top of page

半導体テクノロジーに関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。
洗浄液の再利用とは?課題と対策・製品を解説

目的・課題で絞り込む
カテゴリで絞り込む
検査・測定装置 |
材料 |
自動化・ITソリューション |
製造装置 |
関連技術 |
その他半導体テクノロジー |

レジスト剥離・洗浄における洗浄液の再利用とは?
半導体製造プロセスにおいて、ウェハー上に形成された感光性樹脂(レジスト)を除去し、ウェハー表面を洗浄するために使用される洗浄液を、単回使用するのではなく、回収・精製して再利用すること。これにより、製造コストの削減、環境負荷の低減、資源の有効活用を目指す。
各社の製品
絞り込み条件:
▼チェックした製品のカタログをダウンロード
一度にダウンロードできるカタログは20件までです。
この4チャンバーシステムは、使用時点での混合化学物質を特許取得済みのリテーナーコーム処理システムと組み合わせて優れたプロセス結果を実現することを特徴としています。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジストストリッピングのようなサステナブルなプロセスを行うことで、化学物質や脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。
【特長】
■最大600wphのスループット
■4つのプロセスチャンバー
■設置面積12m2未満
■高度希釈された使い切り化学物質
■硫酸や過酸化物は必要なし
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

