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洗浄効率の最適化とは?課題と対策・製品を解説
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レジスト剥離・洗浄における洗浄効率の最適化とは?
半導体製造プロセスにおいて、露光後の不要なレジスト層を効率的かつ完全に除去し、ウェハー表面を清浄に保つ技術です。これにより、後工程での歩留まり向上や製造コスト削減を目指します。
各社の製品
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日立製作所のストレージ事業部の一部門、小田原CMSで行った
ザ・バイオウォーターの効果分析結果をご紹介します。
ザ・バイオウォーターを設置後、溶剤洗浄液の劣化速度が1/2以下に減り、
洗浄能力が大きく向上。
フィルタータンク内のスケール(シリカ、カルシウムの針状結晶)は、
全く生じていません。
ザ・バイオウォーター設置2週間後にこれらの効果が現れました。
下記「PDFダウンロード」より"パッケージボード純水洗浄装置への
ザ・バイオウォーター設置評価"についてご確認いただけます。
先方から送られてきた報告書に一切手を加えず、掲載していますので、
ぜひご覧ください。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
※PDFダウンロード時に表示される『興味を持ったきっかけ』の欄は
株式会社イプロスのAIによって表示されております。
【洗浄能力向上 事例】小田原CMS_日立製作所ストレージ事業部
純水加熱器 「SP型」は、純水を70~90℃まで加熱して洗浄効果を高める、高性能純水加熱器です。
フロン等の溶剤に替わって純水が使用される、半導体や液晶製造の洗浄工程に用いられます。
全面パネル式でクリーンルーム対応。洗浄装置に連結し、遠隔操作することもできます。
【仕様】
○ヒーターエレメントおよび接液部のステンレス表面処理として、

