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プロセスガスの消費削減とは?課題と対策・製品を解説
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エッチングにおけるプロセスガスの消費削減とは?
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株式会社妙徳では、本体およびノズル材質がオールステンレスの
耐薬品・耐ガス用CVコンバムをオーダーメイドにて提供しています。
材質はSUS303,SUS316を準備しております。
薬品・ガスなどの吸引に適しており、半導体製造装置で使用可能。
耐薬品性に優れるPTFEタイプ、さらにノズルと本体を
PTFE溶接したタイプも製作いたします。
【特長】
■本体およびノズル材質がオールステンレス
■半導体製造装置で使用可能
■オールPTFEタイプも製作
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空エジェクタ『耐薬品・耐ガス用CVコンバム(オーダメイド)』
『ミニミニエッチャー』は、小型基板の製作および薬液の実験・開発に適した
装置です。
左右の薬液噴射ノズルが首振り動作する「縦型・左右スプレー」をはじめ、
「横型・上下スプレー」や「水平揺動型・上下スプレー」などをラインアップ。
少量の薬液でのエッチングが可能で、数枚単位の基板製作に対応出来、
また、薬液の交換も容易で、省スペースにて設計されています。
【特長】
■小型基板の製作および薬液の実験・開発に好適
■少量の薬液でのエッチングが可能
■数枚単位の基板製作に対応
■薬液の交換も容易
■省スペース設計
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
エッチング実験装置『ミニミニエッチャー』
半導体関連製品「精密加工品/角槽など」は、半導体製造装置の中での使用に対応するためミクロンレベルの超精密加工を行った部品や半導体製造装置で使用される高純度薬液の貯蔵や混合に適したシングル槽、半導体製造装置内でのオーバーフロー洗浄用に適したダブル槽があります。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
半導体関連製品 「精密加工品/角槽など」
BMNシリーズ ベローズシール微量流量調整バルブ は、半導体製造プロセスにおいて不可欠な高純度ガス用で、高信頼・高耐久性にお応えできるベローズシールバルブです。
【特徴】
○精密ニードルによるすぐれた流量特性、マイクロメーターハンドルによる高精度な繰返し流量調整など、高い技術力と経験でお客様へ流体・用途別の製品をご提供いたします。
●その他の機能や詳細については、カタログをダウンロードしてください。
ベローズシール微量流量調整バルブ
大和工業はプラスチックの特殊加工技術により最先端産業を支え続けています。
半導体をはじめとする電子部品の製造工程でのケミカルプロセス『化学的な処理工程』で使用する特殊な装置を製造しています。
国内、国外問わず、全世界で進化し続ける産業とともに製造装置も進化をして行かねばならない使命があります。
プラスチック特殊加工という物作りを通じ、常に先を見据えて価値、ニーズを創造してまいります。
【掲載内容】
■会社概要
■関連企業
■主な取扱材質・切削加工例
■商品一覧
■自社設計製品一覧
■製造サービス一覧
※詳しくはPDFをダウン ロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
大和工業株式会社 会社案内
この4チャンバーシステムは、使用時点での混合化学物質を特許取得済みのリテーナーコーム処理システムと組み合わせて優れたプロセス結果を実現することを特徴としています。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジストストリッピングのようなサステナブルな プロセスを行うことで、化学物質や脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。
【特長】
■最大600wphのスループット
■4つのプロセスチャンバー
■設置面積12m2未満
■高度希釈された使い切り化学物質
■硫酸や過酸化物は必要なし
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』
パイプエンド式真空フレキシブルホース『NK-2300PT』は、
両端パイプエンド構造で、くい込み継手と接続できます。
配管誤差(変位吸収)が調整でき、
振動緩和やモーション対応が可能です。
世界最小クラスの直径3mmフレキシブルホースで、
高品質・低価格・短納期で対応できます。
※長さ・数量によって納期が異なります。
【仕様】
適用チューブ:CLT(超柔軟)
口径:3.18〜12.7mm
長さ:100mm〜3M
※長さについてはご相談下さい。
適用流体:ガス・水・空気
※ステンレスを腐蝕させない流体に限る。
使用温度:-196〜300℃
使用圧力:FV〜0.1MPa
※許容リーク量1.33×10-10Pa ㎥/Sec以下
【半導体業界の方必見!】パイプエンド式真空フレキシブルホース
井阪産業株式会社では、『電子関連向け製品・工事』を承っております。
熟練のスタッフが自社工場でポンプのオーバーホール・洗浄(重金属可)を行う
各種ポンプO/H・洗浄をはじめ、電子工業薬品については、
高純度・機能性薬品、洗浄液、レジスト等幅広くご提供。
また、高圧ガス・真空・冷却水・排気、薬液配管等、装置立上げに関わる
付帯工事一式を行います。
【取り扱い製品(一部)】
■各種ポンプ O/H・洗浄
■電子工業薬品
■真空関連製品・消耗品
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電子関連向け製品・工事

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エッチングにおけるプロセスガスの消費削減
エッチングにおけるプロセスガスの消費削減とは?
半導体製造におけるエッチングプロセスでは、微細な回路パターンを形成するために様々なプロセスガスが使用されます。これらのガスの消費量を削減することは、製造コストの低減、環境負荷の軽減、そして資源の有効活用に繋がる重要な取り組みです。
課題
高価な特殊ガスの使用量増加
微細化の進展に伴い、より高性能なエッチングを実現するために高価な特殊ガスの使用量が増加傾向にあり、製造コストを圧迫しています。
排ガス処理コストの増大
使用済みプロセスガスの処理には高度な技術と設備が必要であり、そのコストが増大しています。消費量削減は直接的なコスト削減に繋がります。
環境規制への対応
地球温暖化係数の高いガスや有害物質を含むガスの使用は、環境規制の強化により削減が求められています。
サプライチェーンのリスク
特定のプロセスガスは供給が不安定な場合があり、消費量を削減することでサプライチェーンのリスクを低減できます。
対策
ガス供給量の最適化
エッチングプロセスにおける最適なガス流量や圧力を精密に制御し、無駄な消費を徹底的に排除します。
代替ガスの開発・導入
より安価で環境負荷の低い代替ガスの開発や、既存プロセスへの適用可能性を検討・導入します。
ガスリサイクルシステムの活用
使用済みプロセスガスを回収・精製し、再利用するシステムを導入することで、新規ガスの消費量を大幅に削減します。
プロセス条件の改善
エッチングの歩留まりを維持・向上させつつ、必要なガス量を最小限に抑えるためのプロセス条件(温度、時間、プラズマ条件など)を最適化します。
対策に役立つ製品例
高精度ガス流量制御装置
リアルタイムでガス流量を精密にモニタリング・制御し、設定値からの逸脱を最小限に抑えることで、無駄なガス消費を防ぎます。
ガスリサイクル・精製ユニット
使用済みガスから不純物を除去し、高純度で再利用可能な状態に戻すことで、新規ガスの購入量を削減します。
プロセスシミュレーションソフトウェア
様々なプロセス条件におけるガス消費量を事前にシミュレーションし、最適な条件を見つけ出すことで、試行錯誤による無駄なガス消費を削減します。
低消費ガスエッチング用プラズマ源
より少ないガス量で同等以上のエッチング性能を発揮する革新的なプラズマ生成技術を採用した装置です。








