積式一軸偏芯ねじポンプです。

モーターの回転速度の調整だけで、吐出量を制御することができます。
また、部品点数が少なく、日々のメンテナンスを短時間で行うことができ、
作業効率の向上に貢献します。

当カタログでは、リチウムイオン二次電池や機能性フィルムなどの製造工程で
電極スラリーや機能性材料を高精度供給するモーノポンプをご紹介しています。

【掲載製品】
■標準モデル  「NHL-F型」
■小容量モデル 「2NL-F型」
■軸封レス・ホッパー一体型 「NVL型」
■軸封レス・タンク直結型  「NTC型」

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

BS-ET処理 アルミ用特殊エッチング 化学ブラスト調処理
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BS-ET処理(アルミ用特殊エッチング 化学ブラスト調処理)は、半導体やFPDの製造工程における静電気による不具合などの防止に適しています。各種アルマイトやめっき処理などのアルミの前処理として併用します。
ブラスト調に表面を荒らして接触面積を減らすことで、接触帯電、剥離帯電を軽減します。小物製品から大物製品まで対応可能です。

RoHS指令 ベンカン機工
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RoHS指令とは?

RoHS(Restriction of Hazardous Substances 通称:ローズ)指令は、電子・電気機器における特定有害物質の使用制限について、2006年7月に施行された欧州連合(EU)による指令です。

RoHS指令は、主にWEEE指令によるリサイクルが容易になるように、また埋め立てや焼却処分されるときに、人と環境に影響を与えないように、電子・電気機器に有害物質が含有されていないことが目的とされています。

2015年6月に公布された官報に基づき、2019年7月以降、新たに4種のフタル酸エステル類が対象物質として追加制限されることが決まっています。

※WEEE(Waste Electrical and Electronic Equipment 通称:ウィー)指令は、廃電気・電子製品に関する欧州連合(EU)による指令です。

高純度ライン用チェックバルブ(逆止弁)『CMWシリーズ』
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CMWはシリーズは、高純度アプリケーション用に開発された溶接型コンパクトチェックバルブ(逆止弁)です。完全溶接設計の為、流体を外部リーク無く確実に保持します。電解研磨品もご用意しております。

<特長>
・半導体製造装置の要求するクリーン度で対応
・流体をリークなく確実に保持する完全溶接設計
・最大許容使用圧力: 20MPa
・最大許容背圧: 20MPa
・使用温度範囲: -10~80℃
・クラッキング圧力: 0.014MPa (2psi)
・リシール圧力: 0.028(4psi)
・表面仕上げ: 5uインチ(電解研磨仕上げ)
       10uインチ(機械研磨仕上げ)
・サイズ: 1/4"、1/2"
・接続: おす面シール、めす面シール、突合せ溶接
・オプションでOリング材質を選べます
(フルオロカーボンFKM、ポリクロロプレンCR、パーフルオロエラストマ、EPDM)

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体製造装置(ドラフト・薬液供給ユニット)
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当社では、主にウェーハ洗浄装置などで使用するドラフトや薬液供給ユニット
などのフレームライニング(塩ビ巻き)を多く手がけています。

外観の傷・溶接不良・精度には最大限の注意を払っております。
なかでも溶接には細心の注意と最高の技術を注ぎ製作してます。

また、加工方法・製品強度などは使用条件などを考慮し、独自のノウハウを
利用し製作しています。

【特長】
■外観の傷・溶接不良・精度に最大の注意を払って製作
■溶接には細心の注意と最高の技術を注いでいる
■独自のノウハウを利用

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体工場専門 配管工事サービス
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当社では、職場携帯電話や自動車等、生活に欠かせない
半導体を作る工場の配管工事を取り扱っております。

製造から取付けまで一連の作業に対応。

また、金属の加工業務も手掛けており、曲げ加工や切断から、
Tig溶接や自動溶接などの溶接作業の請負もいたします。
ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。

【対応工事(一部)】
■半導体向け配管
■医療ガス配管
■ガス配管
■真空配管
■溶接工事

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

【技術資料】真空紫外エキシマランプの現状とその産業的応用
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当資料では、「真空紫外エキシマランプ」の現状とその産業的応用について
ご紹介しております。

エキシマとは励起状態の原子または分子1個と基底状態の原子または分子1個が
会合した二量体の総称。

「真空紫外エキシマランプ」は、準単色光、一般的なランプにない短波長の
光を発光できる、瞬時点灯点滅が可能、などの特長を有しています。

また、真空紫外光は短波長で光子エネルギーが高いため、非熱過程で分子の
結合を切断することができます。

【掲載内容】
■真空紫外エキシマランプとは
■真空紫外エキシマランプの応用

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

包装用フィルム『シリコンウェーハケース包装用ラミネート袋』
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『シリコンウェーハケース包装用ラミネート袋』は、製品自体の
クリーン度管理にも細心の注意をはらって製造されているラミネート袋です。

透明ラミネート品、アルミラミネート品及び透明バリアラミネート品の
3種類をご用意。各種ラミネート袋の素材は、材質の異なるフィルムを
複数ラミネートした構造となっており、ガスバリヤ性に優れています。

被包装物の汚染を防止するため、各種ラミネート袋の最内面となる
ポリエチレン(PE)は、厳選されたPEを使用しています。

【特長】
■クリーン包装袋の製袋、検品および1次梱包は、クラス10000の
 クリーン度環境下で実施
■形状はガゼットタイプ
■三方シールの平袋タイプもご要望に応じて対応
■ラミネート方法は押し出しまたは、ドライ(接着剤塗布)の選択が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【半導体分野実績】フッ素樹脂コーティング(PTFE・PFA)
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【半導体分野へのコーティング実績のご紹介】
◆使用コーティング塗料:PTFE・PFA塗料
◆対象と用途:
・ウェハー研磨用金型…焼き付き防止
・ウェハー搬送用(導電性)吸着ハンド…スベリ・非粘着
・ピン(製造ライン)…スベリ
・吸着パッド(製造ライン)…非粘着
・筐体カバー…耐薬品
・シリコンシート…スベリ

当社では、創業以来様々な業界のコーティングを手掛け、5万件を超える膨大な実績を元に、多種変量での対応はもちろん、最小5mmの小物から最大4000mmの大物まで、さまざまな金属・樹脂・ゴムといった母材に対応いたします。
コーティングのことなら淀川ACCへお任せください!

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【減圧脱水乾燥装置導入事例】半導体部品製造業 K社様
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『減圧脱水乾燥装置』を導入した、長野県にある半導体部品製造業の
K社様の事例をご紹介します。

同社では、以前はマイクロフロー→フィルタープレス→ディスクドライヤーで
処理していましたが、前期工程を減1台にまとめることで、処理の簡素化と
大幅なコスト削減を実現。

導入後、釜残渣の有価引取を模索しており、実現すればさらに導入効果が
大きくなる見込みとなっております。

【事例概要】
■お客様名:K社様
■所在地:長野県
■業種:半導体部品製造
■導入機種:G 500型
■導入時期:2014年10月
■処理廃液:メッキ工程廃液
■処理量:10000L/日(24H/日稼動)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

電子関連向け製品・工事
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井阪産業株式会社では、『電子関連向け製品・工事』を承っております。

熟練のスタッフが自社工場でポンプのオーバーホール・洗浄(重金属可)を行う
各種ポンプO/H・洗浄をはじめ、電子工業薬品については、
高純度・機能性薬品、洗浄液、レジスト等幅広くご提供。

また、高圧ガス・真空・冷却水・排気、薬液配管等、装置立上げに関わる
付帯工事一式を行います。

【取り扱い製品(一部)】
■各種ポンプ O/H・洗浄
■電子工業薬品
■真空関連製品・消耗品

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ウルトラファストダイヤフラムバルブ  『UFシリーズ』
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ウルトラファストシリーズは、原子層蒸着(ALDプロセス)用途に代表される、正確に同じ条件で安定稼働し続けることを要求される高速開閉かつ高温の高純度プロセス向けに設計されています。独自の流量調節メカニズム(特許出願中US61/910,079号)を採用し正確な流量を保つよう微調整しながら使用することが可能です。

<特長>
・高速バルブ開閉(バルブ反応時間: 5ms未満)
・超高寿命(1億回の開閉試験に合格)
・耐圧: 真空~1MPa(150psi)
・ボディ材質: SS316L VARまたはVIM/VAR(SEMI F20-0305準拠)
・使用温度範囲: -10~120℃(標準ボンネット)
         -10~200℃(延長ボンネット)
・サイズ: 1/4"、1/2"
・表面仕上げ(平均): 5uインチ
・バルブタイプ: 2ポート、3ポート、4ポート
・オプションで熱電対、ヒーターカートリッジ穴加工対応
・オプションでソレノイドバルブ、リミットスイッチに対応

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

耐プラズマ性Oリング フロロパワーDPR (特殊フッ素ゴム)
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優秀な耐プラズマ性を有しながらコスト優位性の高い特殊材質です。配合剤を使用していないことから低パーティクル性に優れ、半導体や液晶関連機器などのドライプロセスに於いて、優秀な耐プラズマ性を発揮します。ノンフィラータイプの耐熱パーフロ材質「フロロパワーFFN(FFKM-耐プラズマ)」の下位互換として有効です。桜シール株式会社は、JIS規格による一般的な規格サイズは元より、極小Oリングから大口径リングに至るまでの大小様々なOリングを取り揃え、材質とサイズの両面で適切なOリング選定をサポートさせて頂きます。
* パーフロなどを含むフッ素ゴム各種は、桜シール株式会社が最も得意としている材質です。
* Oリング以外の形状にも対応いたします。

【導入事例】クリーンルーム用特殊スプリングキャスター
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光電子工学及び電力工学産業における先進的企業へ『クリーンルーム用
特殊キャスター』をBlicle(ブリックレ)技術で解決した導入事例をご紹介します。

クリーンルーム環境で使用されるキャスターは、空気1立方メートルあたりの
粒子数と大きさにおいて指定された制御汚染レベルを遵守しなければならず、
安定性や安全性と同様に、床の種類とともに摩耗率が低いことが重要となります。

Blickeは、同企業と協力して、LHFのばね付きシリーズである
「LHF-PTH 200XK-ELS-FS」の特注版キャスターを開発。

フットガードとトラックロック付きの非常に頑丈なニッケルメッキを施した
取付金具及びBlickleのPTHホイールの組み合わせは、同企業を
納得させるものであり、現在では順調に使用されています。

【課題】
■指定された制御汚染レベルを遵守しなければならない
■床の種類とともに摩耗率が低いことが重要
■運搬する製品を静電気から守ることも重要

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社オーク製作所 紫外線応用製品のご案内
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株式会社オーク製作所では、半導体素子、液晶基板、電気回路基板および
各種素材の表面処理工程でランプの各波長による効果を活かした様々な
処理装置を設計・開発しております。

UVを照射して有機汚染を非接触で除去するUVドライプロセッサーや
紫外線硬化樹脂によるUVインクの乾燥などに適したUV-LEDスポット
照射装置などお客様の用途に合わせてお選びいただけます。

ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

【ラインアップ】
■UVドライプロセッサー
■UV-LEDスポット照射装置
■小型灯具シリーズ
■FRP硬化用UV灯具

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

多層ボトル『ハイパーピュアボトル』
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『ハイパーピュアボトル』は、半導体用高純度薬品容器として
新たな成形技術により生まれた高品質・高精度な多機能容器です。

「6種7層」という圧倒的なバリア機能により、高耐久でハイクリーンな
多層ボトルを実現。

最内層は素材の選択が可能であり、従来ポリエチレン容器では
収納不可能であった薬品もご使用いただけます。

【特長】
■従来のクリーン原料に比べてパーティクルが1/10以下
■電子工業薬品で懸念される金属溶出も限りなく抑えられる
■HDPE単層に比べ、バリア性能が格段に向上
■ポリエチレン容器では収納不可能であった薬品も使用可能
■改ざん防止機能付き

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

半導体・FPD製造部品 精密洗浄サービス
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当社は、半導体・FPDの製造に付属する各種部品の精密洗浄を行っています。

精密洗浄技術では、目には見えない汚れをきめ細かく除去し、
お客様の半導体や液晶などの製造装置の長期安定稼働を提供しています。

また、新設真空装置向け直動部品洗浄も承っており、付着膜剥離から
表面処理、精密洗浄、乾燥、品質検査、梱包までを一貫で対応します。
ご要望の際はお気軽にご相談ください。

【サービス】
■半導体・FPD等精密洗浄
■真空装置向け直動部品洗浄
■長期安定稼働サポート

※詳細はお問い合わせください。

フィルター製品
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【取扱製品(一部)】
■ケミカルフィルター (電子部品工場向け)
■プレフィルター(不織布)
■中性能フィルター
■ガラス繊維フィルター
■高性能HEPAフィルター

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社SCREEN SPE クォーツ 郡山工場 事業紹介
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株式会社SCREEN SPE クォーツの保有する郡山工場は、半導体製造装置関連の
分野における創業以来の生産拠点であり、半導体ウエハー洗浄用処理槽
(石英槽)の開発・製造を鋭意的に展開しています。

クリーン度がハイレベルに保たれた工場内では、材料調達から製品出荷
までの各工程が一貫して機能し、安全かつ効率的な生産体制を構築して
います。

また、約1,700℃の高い軟化点を持つクォーツの特性を生かし、ボートや
チューブをはじめとするウエハー熱処理装置用部品の開発・製造も積極的
に行っています。

【事業内容】
■半導体洗浄装置向け石英槽および関連部品の製作加工

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

クリーンヒーター 「IRP型」
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クリーンヒーター 「IRP型」は、遠赤外線放射セラミックヒーターを組み合わせてユニット化した、サイズ・容量を選べるステンレスケース製パネル型ヒーターです。
発塵の要素が無く、熱衝撃に強く耐冷熱サイクルに優れています。

【仕様】
○パネル1枚にセラミックヒーターエレメント電源電圧200V電力400W
 (100mm×200mm)を組み合わせて使用できる
○磁器(セラミック)に釉薬(遠赤外線放射セラミックス)をコーティング
○連続使用温度は500度℃

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

伝統箔
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1万分の1〜2mmの薄さ!純度99.99%の金箔です。

【特長】

◆叩き伸ばす製法により純度99.99%にしあげます。

◆薄さ1万分の1〜2mm

◆約2gの金箔から畳一畳分の極限にまで伸ばすことができます。

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=====詳細はお問い合わせください=====

エポキシ系帯電防止塗り床材 「アクアコート♯8851」
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エポキシ系帯電防止塗り床材「アクアコート♯8851」は、より完全な無塵化を要する作業環境、特にハイテク機器に取り囲まれた場所での、作業床への高度化する要求性能に応えます。チリ・ホコリが嫌う場所の床材として、美装性・クリーン性・耐摩耗性などの特長が評価され、愛用されています。詳しくはカタログをダウンロードしてください。

高性能エアフィルタ<ミニプリーツ形>
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当社で取り扱っている、「高性能エアフィルタ」<ミニプリーツ形>
をご紹介いたします。

捕集率と圧力損失、低発ガスフィルタもラインアップに加え、
多様なご要求にお応え可能。

また、縦寸法の最大は1220mmを1枚ろ材で製作可能で、
ご要望の縦・横寸法に対応します。
ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。

【特長】
■品揃え豊富
■多様な寸法に対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

熱源 「加熱用ハロゲンランプ」
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赤外線ハロゲンランプは近赤外線域にピーク波長を持つ、極めて高効率な熱源です。
半導体製造の他、各種成膜工程の熱源として使用されます。
半導体製造工程での使用に適した制御性の良いクリーンな熱源です。

【特徴】
○高効率・省エネ
○素早いレスポンス

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

溶剤型エポキシ樹脂帯電防止塗り床材『セミコC-1』
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『セミコC-1』は、床面に塗布するだけで表面を導電化し
静電気による電気障害を防止する塗り床材です。

耐薬品性や防塵性に優れるほか、耐摩耗性、耐水性も備え、
豊富なカラーバリエーションをラインアップ。
また、薄くて強靭な被膜を形成するため経済的です。

当社では施工にも対応しており、一貫体制で工場や病院、研究室など
様々な施設の静電気対策に貢献します。

【特長】
■幅広い材質の床に塗布可能
■標準20色をラインアップ
■ベースコートの組み合わせにより、厚膜施工も可能
■環境に配慮したノンカーボンタイプ
■ホルムアルデヒド放散等級 F☆☆☆☆

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

半導体用圧力調整器『ER-1HL・ER-1LL』
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『ER-1HL・ER-1LL』は、半導体用用途にお使いいただける圧力調整器です。

製造にあたっては、高次元のクリーン度・高気密性・高信頼性を
満足するために「クリーンルーム内組立」「高性能洗浄」
「全数 He リークテスト」を実施しています。

Heリークテストは、SEMI F01の方法で行い、基準を満たしております。

【ER-1HL 仕様(抜粋)】
■一次測圧力(MPa):2~15
■二次側使用圧力(MPa):0.1~0.99
■使用温度(℃):-5~40(設計温度-10~75℃)
■口径:1/4
■重量(kg):1.3
■内臓フィルター濾過度:5μm
 
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ステンレス製配管継手 「RH継手」
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ステンレス製配管継手「RH継手」は、半導体向けの水用、ガス用の装置組立、チラー配管に使用可能です。継手内面は切削仕上げしています。材質:ステンレスで耐食性に優れています。詳しくはカタログをダウンロードしてください。

水処理・スケール除去装置 スケールウォッチャー【半導体工場編】
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水処理装置『スケールウォッチャー』の半導体工場における、
導入効果事例をご紹介します。

シャワーノズル・吐出配管・ストレーナーの詰まりが無くなり、
スクラバーの不具合を改善。

また、基板完全不良率の改善と銅残りによる手直し発生率の改善も
実現しました。

【効果】
■スクラバーの不具合を改善
■ラジエータ冷却効率低下を改善
■基盤完全不良率を改善
■銅残りによる手直し発生率を改善

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ADK-φ130mmフィルタ専用大流量ハウジング
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・特長
●200L/min. 以上の超大流量工程用。
●フィルタのコストダウン。
●低価格を実現。

フッ素樹脂コーティングクリモトSUSシーム管
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【特長】
■良好な耐薬品性と耐熱性
■最適な耐透過性
■卓越した難燃性
■良好な表面特性
■表面平坦性
■純度
※耐薬品性等、詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

真空エジェクタ『耐薬品・耐ガス用CVコンバム(オーダメイド)』
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株式会社妙徳では、本体およびノズル材質がオールステンレスの
耐薬品・耐ガス用CVコンバムをオーダーメイドにて提供しています。

材質はSUS303,SUS316を準備しております。
薬品・ガスなどの吸引に適しており、半導体製造装置で使用可能。

耐薬品性に優れるPTFEタイプ、さらにノズルと本体を
PTFE溶接したタイプも製作いたします。

【特長】
■本体およびノズル材質がオールステンレス
■半導体製造装置で使用可能
■オールPTFEタイプも製作

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体向け ソリューション提案
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半導体製造プロセスにおいて、水分および酸素の除去は大きな課題です。当社の露点計や温湿度計、酸素濃度計は半導体の製造、搬送、検査等様々な工程で使用されています。またドライエアーにおける除湿度や窒素ガス・アルゴンガス・ヘリウムガス・水素ガス等のガス純度測定のためにも使用されています。 水分計測では、最低-100℃露点まで測定可能なTK-100静電容量式露点計(酸化アルミタイプ)をはじめとして、最低-60℃露点までのTE-660露点計(高分子タイプ)、-95℃~+99℃露点まで測定でき高精度が必要な場合や露点計の基準器として使用されているMBW鏡面冷却式(ミラー式)露点計、そして湿度の領域では簡易型のEE060、高温・高湿下での測定を主とする結露防止環境下での対策が施されたEE33温湿度計などが主に使用されています。 酸素濃度計測では、水素置換による酸素除去の際には2001LCガルバニ電池式酸素濃度計でPPMまで、水素が存在しない状況ではModel 4100ジルコニア式酸素濃度計でPPBまでの分析を行うなど、様々なシーンで使用されます。 また、クリーンルームや製造装置内の微風計測に風速計も活躍しています。

超高密度大気圧プラズマ ToughPlasma FPB20
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FPB20はサンプルへの熱・電気ダメージが少ない大気圧プラズマ装置です。

フィルムのような薄膜・薄肉材料でも縮ませることなく表面処理が可能です。
少量・多品種の生産や評価用設備に適した装置です。

評価テストも行っております。
接着不良、塗装剥がれ、表面汚れでお困りの際はお気軽にお問い合わせください。

メタルシール型マスフロー/プレッシャーメータ/コントローラ
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メタルシール デジタル・マスフロー/プレッシャメータ/コントローラのご紹介です。 機器は高品質な表面仕上げで、モジュールコンセプト構造のメタルシールですから長期間のリークタイトネスを保証します。 本機は高精度・すばらしい温度性・及び高速応答を有するPCボードを備えています。 最新のEL-FLOWシリーズはマルチガス/マルチレンジ機能も加わり、さらに(OEM)顧客へそのアプリケーションにおいて最適なフレキシビリティーとプロセス効率を提供します。 詳しくはカタログをダウンロードしてご覧下さい。

フッ素樹脂熱収縮チューブ(FEP)
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『フッ素樹脂熱収縮チューブ(FEP)』は、耐薬品性、耐候性、不燃性、
電気的特性に優れた、フッ素樹脂熱収縮チューブです。

【ラインアップ】
■ジュンフロンNF(FEP熱収縮チューブ)
■ジュンフロンNFL(FEP極細熱収縮チューブ)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

倉庫ご利用実績ケース3<精密機器の結露が心配なお客様>
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サン・エキスプレスは、精密機器の物流だけを専門に60余年。

当社の倉庫は、東京都大田区、神奈川県藤沢市、大阪府東大阪市に立地しており、
いずれの倉庫も国内に数少ない空調設備を完備。精密機器保管専用倉庫として、
シャッターの開閉はマメに行い、2重シャッターを施した施設も用意。
常に庫内温度を一定に保ち、マメに清掃を行い清潔にすることを心掛けております。

医療機器、理化学機器やレンズを備えた検査機器をお取り扱いの場合など、
空調設備を必要とされているお客様からご好評を頂いております。

「信頼のおける運送会社を探したい」「時間指定で運送してほしい」
「電子機器なので保管中の結露が心配」「埃や塵の入らない倉庫が必要」など…

精密機器の物流にお困りの方、お気軽にお問合せください!

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

気密窓『TW-WRI22-ALQ』
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気密窓『TW-WRI22-ALQ』は、導波管と負荷の間に挿入することで減圧負荷へのマイクロ波機器接続を可能にします。


【特長】
■減圧負荷への接続を可能に
■真空度1Paまで対応
■負荷側から導波管内へのガス等の侵入を防止
■温度センサ付着可(オプション)

※詳しくはPDF資料をご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体業界向け!シロキサンフリーの補填剤で被害を抑制!
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シロキサンフリーペースト状シール材『HVF-1』はシロキサン含有量が5μm以下なので、シロキサンによる被害を抑制します。
シロキサンによる「ウェハー汚染」や「接点障害」、「金属部の腐食」、「化学反応による異物の発生」、「露光装置レンズの汚れ」を抑制することで、クリーンルーム内部の隙間埋めや、半導体製造装置内部の目地止めに利用可能です。

【特長】
■酸とアルカリ両方の薬品に耐性有り
■常温で自然乾燥
■シリコーンを含んでいないフッ素ゴムが主原料 など

※無料サンプル進呈いたします。
※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。

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薄膜形成における異物混入の防止

薄膜形成における異物混入の防止とは?

半導体製造における薄膜形成プロセスでは、微細な異物混入が製品の性能や歩留まりに深刻な影響を与えます。この異物混入を徹底的に排除し、高品質な半導体デバイスを安定的に生産するための技術や管理体制全般を指します。

​課題

微細粒子による欠陥発生

製造環境や材料中に存在する数ナノメートルから数マイクロメートルの微細な粒子が、成膜中に堆積し、電気的特性の低下や短絡などの欠陥を引き起こします。

プロセスガス中の不純物

成膜に使用されるプロセスガスに含まれる微量の不純物や水分が、成膜膜質を劣化させ、異物として機能する可能性があります。

装置内部からのパーティクル発生

成膜装置のチャンバー内壁や消耗部品からの剥離、摩耗によって発生するパーティクルが、成膜面に付着し、欠陥の原因となります。

オペレーションミスによる汚染

作業員の衣服や手指、搬送中のウェハへの接触など、人的要因による異物混入リスクが存在します。

​対策

クリーンルーム環境の維持管理

高度な清浄度を保つクリーンルームの設計、空調管理、定期的な清掃、入退室管理を徹底し、外部からの異物侵入を防ぎます。

高純度材料・ガスの使用

成膜に使用する材料やプロセスガスを、厳格な品質管理のもと、極めて高い純度で供給・管理することで、ガス由来の異物混入を排除します。

装置の最適化と保守

成膜装置の設計段階からパーティクル発生を抑制する構造を採用し、定期的な点検、部品交換、清掃を計画的に実施します。

自動化と遠隔操作の導入

ウェハ搬送やプロセス操作の自動化、遠隔監視・操作を推進することで、人的接触による異物混入のリスクを最小限に抑えます。

​対策に役立つ製品例

超清浄度フィルター

クリーンルームの空調システムやプロセスガス供給ラインに組み込まれ、微細な粒子を効率的に除去し、清浄な環境を提供します。

高純度ガス供給システム

ガスボンベから成膜装置までの供給経路全体で、不純物の混入を防ぎ、安定した高純度ガスを供給するシステムです。

自動ウェハ搬送ロボット

クリーンルーム内でのウェハの移動を自動化し、人の手による接触や、それに伴う異物付着のリスクを排除します。

インラインパーティクルカウンター

成膜プロセス中にリアルタイムでパーティクル数を計測し、異常を早期に検知して、問題発生時の迅速な対応を可能にします。

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