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プロセスガスの消費削減とは?課題と対策・製品を解説

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エッチングにおけるプロセスガスの消費削減とは?
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生産方法の最適化により低コストを実現しました。半導体製造装置や工場配管等に使用が可能でプロセスガス・不活性ガスに適用してます。
半導体関連製品「精密加工品/角槽など」は、半導体製造装置の中での使用に対応するためミクロンレベルの超精密加工を行った部品や半導体製造装置で使用される高純度薬液の貯蔵や混合に適したシングル槽、半導体製造装置内でのオーバーフロー洗浄用に適したダブル槽があります。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
井阪産業株式会社では、『電子関連向け製品・工事』を承っております。
熟練のスタッフが自社工場でポンプのオーバーホール・洗浄(重金属可)を行う
各種ポンプO/H・洗浄をはじめ、電子工業薬品については、
高純度・機能性薬品、洗浄液、レジスト等幅広くご提供。
また、高圧ガス・真空・冷却水・排気、薬液配管等、装置立上げに関わる
付帯工事一式を行います。
【取り扱い製品(一部)】
■各種ポンプ O/H・洗浄
■電子工業薬品
■真空関連製品・消耗品
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この4チャンバーシステムは、使用時点での混合化学物質を特許取得済みのリテーナーコーム処理システムと組み合わせて優れたプロセス結果を実現することを特徴としています。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジストストリッピングのようなサステナブルなプロセスを行うことで、化学物質や脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。
【特長】
■最大600wphのスループット
■4つのプロセスチャンバー
■設置面積12m2未満
■高度希釈された使い切り化学物質
■硫酸や過酸化物は必要なし
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。



