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異物混入の防止とは？課題と対策・製品を解説
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フォトマスク作成における異物混入の防止とは？
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『洗浄用カセット』は、基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能な
耐薬液及び耐摩耗性に優れたPTFE製カセットです。
ご要望の基板サイズ・形状・スロット数で製作が可能なほか、着脱可能な
ハンドルも製作いたします。
また、PTFE製または石英製「洗浄用ビーカー」もご用意しております。
当社では、耐薬品性、耐摩耗性に優れた特注品の設計・製作を承ります。
さまざまな設計のご要望にお応えします。詳細はお問合せください。
【特長】
■材質：PTFE
■各種基板サイズに対応
■ご要望のサイズ、形状、スロット数で設計・製作
■1個から製作可能
■基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能
※詳しくは弊社ウェブサイトまたはPDF資料をご覧いただき、お気軽にお問い合わせ下さい。
基板・フォトマスク洗浄用治具『特注カセット・ビーカー』
『STM515-RTL／STM521-RTL』は、画面に触ることなく近づいた指の位置を
センサーで検出し、空中でタッチ操作ができる非接触タッチモニターです。
手袋を外さずに操作可能。
USBでWindowsPCとLinuxとの接続ができます。
自動販売機のパネルなど、不特定者が間接的に接触する現場に
検討されている製品となっております。
【特長】
■リアルホバータイプ
■衛生面に配慮した操作
■汚れや傷がつかない
■手袋を外さずに操作可能
■画面をスワイプ、ピンチイン、ピンチアウト操作が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ ください。
タッチレスモニター『STM515-RTL／STM521-RTL』
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フォトマスク作成における異物混入の防止
フォトマスク作成における異物混入の防止とは？
半導体製造の根幹をなすフォトマスクは、微細な回路パターンをシリコンウェハーに転写するための原版です。その作成プロセスにおいて、微細な異物混入は製品の歩留まり低下や性能劣化に直結するため、極めて厳格な管理が求められます。異物混入防止は、高品質な半導体チップを安定供給するための最重要課題の一つです。
課題
微細な塵埃の付着
クリーンルーム内であっても、空気中に浮遊する微細な塵埃がフォトマスク表面に付着し、回路パターンに欠陥を生じさせる可能性があります。
製造装置からのパーティクル発生
フォトマスクの描画や検査に使用される製造装置自体から発生する微細なパーティクルが、マスク上に堆積するリスクがあります。
作業員の持ち込み
作業員が着用するクリーンウェアや手指に付着した微細な異物が、意図せずマスクに付着してしまうことがあります。
材料由来の不純物
フォトマスク基板やコーティング材料に含まれる微量の不純物が、異物として認識され、回路形成に悪影響を与える可能性があります。
対策
超清浄環境の維持・管理
クラス10以下の超クリーンルームを維持し、空気清浄システムや定期的な清掃を徹底することで、浮遊塵埃の侵入を最小限に抑えます。
製造装置の最適化と保守
パーティクル発生を抑制する設計の装置を選定し、定期的なメンテナンスと清掃を行うことで、装置由来の異物混入リスクを低減します。
厳格な作業員管理と教育
特殊なクリーンウェアの着用、入退室管理、手指の洗浄・消毒の徹底、定期的な異物付着検査など、作業員からの異物持ち込みを防止します。
高品質材料の選定と検査
不純物の少ない高純度な材料を選定し、受け入れ時に厳格な品質検査を実施することで、材料由来の異物混入を防ぎます。
対策に役立つ製品例
高性能空気清浄システム
微細なパーティクルを効率的に除去し、クリーンルーム内の清浄度を維持することで、空気中の異物混入リスクを大幅に低減します。
自動洗浄・検査装置
フォトマスク表面の異物を自動で検出し、安全かつ効果的に洗浄することで、人為的なミスや異物付着を防ぎます。
特殊クリーンウェア・消耗品
異物発生を極限まで抑えた素材で作られたクリーンウェアや、静電気防止機能を持つ消耗品を使用することで、作業員からの異物持ち込みを防ぎます。
材料品質管理・分析サービス
使用する材料の不純物を詳細に分析し、品質基準を満たしていることを確認することで、材料由来の異物混入リスクを排除します。
