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プロセスガスの消費削減とは?課題と対策・製品を解説

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エッチングにおけるプロセスガスの消費削減とは?
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ベローズシール微量流量調整バルブ
エッチング実験装置『ミニミニエッチャー』
半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』
真空 エジェクタ『耐薬品・耐ガス用CVコンバム(オーダメイド)』
電子関連向け製品・工事
【半導体業界の方必見!】パイプエンド式真空フレキシブルホース
半導体関連製品 「精密加工品/角槽など」
【CKD】プロセスガス用バルブ「LGDシリーズ」
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エッチングにおけるプロセスガスの消費削減
エッチングにおけるプロセスガスの消費削減とは?
半導体製造におけるエッチングプロセスでは、微細な回路パターンを形成するために様々なプロセスガスが使用されます。これらのガスの消費量を削減することは、製造コストの低減、環境負荷の軽減、そして資源の有効活用に繋がる重要な取り組みです。
課題
高価な特殊ガスの使用量増加
微細化の進展に伴い、より高性能なエッチングを実現するために高価な特殊ガスの使用量が増加傾向にあり、製造コストを圧迫しています。
排ガス処理コストの増大
使用済みプロセスガスの処理には高度な技術と設備が必要であり、そのコストが増大しています。消費量削減は直接的なコスト削減に繋がります。
環境規制への対応
地球温暖化係数の高いガスや有害物質を含むガスの使用は、環境規制の強化により削減が求められています。
サプライチェーンのリスク
特定のプロセスガスは供給が不安定な場合があり、消費量を削減することでサプライチェーンのリスクを低減できます。
対策
ガス供給量の最適化
エッチングプロセスにおける最適なガス流量や圧力を精密に制御し、無駄な消費を徹底的に排除します。
代替ガスの開発・導入
より安価で環境負荷の低い代替ガスの開発や、既存プロセスへの適用可能性を検討・導入します。
ガスリサイクルシステムの活用
使用済みプロセスガスを回収・精製し、再利用するシステムを導入することで、新規ガスの消費量を大幅に削減します。
プロセス条件の改善
エッチングの歩留まりを維持・向上させつつ、必要なガス量を最小限に抑えるためのプロセス条件(温度、時間、プラズマ条件など)を最適化します。
対策に役立つ製品例
高精度ガス流量制御装置
リアルタイムでガス流量を精密にモニタリング・制御し、設定値からの逸脱を最小限に抑えることで、無駄なガス消費を防ぎます。
ガスリサイクル・精製ユニット
使用済みガスから不純物を除去し、高純度で再利用可能な状態に戻すことで、新規ガスの購入量を削減します。
プロセスシミュレーションソフトウェア
様々なプロセス条件におけるガス消費量を事前にシミュレーションし、最適な条件を見つけ出すことで、試行錯誤による無駄なガス消費を削減します。
低消費ガスエッチング用プラズマ源
より少ないガス量で同等以上のエッチング性能を発揮する革新的なプラズマ生成技術を採用した装置です。
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