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洗浄液の再利用とは?課題と対策・製品を解説

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レジスト剥離・洗浄における洗浄液の再利用とは?

半導体製造プロセスにおいて、ウェハー上に形成された感光性樹脂(レジスト)を除去し、ウェハー表面を洗浄するために使用される洗浄液を、単回使用するのではなく、回収・精製して再利用すること。これにより、製造コストの削減、環境負荷の低減、資源の有効活用を目指す。

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電子関連向け製品・工事

電子関連向け製品・工事
井阪産業株式会社では、『電子関連向け製品・工事』を承っております。 熟練のスタッフが自社工場でポンプのオーバーホール・洗浄(重金属可)を行う 各種ポンプO/H・洗浄をはじめ、電子工業薬品については、 高純度・機能性薬品、洗浄液、レジスト等幅広くご提供。 また、高圧ガス・真空・冷却水・排気、薬液配管等、装置立上げに関わる 付帯工事一式を行います。 【取り扱い製品(一部)】 ■各種ポンプ O/H・洗浄 ■電子工業薬品 ■真空関連製品・消耗品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

IPAなどの代替に!環境対応の洗浄剤『エアロリンス』

IPAなどの代替に!環境対応の洗浄剤『エアロリンス』
エアロピュア社の『エアロリンス』は、IPAやエタノール、メタノールやフッ素系溶剤からの代替に最適な環境対応の洗浄剤です。 しかも、IPAより粘度が低いため優れた洗浄力があります。 サトウキビなどから抽出した植物由来のバイオエタノールを主体の洗浄剤で、作業者・環境にやさしく、化学物質リスクアセスメントや脱炭素への貢献、SDGs(持続可能な開発目標)に大きく貢献します。 『エアロリンス』はIPA含有ゼロ、フッ素溶剤含有ゼロの洗浄剤のため、これからのIPA全廃やフッ素溶剤対策にも貢献できます。 【特長】 ■有機則・PRTR法に抵触しないのでトータルコストで安価!  関連する法の為の人件費、管理費、設備負担が、ほとんどありません。 ■液損があまりないので経済的!  エアロリンスは揮発性がアルコールにもかかわらず低い。   ■特別産廃費がかからない!  一般廃棄のため安全の為のリスクがかかりません。 ■化学物質リスクアセスメントに貢献度の高い商品です! ■適用法令は可燃物だけ!(第4石油アルコール:総量400L)のみ! ※2023年4月改定PRTR非該当

【水処理事例】河川水を浄化して精密電子部品の洗浄水に

【水処理事例】河川水を浄化して精密電子部品の洗浄水に
水処理のランニングコスト低減を提案している流機エンジニアリングの 水処理事例をご紹介します。 精密部品/めっき工場様から、精密電子部品などの洗浄水に河川水を浄化 して利用することでコスト削減をしたいというご要望をいただきました。 【事例】 ■業種:精密部品/めっき工場 ■課題:精密電子部品などの洗浄水に水道水を使ってきたが、水道料金が高い     河川水を浄化して洗浄水に利用することで、コストを削減したい 当社では、「ECOクリーン」を使って河川水の濁度を水道水レベルまで浄化。 河川水を利用できるようにすることで、水道水の10分の1の値段で給水し、 浄化利用させることによって水道水90%オフを実現しました。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』

半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』
この4チャンバーシステムは、使用時点での混合化学物質を特許取得済みのリテーナーコーム処理システムと組み合わせて優れたプロセス結果を実現することを特徴としています。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジストストリッピングのようなサステナブルなプロセスを行うことで、化学物質や脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。 【特長】 ■最大600wphのスループット ■4つのプロセスチャンバー ■設置面積12m2未満 ■高度希釈された使い切り化学物質 ■硫酸や過酸化物は必要なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

水系洗浄剤 『eアクア21シリーズ』

水系洗浄剤 『eアクア21シリーズ』
eアクア21シリーズは金属加工部品、ガラス・樹脂の基板及び光学レンズ洗浄の水系洗浄剤です。 洗浄性が良いことは当然として、成分中にLASを含まず、他社製品と比較してBOD、COD値が低く、排水処理の負担を軽減できます。洗浄後のリンス性も良好です。 海外拠点での実績多数あります。

炭化水素系洗浄装置『AHシリーズ』

炭化水素系洗浄装置『AHシリーズ』
『AHシリーズ』は溶剤消費量の少ないベーパー洗浄乾燥方式を採用した 炭化水素系洗浄装置です。 カスタムメイドのため、お客様に合った仕様にて製作。 また、コスト面も柔軟に対応致しますのでご相談ください。 【仕様】 ■溶剤  ・炭化水素系洗浄剤 ノルマルパラフィン 第2石油類、第3石油類  ・炭化水素系洗浄剤 イソパラフィン 第2石油類、第3石油類 ■蒸留再生装置:100L/h、200L/h どちらかを標準搭載 ■超音波発振器:ブランソン製各種搭載可能 ■コンベア:お客様の仕様により決定 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

Siconnex(サイコネックス) 会社案内

Siconnex(サイコネックス) 会社案内
当社は、半導体チップ製造プロセス装置の製造メーカーです。 スループット最大600wphの「BATCHSPRAY Clean Autoload」や タンクシステムによるケミカル循環方式を採用した「BATCHSPRAY Solvent Autoload」 など様々な製品を取り扱っております。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【Siconnex(サイコネックス)が選ばれる理由】 ■BATCHSPRAY技術に100%フォーカス ■水・排気・化学品を大幅に削減 ■コスト効率が高く、環境保全に対応したプロセス ■充実したサポート体制(サービス、パーツ、プロセス) ■無償の年次装置点検、トレーニング、電話サポート、及び初年度定期  メンテナンス等のパートナーシップアプローチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【減圧脱水乾燥装置導入事例】半導体部品製造業 S社様

【減圧脱水乾燥装置導入事例】半導体部品製造業 S社様
『減圧脱水乾燥装置』を導入した、インドネシアにある半導体部品製造業の S社様の事例をご紹介します。 同社では、新規製品製造工程を導入するにあたり、廃液処理を検討。 様々な方式を試しましたが、COD数値がネックとなり最終的に減での処理を 選択。回収水は後段で生物処理を採用しました。 廃液には低沸点溶剤が含まれており、初留分を15%カットする事で回収水の COD値を抑制しています。 【事例概要】 ■お客様名:S社様 ■所在地:インドネシア ■業種:半導体部品製造 ■導入機種:G 750型 ■導入時期:2014年11月 ■処理廃液:生産工程廃液 ■処理量:15000L/日(24H/日稼動) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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レジスト剥離・洗浄における洗浄液の再利用

レジスト剥離・洗浄における洗浄液の再利用とは?

半導体製造プロセスにおいて、ウェハー上に形成された感光性樹脂(レジスト)を除去し、ウェハー表面を洗浄するために使用される洗浄液を、単回使用するのではなく、回収・精製して再利用すること。これにより、製造コストの削減、環境負荷の低減、資源の有効活用を目指す。

​課題

洗浄液の汚染度増加

レジスト残渣やパーティクルが洗浄液中に蓄積し、再利用時にウェハー汚染を引き起こすリスクが高まる。

精製技術の複雑化とコスト

洗浄液から不純物を効率的かつ高純度に除去するための高度な精製技術が必要となり、設備投資や運用コストが増大する。

品質管理の難しさ

再利用される洗浄液の品質(純度、濃度、pHなど)を安定的に維持・管理することが難しく、製造歩留まりに影響を与える可能性がある。

法規制・安全性の懸念

再利用に伴う化学物質の取り扱いや、廃液処理に関する法規制への適合、作業員の安全性確保が課題となる。

​対策

高度なろ過・分離技術の導入

微細なパーティクルや溶解したレジスト成分を効果的に除去できる多段階ろ過システムや膜分離技術を導入する。

インラインモニタリングシステムの活用

洗浄液の汚染度や成分をリアルタイムで監視し、最適なタイミングでの精製や交換を判断するシステムを導入する。

自動化された精製・供給システム

洗浄液の回収、精製、品質管理、再供給までを自動化し、人的ミスを削減し、安定した品質を確保する。

環境負荷低減型洗浄液の開発

再利用に適した組成や、精製が容易な新しいタイプの洗浄液を開発・採用する。

​対策に役立つ製品例

精密ろ過膜モジュール

ナノレベルの微細なパーティクルや溶解成分を効率的に除去し、洗浄液の純度を高めることで再利用を可能にする。

オンライン分析センサー

洗浄液中の不純物濃度や成分をリアルタイムで計測し、精製プロセスの最適化や品質管理を支援する。

自動洗浄液リサイクルシステム

洗浄液の回収、精製、品質管理、再供給までを一貫して自動で行い、運用効率と品質安定性を向上させる。

特殊吸着材

特定のレジスト成分や汚染物質を選択的に吸着し、洗浄液の精製を容易にする。

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