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異物混入の防止とは?課題と対策・製品を解説

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薄膜形成における異物混入の防止とは?

半導体製造における薄膜形成プロセスでは、微細な異物混入が製品の性能や歩留まりに深刻な影響を与えます。この異物混入を徹底的に排除し、高品質な半導体デバイスを安定的に生産するための技術や管理体制全般を指します。

​各社の製品

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シロキサンフリーペースト状シール材『HVF-1』はシロキサン含有量が5μm以下なので、シロキサンによる被害を抑制します。
シロキサンによる「ウェハー汚染」や「接点障害」、「金属部の腐食」、「化学反応による異物の発生」、「露光装置レンズの汚れ」を抑制することで、クリーンルーム内部の隙間埋めや、半導体製造装置内部の目地止めに利用可能です。

【特長】
■酸とアルカリ両方の薬品に耐性有り
■常温で自然乾燥
■シリコーンを含んでいないフッ素ゴムが主原料 など

※無料サンプル進呈いたします。
※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。

半導体業界向け!シロキサンフリーの補填剤で被害を抑制!

『アートフロアーEP51』は、エキポシ樹脂特有の優れた耐薬品性と
美観を併せ持つ塗り床です。

VOC対作品の環境配慮型で、優れた低アストガス性により半導体製造工場の
クリーンルームにも対応します。

また、当製品にガラスクロスを積層した工法でより耐久性を向上させる
「アートフロアーEPー1C工法」がございます。

【特長】
■耐薬品性
■美観
■低アストガス性
■無溶剤型エキポシ系
■ベーストタイプ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくかお気軽にお問い合わせ下さい。

無溶剤型エキポシ樹脂『アートフロアーEP51』

【特長】
・石川式撹拌擂潰機の特徴そのままに、コンパクト設計を実現。
・ステンレス筐体採用により耐薬品性が向上し、実験室やクリーンルームでの使用用途が拡がる。
・D18S, D20S, D22Sは杵先が2本あり、擂潰性能が向上。
・卓上型のため、ドラフトチャンバーやグローブボックス内での使用が可能となり、有機溶剤等の擂潰も可能。
・温度上昇を嫌う加工に適した処理

【好適使用事例】
・ボールミルのように高い処理エネルギーではなく、ナノケミカル、メカニカルアロイング処理に適した処理エネルギーを実現
・グローブボックスを用いてアルゴンガス雰囲気内でのスラリー、ペースト、コロイドを分散、混練、粉砕。
・ドラフトチャンバー内で溶剤を加えたスラリー、ペースト等の分散、混練時の濃縮作業で乳棒の撹拌効果と杵先の粉砕作業により均一な分散、混練処理を実現。

全固体電池/リチウムイオン電池電極材開発  石川式撹拌擂潰機 

当製品は、微細凹凸部のダストを超音波で除去する
高周波超音波洗浄処理システムです。

半導体ウェハやマスクなどの洗浄に使用いただけます。

ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式、その他の洗浄処理システムを
ラインアップしています。

【特長】
■微細凹凸部のダストを超音波で除去
■400kHz~5MHzのトランスデューサを備える
■最小0.1μmからのパーティクルを除去
■ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式などをラインアップ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高周波超音波洗浄処理システム

セインのウルトラフローSCは、ネジ接続またはダブルフェルールチューブフィッティング付きのウルトラフロー特別バージョンです。半導体製造工程で使用される液冷システム向けに特別設計されたステンレス・スチール製です。フラット・フェースデザインのため付け外しの際に液だれがなく、クリーン環境汚濁防止、高い地球温暖化係数を持つ液体冷媒の漏出防止に有効です。また、低圧力損失かつ高い流量特性により、システム全体のエネルギー効率向上にも貢献します。

半導体製造用ウルトラフローSC クイック・カップリング

コストパフォーマンスにすぐれたドライ真空ポンプシリーズ。

スクリュー式ドライ真空ポンプ TDシリーズ

『多階層CR対応クリーン垂直搬送システム』は、多階層CR間における
立体的で効率的な自動搬送ラインを構築できます。

垂直往復高速搬送機の「クリーンオートレーター」と
垂直連続トレー搬送機の「クリーンハイトレー」をご用意。

どちらもFOUP搬送用となっております。

【クリーンオートレーター特長】
■清潔度を保つ機構プラス高能力
■搬送方向は自由自在
■発塵を抑えた省スペース設計+低衝撃
■クリーン度:クラス1~に対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

多階層CR対応クリーン垂直搬送システム

メタルシール デジタル・マスフロー/プレッシャメータ/コントローラのご紹介です。 機器は高品質な表面仕上げで、モジュールコンセプト構造のメタルシールですから長期間のリークタイトネスを保証します。 本機は高精度・すばらしい温度性・及び高速応答を有するPCボードを備えています。 最新のEL-FLOWシリーズはマルチガス/マルチレンジ機能も加わり、さらに(OEM)顧客へそのアプリケーションにおいて最適なフレキシビリティーとプロセス効率を提供します。 詳しくはカタログをダウンロードしてご覧下さい。

メタルシール型マスフロー/プレッシャーメータ/コントローラ

・特長
●200L/min. 以上の超大流量工程用。
●フィルタのコストダウン。
●低価格を実現。

ADK-φ130mmフィルタ専用大流量ハウジング

当社は、半導体・FPDの製造に付属する各種部品の精密洗浄を行っています。

精密洗浄技術では、目には見えない汚れをきめ細かく除去し、
お客様の半導体や液晶などの製造装置の長期安定稼働を提供しています。

また、新設真空装置向け直動部品洗浄も承っており、付着膜剥離から
表面処理、精密洗浄、乾燥、品質検査、梱包までを一貫で対応します。
ご要望の際はお気軽にご相談ください。

【サービス】
■半導体・FPD等精密洗浄
■真空装置向け直動部品洗浄
■長期安定稼働サポート

※詳細はお問い合わせください。

半導体・FPD製造部品 精密洗浄サービス

FPB20はサンプルへの熱・電気ダメージが少ない大気圧プラズマ装置です。

フィルムのような薄膜・薄肉材料でも縮ませることなく表面処理が可能です。
少量・多品種の生産や評価用設備に適した装置です。

評価テストも行っております。
接着不良、塗装剥がれ、表面汚れでお困りの際はお気軽にお問い合わせください。

超高密度大気圧プラズマ ToughPlasma FPB20

 GCVシリーズベローズバルブは、省資源化を目的に、コンパクト化と軽量化を実現した製品です。

【特徴】
○性能は従来のCVLシリーズと同等ですが、開閉表示は見やすく改良されました。
○半導体製造プロセスにおいて不可欠な高純度ガス用で、高信頼・高耐久性にお応えできるベローシールバルブです。

●その他の機能や詳細については、カタログをダウンロードしてください。

ベローズバルブGCVシリーズ

優秀な耐プラズマ性を有しながらコスト優位性の高い特殊材質です。配合剤を使用していないことから低パーティクル性に優れ、半導体や液晶関連機器などのドライプロセスに於いて、優秀な耐プラズマ性を発揮します。ノンフィラータイプの耐熱パーフロ材質「フロロパワーFFN(FFKM-耐プラズマ)」の下位互換として有効です。桜シール株式会社は、JIS規格による一般的な規格サイズは元より、極小Oリングから大口径リングに至るまでの大小様々なOリングを取り揃え、材質とサイズの両面で適切なOリング選定をサポートさせて頂きます。
* パーフロなどを含むフッ素ゴム各種は、桜シール株式会社が最も得意としている材質です。
* Oリング以外の形状にも対応いたします。

耐プラズマ性Oリング フロロパワーDPR (特殊フッ素ゴム)

半導体製造装置メーカーへ『インコネルロックリコイル』を提案した
事例をご紹介いたします。

研磨工程で支えていたウエハーが落下して割れてしまい、さらに部品を
回収したところ、めねじに挿入しているワイヤーインサートに錆が
発生していました。

提案後、施策を経て量産採用され、数年経過しましたが、いまだ
ゆるみや錆は発生しておりません。

【事例概要】
■課題
・研磨工程で支えていたウエハーが落下して割れてしまった
・めねじに挿入しているワイヤーインサートに錆が発生していた
■課題解決の要件
・回転ゆるみに対して効果的な対策であること
・耐薬品性に優れた材質であること

※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【課題解決事例】激しい振動による回転ゆるみとガスによる錆びの防止

水処理装置『スケールウォッチャー』の半導体工場における、
導入効果事例をご紹介します。

シャワーノズル・吐出配管・ストレーナーの詰まりが無くなり、
スクラバーの不具合を改善。

また、基板完全不良率の改善と銅残りによる手直し発生率の改善も
実現しました。

【効果】
■スクラバーの不具合を改善
■ラジエータ冷却効率低下を改善
■基盤完全不良率を改善
■銅残りによる手直し発生率を改善

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

水処理・スケール除去装置 スケールウォッチャー【半導体工場編】

株式会社オーク製作所では、半導体素子、液晶基板、電気回路基板および
各種素材の表面処理工程でランプの各波長による効果を活かした様々な
処理装置を設計・開発しております。

UVを照射して有機汚染を非接触で除去するUVドライプロセッサーや
紫外線硬化樹脂によるUVインクの乾燥などに適したUV-LEDスポット
照射装置などお客様の用途に合わせてお選びいただけます。

ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

【ラインアップ】
■UVドライプロセッサー
■UV-LEDスポット照射装置
■小型灯具シリーズ
■FRP硬化用UV灯具

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

株式会社オーク製作所 紫外線応用製品のご案内

当社では、半導体製造工程で使用される薬剤や消耗品、精密部品の
洗浄剤を提供しております。

その他、金属加工及び表面処理に使用される各種薬剤および
メッキ廃水処理剤や、原材料及び食品添加物から衛生管理面で
必須なサニテーション商品などを提供。

また、医薬品原料関連、化粧品原料関連、試薬関連、プール・スパ・
温泉関連、防疫薬剤関連、リネン・クリーニング関連、塗料・印刷関連も
取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【取扱品目】
■高純度薬品
■フッ素系溶剤
■リチウムイオン電池材料
■イオン液体 など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

電子材料

【取扱製品(一部)】
■ケミカルフィルター (電子部品工場向け)
■プレフィルター(不織布)
■中性能フィルター
■ガラス繊維フィルター
■高性能HEPAフィルター

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

フィルター製品

『セミコC-1』は、床面に塗布するだけで表面を導電化し
静電気による電気障害を防止する塗り床材です。

耐薬品性や防塵性に優れるほか、耐摩耗性、耐水性も備え、
豊富なカラーバリエーションをラインアップ。
また、薄くて強靭な被膜を形成するため経済的です。

当社では施工にも対応しており、一貫体制で工場や病院、研究室など
様々な施設の静電気対策に貢献します。

【特長】
■幅広い材質の床に塗布可能
■標準20色をラインアップ
■ベースコートの組み合わせにより、厚膜施工も可能
■環境に配慮したノンカーボンタイプ
■ホルムアルデヒド放散等級 F☆☆☆☆

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

溶剤型エポキシ樹脂帯電防止塗り床材『セミコC-1』

当社では、主にウェーハ洗浄装置などで使用するドラフトや薬液供給ユニット
などのフレームライニング(塩ビ巻き)を多く手がけています。

外観の傷・溶接不良・精度には最大限の注意を払っております。
なかでも溶接には細心の注意と最高の技術を注ぎ製作してます。

また、加工方法・製品強度などは使用条件などを考慮し、独自のノウハウを
利用し製作しています。

【特長】
■外観の傷・溶接不良・精度に最大の注意を払って製作
■溶接には細心の注意と最高の技術を注いでいる
■独自のノウハウを利用

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体製造装置(ドラフト・薬液供給ユニット)

当製品は、パーティクルフリー、オイルフリーのアルミホイルです。

クリーンルーム内での精密部品、半導体製造装置の梱包、養生並びに
真空装置内の防着板、マスキングシート、熱シールド等に好適。

パーティクル発生数が低く、ハンドリングしやすい1本10m巻きです。

【仕様】
■厚さ:0.0254mm
■巾:300mm
■真空パック、プラスティックコア、脱酸素剤入

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

UHV Cleaned Aluminum(アルミホイル)

結露防止器 DPマイクロ 型式DP-M20-Wの特徴について。
1、M20の取り付け穴に2重パッキン採用
2、DPマイクロ1個で盤5リットルマデ対応可能
3、IoT、防災用センサ、カメラ、記録、通信ユニット収納箱
4、自動機械、盤内ノ部分的な高湿気、結露対策
5、高湿気排出だけで無く、外部よりの湿気侵入抑制
6、電源不用、フリーメンテナンスで圧倒的な使いやすさ。

結露防止器 超小型タイプ 型式DP-M20-W

株式会社妙徳では、本体およびノズル材質がオールステンレスの
耐薬品・耐ガス用CVコンバムをオーダーメイドにて提供しています。

材質はSUS303,SUS316を準備しております。
薬品・ガスなどの吸引に適しており、半導体製造装置で使用可能。

耐薬品性に優れるPTFEタイプ、さらにノズルと本体を
PTFE溶接したタイプも製作いたします。

【特長】
■本体およびノズル材質がオールステンレス
■半導体製造装置で使用可能
■オールPTFEタイプも製作

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

真空エジェクタ『耐薬品・耐ガス用CVコンバム(オーダメイド)』

『フッ素樹脂熱収縮チューブ(FEP)』は、耐薬品性、耐候性、不燃性、
電気的特性に優れた、フッ素樹脂熱収縮チューブです。

【ラインアップ】
■ジュンフロンNF(FEP熱収縮チューブ)
■ジュンフロンNFL(FEP極細熱収縮チューブ)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

フッ素樹脂熱収縮チューブ(FEP)

BS-ET処理(アルミ用特殊エッチング 化学ブラスト調処理)は、半導体やFPDの製造工程における静電気による不具合などの防止に適しています。各種アルマイトやめっき処理などのアルミの前処理として併用します。
ブラスト調に表面を荒らして接触面積を減らすことで、接触帯電、剥離帯電を軽減します。小物製品から大物製品まで対応可能です。

BS-ET処理 アルミ用特殊エッチング 化学ブラスト調処理

生産方法の最適化により低コストを実現しました。半導体製造装置や工場配管等に使用が可能でプロセスガス・不活性ガスに適用してます。

【CKD】プロセスガス用バルブ「LGDシリーズ」

当製品は、半導体製造装置のプロセスチャンバー用の真空ゲートバルブです。

カム駆動式による逆圧対応の「シングルゲートバルブ」と完全水平移動の為、
Oリングの擦れが無い「デュアルゲートバルブ」をラインアップ。

お客様ご要求仕様に基づくカスタマイズも承ります。

【特長】
〈デュアルゲートバルブ〉
■完全水平移動の為、Oリングの擦れが無い
■左右の独立駆動によりPM/TMチャンバーのメンテナンス性が向上
■コンパクト設計(シングルバルブと同サイズ)
■開口45×450mmに対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

角型ゲートバルブ

『減圧脱水乾燥装置』を導入した、長野県にある半導体部品製造業の
K社様の事例をご紹介します。

同社では、以前はマイクロフロー→フィルタープレス→ディスクドライヤーで
処理していましたが、前期工程を減1台にまとめることで、処理の簡素化と
大幅なコスト削減を実現。

導入後、釜残渣の有価引取を模索しており、実現すればさらに導入効果が
大きくなる見込みとなっております。

【事例概要】
■お客様名:K社様
■所在地:長野県
■業種:半導体部品製造
■導入機種:G 500型
■導入時期:2014年10月
■処理廃液:メッキ工程廃液
■処理量:10000L/日(24H/日稼動)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【減圧脱水乾燥装置導入事例】半導体部品製造業 K社様

『E-PPシリーズ』は、錫めっき浴から利用可能な2価錫を残し、反応性生物である不要な4価の錫を連続的かつ選択的に除去するろ過システムです。

4価の錫を連続的に除去することで、めんどうな沈降作業実施間隔の長期化を実現
連続的に除去出来るので、製品品質が安定

構造は従来式のマグネットポンプとバッグフィルターの組合せを応用したもので、4価スズのスラッジのみを正常に除去可能です。

【特長】
■スラッジ除去に起因する休止時間なし
■沈降作業実施間隔の長期化
■安定した低4価錫濃度により2価錫の損失減少
■可溶性および不溶性アノードの両方でMSAと添加剤の消費量を削減
■低4価錫濃度により得られるめっき品質向上

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

4価錫除去ろ過システム『E-PPシリーズ』

いかに塵埃を排除するかが大切であるクリーンルームは、床材にも配慮が必要です。
重量化の進む機器の荷重にも対応できる超重荷重パネルなど、クリーンルームの多様化するお客様のニーズに合わせて商品をご提供しております。
センクシアの豊富な二重床の経験と実績が生んだクリーンフロアは、総合的な技術力に支えられながら、より高度化する電子精密機器分野のニーズに対応してまいります。

【特長】
○最軽量:当社独自のFEM解析・湯流れ解析技術を駆使して、国内最軽量フロアパネルを設計
○高品質・高機能:当社の高度な技術により、高品質・高機能フロアパネルを提供
○エコ(環境・資源リサイクル)商品:アルミダイカスト製のため、100%リサイクルが可能
○高い耐震性能:お客様のご要望に合わせてさまざまな耐震性能を実現
○アフターサービス:施工体制を含めたアフターサービスの体制が充実

床材/クリーンルームフロア【半導体など精密機器の製造工場に】

気密窓『TW-WRI22-ALQ』は、導波管と負荷の間に挿入することで減圧負荷へのマイクロ波機器接続を可能にします。


【特長】
■減圧負荷への接続を可能に
■真空度1Paまで対応
■負荷側から導波管内へのガス等の侵入を防止
■温度センサ付着可(オプション)

※詳しくはPDF資料をご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

気密窓『TW-WRI22-ALQ』

創業77年の老舗サファイア製造メーカーです。
サファイアの大型結晶を自社で育成しているため、1mm以下の微細な製品から
写真のような300mm程度の大型窓の製作も可能です。

設計段階からお客様のご要求に寄り添い、品質的/コスト的に最適なカスタム製品を共に作り上げていくことが得意です。
1個からのお問い合わせも歓迎しておりますので、ご遠慮なくお問い合わせください。

切断、研削、研磨といった基本的な加工に加え
穴あけ加工、超音波加工、レーザー加工、チューブ加工、コーティング等の特殊加工にも対応しております。

また、石英ガラスでは失透してしまう強酸・強アルカリの薬品が使用される半導体製造工程にも
優れた耐薬品性のサファイア製品をご活用ください。
※サファイア製品の耐薬品性試験結果を進呈中。技術資料を下記よりダウンロードできます。

【特徴】
■化学的に安定(酸・アルカリにほぼ不溶、失透)
■広い透過特性(UV~近赤外(約5μm))
■硬い(ビッカース硬度:1750(a面))
■熱に強い(融点:2040℃)
■熱伝導が良い(42W/mK, 25℃)

半導体製造装置用サファイアカスタム品のご提案【技術データ進呈】

ハイプレシカは、高純度シリコン化合物から合成した微粒子です。
硬く、耐荷重に優れたシリカ粒子や、軟らかく、デリケートな被着物に傷をつけない有機無機ハイブリッド粒子があります。ハイプレシカの特長は粒径が非常に良くそろっていること(単分散)、真球形状であること、きわめて高純度であることです。

それらの特長を生かし、液晶ディスプレイ(LCD)のスペーサー(液晶材料の入るセルの厚みを均一にするギャップ保持材)として使用され、LCDを高精細化するのに不可欠な部材となっているほか、接着層厚み調整用スペーサー、高機能樹脂充填材(半導体封止材料用、他)、高機能フィルムコーティング用粒子等、多様な分野で使用されております。

※詳しくはカタログをダウンロードして下さい。

高純度シリコン化合物から合成したシリカ粒子『ハイプレシカ』

『ハイパーラップ』は、防弾ガラスの製造工程から誕生した有機物ゼロ・
純国産・無機質100%のガラスコート剤です。

主要成分の「ケイ素化合物」を空気中の水分と反応させることにより、
1回の塗布で約800nmの被膜が6層、合計3回の施工で最終18層の石垣状の
完全なガラス被膜(SiO2)が形成されます。

まったく新しいタイプの「衝撃吸収型ガラスコート」として、硬度9H以上を
保ちながら表面を保護するのはもちろんのこと、ガラスコーティングした物を
美しく保ち、簡単なお手入れで美しさを再生・継続することができます。

【特長】
■抗菌効果
■超親水効果
■画面がクリア
■最高クラスの硬度9H
■防指紋効果
■タッチが滑らか など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

ガラスコーティング剤『ハイパーラップ』

『モーノポンプ』は、様々な液体を無脈動・定量移送できる
回転容積式一軸偏芯ねじポンプです。

モーターの回転速度の調整だけで、吐出量を制御することができます。
また、部品点数が少なく、日々のメンテナンスを短時間で行うことができ、
作業効率の向上に貢献します。

当カタログでは、リチウムイオン二次電池や機能性フィルムなどの製造工程で
電極スラリーや機能性材料を高精度供給するモーノポンプをご紹介しています。

【掲載製品】
■標準モデル  「NHL-F型」
■小容量モデル 「2NL-F型」
■軸封レス・ホッパー一体型 「NVL型」
■軸封レス・タンク直結型  「NTC型」

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

電池業界向けモーノポンプ・モーノディスペンサー カタログ

半導体関連製品「精密加工品/角槽など」は、半導体製造装置の中での使用に対応するためミクロンレベルの超精密加工を行った部品や半導体製造装置で使用される高純度薬液の貯蔵や混合に適したシングル槽、半導体製造装置内でのオーバーフロー洗浄用に適したダブル槽があります。詳しくはカタログをダウンロードしてください。

半導体関連製品 「精密加工品/角槽など」

大型機もシリーズに追加しました。

スクリュー式ドライ真空ポンプ BEHシリーズ

 BMNシリーズ ベローズシール微量流量調整バルブ は、半導体製造プロセスにおいて不可欠な高純度ガス用で、高信頼・高耐久性にお応えできるベローズシールバルブです。

【特徴】
○精密ニードルによるすぐれた流量特性、マイクロメーターハンドルによる高精度な繰返し流量調整など、高い技術力と経験でお客様へ流体・用途別の製品をご提供いたします。

●その他の機能や詳細については、カタログをダウンロードしてください。

ベローズシール微量流量調整バルブ

FPF20-STは超高密度ラジカルを発生させることができる世界最高レベルの大気圧プラズマ装置です。

各種パラメータは最適化されており、余計な調整は不要です。
照射距離と速度を変更するだけですのでお客様でも容易に評価が可能です。

接着不良、塗装剥がれ、表面汚れでお困りの際はお気軽にお問い合わせください。

超高密度大気圧プラズマ ToughPlasma FPF20-ST

ステンレス製配管継手「RH継手」は、半導体向けの水用、ガス用の装置組立、チラー配管に使用可能です。継手内面は切削仕上げしています。材質:ステンレスで耐食性に優れています。詳しくはカタログをダウンロードしてください。

ステンレス製配管継手 「RH継手」

『ER-1HL・ER-1LL』は、半導体用用途にお使いいただける圧力調整器です。

製造にあたっては、高次元のクリーン度・高気密性・高信頼性を
満足するために「クリーンルーム内組立」「高性能洗浄」
「全数 He リークテスト」を実施しています。

Heリークテストは、SEMI F01の方法で行い、基準を満たしております。

【ER-1HL 仕様(抜粋)】
■一次測圧力(MPa):2~15
■二次側使用圧力(MPa):0.1~0.99
■使用温度(℃):-5~40(設計温度-10~75℃)
■口径:1/4
■重量(kg):1.3
■内臓フィルター濾過度:5μm
 
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体用圧力調整器『ER-1HL・ER-1LL』

『芯鞘アクリル導電繊維 コアブリットB』は、特殊製法で毛材の絡みが無い
ノンシリコン毛材です。

高い導電性があるので、ブラッシングにて静電気の発生を抑え、コロナ放電
などによる除電も行います。

また、芯部分に導電性を持たせているため、導電物質の脱落による導電性の
低下やコンタミの混入がほとんどありません。

【特長】
■ブラッシングにて静電気の発生を抑える
■コロナ放電などによる除電も行う
■導電物質の脱落による導電性の低下やコンタミの混入がほとんどない
■毛材の密集度が高く精密洗浄用に優れている
■アクリル特有の表面シワがブラッシング性能を高める

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

ノンシリコン毛材『芯鞘アクリル導電繊維 コアブリットB』

電子部品に使用されるプラスチックでは機能性を向上させるフィラーの使用が必須ですが、
現場からは下記のようなお困りごとが聞かれます。

■粗粒により押出成形機のスクリーンで目づまりをおこしてしまう…
■材料の磁着鉄が除去できない…
■凝集があり分散できない…
■材料内に異物が混入していた…
■材料内の粗粒により、製品にムラが出てしまう…

キンセイマテックでは、大きさの異なる粒体を分別する『分級加工』を行っております。

数μmの粒体の中から100μm以上の粒体を除去できるため、
原料の中にある異物・粗粒・介在物・磁着鉄を取り除くことが可能です。
粗大粒子によるエラーにお困りの方は、ぜひご相談ください。

※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

【粗大粒子を除去!】『分級加工』のご提案

【半導体分野へのコーティング実績のご紹介】
◆使用コーティング塗料:PTFE・PFA塗料
◆対象と用途:
・ウェハー研磨用金型…焼き付き防止
・ウェハー搬送用(導電性)吸着ハンド…スベリ・非粘着
・ピン(製造ライン)…スベリ
・吸着パッド(製造ライン)…非粘着
・筐体カバー…耐薬品
・シリコンシート…スベリ

当社では、創業以来様々な業界のコーティングを手掛け、5万件を超える膨大な実績を元に、多種変量での対応はもちろん、最小5mmの小物から最大4000mmの大物まで、さまざまな金属・樹脂・ゴムといった母材に対応いたします。
コーティングのことなら淀川ACCへお任せください!

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【半導体分野実績】フッ素樹脂コーティング(PTFE・PFA)

大和工業はプラスチックの特殊加工技術により最先端産業を支え続けています。
半導体をはじめとする電子部品の製造工程でのケミカルプロセス『化学的な処理工程』で使用する特殊な装置を製造しています。
国内、国外問わず、全世界で進化し続ける産業とともに製造装置も進化をして行かねばならない使命があります。
プラスチック特殊加工という物作りを通じ、常に先を見据えて価値、ニーズを創造してまいります。

【掲載内容】
■会社概要
■関連企業
■主な取扱材質・切削加工例
■商品一覧
■自社設計製品一覧
■製造サービス一覧

※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

大和工業株式会社 会社案内

光電子工学及び電力工学産業における先進的企業へ『クリーンルーム用
特殊キャスター』をBlicle(ブリックレ)技術で解決した導入事例をご紹介します。

クリーンルーム環境で使用されるキャスターは、空気1立方メートルあたりの
粒子数と大きさにおいて指定された制御汚染レベルを遵守しなければならず、
安定性や安全性と同様に、床の種類とともに摩耗率が低いことが重要となります。

Blickeは、同企業と協力して、LHFのばね付きシリーズである
「LHF-PTH 200XK-ELS-FS」の特注版キャスターを開発。

フットガードとトラックロック付きの非常に頑丈なニッケルメッキを施した
取付金具及びBlickleのPTHホイールの組み合わせは、同企業を
納得させるものであり、現在では順調に使用されています。

【課題】
■指定された制御汚染レベルを遵守しなければならない
■床の種類とともに摩耗率が低いことが重要
■運搬する製品を静電気から守ることも重要

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【導入事例】クリーンルーム用特殊スプリングキャスター

サン・エキスプレスは、精密機器の物流だけを専門に60余年。

当社の倉庫は、東京都大田区、神奈川県藤沢市、大阪府東大阪市に立地しており、
いずれの倉庫も国内に数少ない空調設備を完備。精密機器保管専用倉庫として、
シャッターの開閉はマメに行い、2重シャッターを施した施設も用意。
常に庫内温度を一定に保ち、マメに清掃を行い清潔にすることを心掛けております。

医療機器、理化学機器やレンズを備えた検査機器をお取り扱いの場合など、
空調設備を必要とされているお客様からご好評を頂いております。

「信頼のおける運送会社を探したい」「時間指定で運送してほしい」
「電子機器なので保管中の結露が心配」「埃や塵の入らない倉庫が必要」など…

精密機器の物流にお困りの方、お気軽にお問合せください!

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

倉庫ご利用実績ケース3<精密機器の結露が心配なお客様>

パイプエンド式真空フレキシブルホース『NK-2300PT』は、
両端パイプエンド構造で、くい込み継手と接続できます。

配管誤差(変位吸収)が調整でき、
振動緩和やモーション対応が可能です。

世界最小クラスの直径3mmフレキシブルホースで、
高品質・低価格・短納期で対応できます。
※長さ・数量によって納期が異なります。

【仕様】
適用チューブ:CLT(超柔軟)
口径:3.18〜12.7mm
長さ:100mm〜3M
※長さについてはご相談下さい。
適用流体:ガス・水・空気
※ステンレスを腐蝕させない流体に限る。
使用温度:-196〜300℃
使用圧力:FV〜0.1MPa
※許容リーク量1.33×10-10Pa ㎥/Sec以下

【半導体業界の方必見!】パイプエンド式真空フレキシブルホース

『CS1』は、特殊な溶液を染み込ませやシートで基板を拭くことにより、
基盤が自分自身で表面にフッ素の結晶を生み出すフッ素成膜です。

自己組織化法による成膜は化学反応による結合のため耐久性に優れます。

また、原子・分子レベルの単層でバリアが出来るため、誰でも簡単に均一な
フッ素膜を成膜できます。

【特長】
■汚れがつきにくい
■汚れが落ちやすい
■素早く簡単にできるフッ素成膜
■タッチパネルの操作性にほとんど影響しない

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

フッ素成膜『CS1』

■非貴金属系触媒をセラミック系ハニカム上に形成することで
 高濃度(概ね10PPM以上)のオゾン分解に適応いたします。
■高いオゾン分解性能を有しています。
■高度な成型技術をもとに、多様な形状/寸法に対応可能です。

オゾン分解用フィルター/AKH

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薄膜形成における異物混入の防止

薄膜形成における異物混入の防止とは?

半導体製造における薄膜形成プロセスでは、微細な異物混入が製品の性能や歩留まりに深刻な影響を与えます。この異物混入を徹底的に排除し、高品質な半導体デバイスを安定的に生産するための技術や管理体制全般を指します。

課題

微細粒子による欠陥発生

製造環境や材料中に存在する数ナノメートルから数マイクロメートルの微細な粒子が、成膜中に堆積し、電気的特性の低下や短絡などの欠陥を引き起こします。

プロセスガス中の不純物

成膜に使用されるプロセスガスに含まれる微量の不純物や水分が、成膜膜質を劣化させ、異物として機能する可能性があります。

装置内部からのパーティクル発生

成膜装置のチャンバー内壁や消耗部品からの剥離、摩耗によって発生するパーティクルが、成膜面に付着し、欠陥の原因となります。

オペレーションミスによる汚染

作業員の衣服や手指、搬送中のウェハへの接触など、人的要因による異物混入リスクが存在します。

​対策

クリーンルーム環境の維持管理

高度な清浄度を保つクリーンルームの設計、空調管理、定期的な清掃、入退室管理を徹底し、外部からの異物侵入を防ぎます。

高純度材料・ガスの使用

成膜に使用する材料やプロセスガスを、厳格な品質管理のもと、極めて高い純度で供給・管理することで、ガス由来の異物混入を排除します。

装置の最適化と保守

成膜装置の設計段階からパーティクル発生を抑制する構造を採用し、定期的な点検、部品交換、清掃を計画的に実施します。

自動化と遠隔操作の導入

ウェハ搬送やプロセス操作の自動化、遠隔監視・操作を推進することで、人的接触による異物混入のリスクを最小限に抑えます。

​対策に役立つ製品例

超清浄度フィルター

クリーンルームの空調システムやプロセスガス供給ラインに組み込まれ、微細な粒子を効率的に除去し、清浄な環境を提供します。

高純度ガス供給システム

ガスボンベから成膜装置までの供給経路全体で、不純物の混入を防ぎ、安定した高純度ガスを供給するシステムです。

自動ウェハ搬送ロボット

クリーンルーム内でのウェハの移動を自動化し、人の手による接触や、それに伴う異物付着のリスクを排除します。

インラインパーティクルカウンター

成膜プロセス中にリアルタイムでパーティクル数を計測し、異常を早期に検知して、問題発生時の迅速な対応を可能にします。

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