洗浄効率の最適化とは？課題と対策・製品を解説

半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度な水が不可欠です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。TRIシリーズは、水道に繋ぐだけで高純度イオン交換水を生成し、RO純水設備の後段に設置する事で、高純水が手軽に大容量採水できます。洗浄工程における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体ウェーハの洗浄 ・各種部品の精密洗浄 ・製造装置の洗浄 【導入の効果】 ・洗浄水の品質向上による歩留まり改善 ・手軽な設置と運用によるコスト削減 ・安定した高純度水の供給による品質の安定化

『MU-600SW』は、従来の超音波による洗浄システムに加え、循環方式による 脱気・マイクロバブル発生機能を搭載し、槽全体に均一で強力な超音波を 発生させることができる超音波洗浄装置です。 大容量の超音波洗浄槽と濯ぎ槽を一体化。超音波洗浄槽では、予浸と 超音波洗浄を同水槽で行え非常に効率的に作業を行う事が出来ます。 また、投げ込み式超音波振動子採用で水槽内清掃も手軽に行えます。 【特長】 ■循環方式による脱気・マイクロバブル発生機能 ■キャビテーション制御、均一的な超音波の最適化が高い洗浄力を生み出す ■予浸と超音波洗浄を同水槽で行え非常に効率的に作業を行う事ができる ■温調機能付きの超音波洗浄槽・濯ぎ槽 ■より精度の高い濯ぎ効果を発揮 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

本間産業では環境に優しい『炭化水素系洗浄』に対応しております。 ISO14000シリーズ、RoHS規格取得の企業様も安心して洗浄をご依頼ください。 炭化水素系洗浄溶剤にはJXTGエネルギー株式会社の 高機能炭化水素系洗浄剤『NSクリーン』を使用。 炭化水素系溶剤真空洗浄システムにはジャパン・フィールド社製の 大型双発５槽式全自動洗浄機を導入しております。 【炭化水素系洗浄の工程】 1.洗浄するものを装置に投入 2.予洗い(常圧水置換洗浄) 3.真空引き 4.減圧超音波浸漬洗浄 5.シャワーリンス(再生液) 6.減圧蒸気洗浄 7.真空乾燥［ジャパンフィールド社の特許技術(PAT.2535466、PAT.3182136)］ 8.真空解除(N2封入) 9.洗浄終了 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

エアロピュア社の『エアロリンス』は、IPAやエタノール、メタノールやフッ素系溶剤からの代替に最適な環境対応の洗浄剤です。 しかも、IPAより粘度が低いため優れた洗浄力があります。 サトウキビなどから抽出した植物由来のバイオエタノールを主体の洗浄剤で、作業者・環境にやさしく、化学物質リスクアセスメントや脱炭素への貢献、SDGs(持続可能な開発目標)に大きく貢献します。 『エアロリンス』はIPA含有ゼロ、フッ素溶剤含有ゼロの洗浄剤のため、これからのIPA全廃やフッ素溶剤対策にも貢献できます。 【特長】 ■有機則・PRTR法に抵触しないのでトータルコストで安価！ 　関連する法の為の人件費、管理費、設備負担が、ほとんどありません。 ■液損があまりないので経済的！ 　エアロリンスは揮発性がアルコールにもかかわらず低い。　　 ■特別産廃費がかからない！ 　一般廃棄のため安全の為のリスクがかかりません。 ■化学物質リスクアセスメントに貢献度の高い商品です！ ■適用法令は可燃物だけ！（第４石油アルコール：総量400L）のみ！ ※2023年4月改定PRTR非該当

『AHシリーズ』は溶剤消費量の少ないベーパー洗浄乾燥方式を採用した 炭化水素系洗浄装置です。 カスタムメイドのため、お客様に合った仕様にて製作。 また、コスト面も柔軟に対応致しますのでご相談ください。 【仕様】 ■溶剤 　・炭化水素系洗浄剤　ノルマルパラフィン　第2石油類、第3石油類 　・炭化水素系洗浄剤　イソパラフィン　第2石油類、第3石油類 ■蒸留再生装置：100L/h、200L/h どちらかを標準搭載 ■超音波発振器：ブランソン製各種搭載可能 ■コンベア：お客様の仕様により決定 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

大和工業はプラスチックの特殊加工技術により最先端産業を支え続けています。 半導体をはじめとする電子部品の製造工程でのケミカルプロセス『化学的な処理工程』で使用する特殊な装置を製造しています。 国内、国外問わず、全世界で進化し続ける産業とともに製造装置も進化をして行かねばならない使命があります。 プラスチック特殊加工という物作りを通じ、常に先を見据えて価値、ニーズを創造してまいります。 【掲載内容】 ■会社概要 ■関連企業 ■主な取扱材質・切削加工例 ■商品一覧 ■自社設計製品一覧 ■製造サービス一覧 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

『BSW-PBA-100E Max-STRAINER』は、プリント基板アルカリレジスト剥離装置 専用のストレーナです。 マルチ洗浄方式を採用。本体形状が横型のためSSの排出性能や洗浄効果に 優れています。 また、空気抜き作業が不要で、エレメントの解放点検が簡単です。 【特長】 ■マルチ洗浄方式を採用しており洗浄効果に優れている ■本体形状が横型のためSSの排出性能に優れている ■エレメントの解放点検が簡単 ■空気抜き作業が不要 ■回転部の突出がない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体や液晶パネルなどの製造工程において、回路に付着している余分な 化学物質を除去するために、不純物を極限まで除去した超純水で洗浄を行う 必要があります。 そこで、クリタグループでは超純水の供給サービスを新たに開始。 薬品・食品工場等で必要となる純水製造設備のメンテナンスをサポートし、 お客様の負担を軽減します。 【特長】 ＜運転管理・メンテナンス＞ ■クリタグループ内協業のもと、半導体・液晶工場における 　超純水製造プラントへ、高度な運転管理・メンテナンスサービスを提供 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

メンテナンス性や高精度インライン計測などのFUD-1 Model-13のメリットはそのままに、半導体製造プロセス 用として小型セル型発信器を特長としたモデルとなります。 薬液中の超音波伝播速度（音速）は薬液濃度及び温度によって変化する特性があり、本 濃度計は薬液中の音速・温度を高精度に測定します。 この音速・温度情報を基に内臓データロムに記録した検量線により濃度を演算し、出力します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

『超純水用 エマックス』は、半導体製造工程等の超精密度を必要とする 洗浄用超純水の給湯に好適な電子瞬間湯沸器です。 給湯タンクを必要としないタンクレスタイプ。 さらに保温のための予備熱源、給排気装置もいりません。 また、超純水を加熱しても何ら電気分解されず、 化学反応が全く発生しません。 【特長】 ■化学反応を起こさない ■超コンパクト計量設計 ■スピーディー瞬間給湯 ■取り付け簡単 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社SCREEN SPE クォーツの保有する郡山工場は、半導体製造装置関連の 分野における創業以来の生産拠点であり、半導体ウエハー洗浄用処理槽 （石英槽）の開発・製造を鋭意的に展開しています。 クリーン度がハイレベルに保たれた工場内では、材料調達から製品出荷 までの各工程が一貫して機能し、安全かつ効率的な生産体制を構築して います。 また、約1,700℃の高い軟化点を持つクォーツの特性を生かし、ボートや チューブをはじめとするウエハー熱処理装置用部品の開発・製造も積極的 に行っています。 【事業内容】 ■半導体洗浄装置向け石英槽および関連部品の製作加工 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

eアクア21シリーズは金属加工部品、ガラス・樹脂の基板及び光学レンズ洗浄の水系洗浄剤です。 洗浄性が良いことは当然として、成分中にLASを含まず、他社製品と比較してBOD、COD値が低く、排水処理の負担を軽減できます。洗浄後のリンス性も良好です。 海外拠点での実績多数あります。

株式会社永沢工機が行った基盤洗浄籠の製作加工事例をご紹介します。 お客様と仕様等を協議したのち、板金製作図を作成。 中央部のスリット幅2mmが歪により変形しない様、考慮し設計しました。 当社は、薄物板金加工を得意とし、精密板金加工のプロとして、短納期でも 高品質の実現に努めています。 【事例】 ■品名：基盤洗浄籠 ■寸法（mm）：500*300*100 ■素材：SUS304-2B t=1.0ｍｍ ■表面処理：なし ■標準リードタイム・ロット：10日/10台 ■工程紹介：設計・プログラム・抜き加工・曲げ加工・溶接・組立・検査 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

日立製作所のストレージ事業部の一部門、小田原CMSで行った ザ・バイオウォーターの効果分析結果をご紹介します。 ザ・バイオウォーターを設置後、溶剤洗浄液の劣化速度が1/2以下に減り、 洗浄能力が大きく向上。 フィルタータンク内のスケール（シリカ、カルシウムの針状結晶）は、 全く生じていません。 ザ・バイオウォーター設置2週間後にこれらの効果が現れました。 下記「PDFダウンロード」より"パッケージボード純水洗浄装置への ザ・バイオウォーター設置評価"についてご確認いただけます。 先方から送られてきた報告書に一切手を加えず、掲載していますので、 ぜひご覧ください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※PDFダウンロード時に表示される『興味を持ったきっかけ』の欄は 株式会社イプロスのAIによって表示されております。​

半導体・２次半導体の部材や部品・金属部品等、弊社の技術ノウハウとテクノロジーを生かした洗浄方法（超音波、ブラシ、高圧ジェット、薬液、UV等）や乾燥方法をご提案いたします。 　※ 微細なラインやホールの中の汚れが落ちにくく、乾燥もしづらい！！ 　※ ウォーターマークが出てしまう！！ 　※ 薬液を使用した洗浄方法が分らない！！　Etc

『アクティブリアクター』は、特殊なセラミックを利用した「水」による 物理的アプローチであり、セラミックスを水に接触させることにより 「水」の活性化を計り、合目的な水を造る装置です。 水の分子配向を整え、水のクラスターを小さくする作用を持ち、表面張力を 低減し洗浄力の向上に寄与し、また乾燥速度の向上にも貢献。さらに、 サビの分解を促進する効果もあります。 電子回路部品製造工程においては活性水の活用により、製造タンク内の 雑菌の繁殖が防止され基材の汚れを防止する効果も現れています。 【特長】 ■特殊なセラミックを利用し「水」を活性化 ■表面張力を低減し洗浄力の向上に寄与 ■乾燥速度が向上 ■サビの分解を促進する効果 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ABZOL(R)クリーナー』は、蒸気脱脂洗浄、冷漕洗浄および超音波洗浄 による高性能洗浄溶媒であり、クロロカーボン、ハイドロクロロカーボンや 各種フロンとはいくつか異なる特長を持った製品です。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【特長】 ■オゾン層破壊係数(ODP)および地球温暖化係数(GWP)が非常に低い ■タグ密閉式また開放式による引火点を持たず、他の溶媒と比べ被洗浄物を 　腐食しにくい ■幅広い金属に適応性があり、リサイクルしやすい ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。

純水加熱器 「SP型」は、純水を70～90℃まで加熱して洗浄効果を高める、高性能純水加熱器です。 フロン等の溶剤に替わって純水が使用される、半導体や液晶製造の洗浄工程に用いられます。 全面パネル式でクリーンルーム対応。洗浄装置に連結し、遠隔操作することもできます。 【仕様】 ○ヒーターエレメントおよび接液部のステンレス表面処理として、 　電解研磨を施し純水への不純物溶出を抑えている ○石英ヒーター・石英槽を使用した加熱装置に比べ、 　堅牢でかつ大幅なコストダウンを実現 ○４ケ所のキャスター（アジャストボルト付き）により、 　設置およびメンテナスや定期点検等での移動が容易 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

MHD放電を用いて高酸素ラジカルを生成。 工程速度(200mm/sec以上)の高速により、 既存のN2プラズマ4台以上に相当する生産効果があります。 生産量を画期的に向上させることで工程費用削減につながり、CO2 削減することでSDGsに貢献できます。 また、3D形状製品、面積の広い製品や表面活性化が難しい材料においても表面処理に対して好適です。 これまでのプラズマ洗浄機の問題点を解決しつつ、さらに性能をアップグレードさせた新しいプラズマ洗浄ソリューションです。 サンプル評価後、導入検討大歓迎です。