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半導体テクノロジー

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レジスト剥離残渣の完全除去とは?課題と対策・製品を解説

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レジスト剥離・洗浄におけるレジスト剥離残渣の完全除去とは?

半導体製造プロセスにおいて、フォトリソグラフィ工程でパターン形成に用いられる感光性樹脂(レジスト)を、後工程の前に完全に除去・洗浄する技術です。微細な回路パターン形成の精度を維持し、後工程での不良発生を防ぐために極めて重要です。

各社の製品

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【半導体洗浄向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO
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半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度な水の確保が不可欠です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。RO膜による高い浄水能力で、洗浄に最適な純水を供給し、歩留まり向上に貢献します。

【活用シーン】
・半導体製造工場の洗浄工程
・研究開発施設での実験用水
・精密部品の洗浄

【導入の効果】
・洗浄品質の向上
・歩留まりの改善
・ランニングコストの削減

【電子部品向け】RO純水製造装置スキッド型
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電子部品業界、特に精密部品の製造においては、洗浄や精密加工に用いる水の品質が製品の品質を左右します。不純物の混入は、製品の性能低下や不良品の発生につながるため、高純度の水が不可欠です。RO純水製造装置スキッド型は、限られたスペースを有効活用し、高品質なRO純水を安定供給することで、電子部品製造における品質管理をサポートします。

【活用シーン】
・電子部品の洗浄工程
・精密部品の製造工程
・半導体製造

【導入の効果】
・高品質なRO純水による製品品質の向上
・省スペース化による製造効率の改善
・安定した純水供給による歩留まり向上

【半導体洗浄向け】イオン交換カートリッジ純水器
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半導体業界では、製品の品質を左右する洗浄工程において、高純度な水が不可欠です。特に、微細な異物や不純物の混入は、製品の歩留まりを低下させる大きな要因となります。TRIシリーズは、水道に繋ぐだけで高純度イオン交換水を生成し、RO純水設備の後段に設置する事で、高純水が手軽に大容量採水できます。洗浄工程における品質向上に貢献します。

【活用シーン】
・半導体ウェーハの洗浄
・各種部品の精密洗浄
・製造装置の洗浄

【導入の効果】
・洗浄水の品質向上による歩留まり改善
・手軽な設置と運用によるコスト削減
・安定した高純度水の供給による品質の安定化

純水
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【カテゴリー】
化成品、電子・金属、食品、医療・衛生

【特長】
■伝導率1.5μS/cm以下

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【洗浄能力向上 事例】小田原CMS_日立製作所ストレージ事業部
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日立製作所のストレージ事業部の一部門、小田原CMSで行った
ザ・バイオウォーターの効果分析結果をご紹介します。

ザ・バイオウォーターを設置後、溶剤洗浄液の劣化速度が1/2以下に減り、
洗浄能力が大きく向上。

フィルタータンク内のスケール(シリカ、カルシウムの針状結晶)は、
全く生じていません。

ザ・バイオウォーター設置2週間後にこれらの効果が現れました。

下記「PDFダウンロード」より"パッケージボード純水洗浄装置への
ザ・バイオウォーター設置評価"についてご確認いただけます。
先方から送られてきた報告書に一切手を加えず、掲載していますので、
ぜひご覧ください。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

※PDFダウンロード時に表示される『興味を持ったきっかけ』の欄は
株式会社イプロスのAIによって表示されております。​

超純水製造装置UPWV-01【40~70%の水リサイクルを実現】
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『UPWV-01』は、超高純度水質維持を実現する装置です。EDIを搭載して
おり、ランニングコストを大幅に削減可能。40~70%の水リサイクルを
実現します。半導体用部品洗浄などの工程で活用いただける製品です。
原水質および流量情報に合った設計をご提案致します。

【特長】
■洗浄品質が向上する
■理論純水に近い超純水を生成
■回収ユニットを搭載
■EDI搭載により樹脂交換のコスト削減が可能
■水使用量を減らせる(SDGs対応)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

純水スピン洗浄乾燥機 TCL300SPW
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半導体・2次半導体の部材や部品・金属部品等、弊社の技術ノウハウとテクノロジーを生かした洗浄方法(超音波、ブラシ、高圧ジェット、薬液、UV等)や乾燥方法をご提案いたします。
 ※ 微細なラインやホールの中の汚れが落ちにくく、乾燥もしづらい!!
 ※ ウォーターマークが出てしまう!!
 ※ 薬液を使用した洗浄方法が分らない!! Etc

ストレーナ『BSW-PBA-100E Max-STRAINER』
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『BSW-PBA-100E Max-STRAINER』は、プリント基板アルカリレジスト剥離装置
専用のストレーナです。

マルチ洗浄方式を採用。本体形状が横型のためSSの排出性能や洗浄効果に
優れています。

また、空気抜き作業が不要で、エレメントの解放点検が簡単です。

【特長】
■マルチ洗浄方式を採用しており洗浄効果に優れている
■本体形状が横型のためSSの排出性能に優れている
■エレメントの解放点検が簡単
■空気抜き作業が不要
■回転部の突出がない

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

純水加熱器 「SP型」
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純水加熱器 「SP型」は、純水を70~90℃まで加熱して洗浄効果を高める、高性能純水加熱器です。
フロン等の溶剤に替わって純水が使用される、半導体や液晶製造の洗浄工程に用いられます。
全面パネル式でクリーンルーム対応。洗浄装置に連結し、遠隔操作することもできます。

【仕様】
○ヒーターエレメントおよび接液部のステンレス表面処理として、
 電解研磨を施し純水への不純物溶出を抑えている
○石英ヒーター・石英槽を使用した加熱装置に比べ、
 堅牢でかつ大幅なコストダウンを実現
○4ケ所のキャスター(アジャストボルト付き)により、
 設置およびメンテナスや定期点検等での移動が容易

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

受託洗浄ならお任せ!炭化水素系洗浄
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本間産業では環境に優しい『炭化水素系洗浄』に対応しております。
ISO14000シリーズ、RoHS規格取得の企業様も安心して洗浄をご依頼ください。

炭化水素系洗浄溶剤にはJXTGエネルギー株式会社の
高機能炭化水素系洗浄剤『NSクリーン』を使用。

炭化水素系溶剤真空洗浄システムにはジャパン・フィールド社製の
大型双発5槽式全自動洗浄機を導入しております。

【炭化水素系洗浄の工程】
1.洗浄するものを装置に投入
2.予洗い(常圧水置換洗浄)
3.真空引き
4.減圧超音波浸漬洗浄
5.シャワーリンス(再生液)
6.減圧蒸気洗浄
7.真空乾燥[ジャパンフィールド社の特許技術(PAT.2535466、PAT.3182136)]
8.真空解除(N2封入)
9.洗浄終了

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基板・フォトマスク洗浄用治具『特注カセット・ビーカー』
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『洗浄用カセット』は、基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能な
耐薬液及び耐摩耗性に優れたPTFE製カセットです。

ご要望の基板サイズ・形状・スロット数で製作が可能なほか、着脱可能な
ハンドルも製作いたします。
また、PTFE製または石英製「洗浄用ビーカー」もご用意しております。

当社では、耐薬品性、耐摩耗性に優れた特注品の設計・製作を承ります。
さまざまな設計のご要望にお応えします。詳細はお問合せください。

【特長】
■材質:PTFE
■各種基板サイズに対応
■ご要望のサイズ、形状、スロット数で設計・製作
■1個から製作可能
■基板やフォトマスクの洗浄用途で使用可能

※詳しくは弊社ウェブサイトまたはPDF資料をご覧いただき、お気軽にお問い合わせ下さい。

高周波超音波洗浄処理システム
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当製品は、微細凹凸部のダストを超音波で除去する
高周波超音波洗浄処理システムです。

半導体ウェハやマスクなどの洗浄に使用いただけます。

ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式、その他の洗浄処理システムを
ラインアップしています。

【特長】
■微細凹凸部のダストを超音波で除去
■400kHz~5MHzのトランスデューサを備える
■最小0.1μmからのパーティクルを除去
■ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式などをラインアップ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高性能洗浄溶媒『ABZOL(R)クリーナー』
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『ABZOL(R)クリーナー』は、蒸気脱脂洗浄、冷漕洗浄および超音波洗浄
による高性能洗浄溶媒であり、クロロカーボン、ハイドロクロロカーボンや
各種フロンとはいくつか異なる特長を持った製品です。

ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

【特長】
■オゾン層破壊係数(ODP)および地球温暖化係数(GWP)が非常に低い
■タグ密閉式また開放式による引火点を持たず、他の溶媒と比べ被洗浄物を
 腐食しにくい
■幅広い金属に適応性があり、リサイクルしやすい

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。

半導体・FPD製造部品 精密洗浄サービス
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当社は、半導体・FPDの製造に付属する各種部品の精密洗浄を行っています。

精密洗浄技術では、目には見えない汚れをきめ細かく除去し、
お客様の半導体や液晶などの製造装置の長期安定稼働を提供しています。

また、新設真空装置向け直動部品洗浄も承っており、付着膜剥離から
表面処理、精密洗浄、乾燥、品質検査、梱包までを一貫で対応します。
ご要望の際はお気軽にご相談ください。

【サービス】
■半導体・FPD等精密洗浄
■真空装置向け直動部品洗浄
■長期安定稼働サポート

※詳細はお問い合わせください。

株式会社オーク製作所 紫外線応用製品のご案内
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株式会社オーク製作所では、半導体素子、液晶基板、電気回路基板および
各種素材の表面処理工程でランプの各波長による効果を活かした様々な
処理装置を設計・開発しております。

UVを照射して有機汚染を非接触で除去するUVドライプロセッサーや
紫外線硬化樹脂によるUVインクの乾燥などに適したUV-LEDスポット
照射装置などお客様の用途に合わせてお選びいただけます。

ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。

【ラインアップ】
■UVドライプロセッサー
■UV-LEDスポット照射装置
■小型灯具シリーズ
■FRP硬化用UV灯具

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

超純水・純水供給サービス
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半導体や液晶パネルなどの製造工程において、回路に付着している余分な
化学物質を除去するために、不純物を極限まで除去した超純水で洗浄を行う
必要があります。

そこで、クリタグループでは超純水の供給サービスを新たに開始。

薬品・食品工場等で必要となる純水製造設備のメンテナンスをサポートし、
お客様の負担を軽減します。

【特長】
<運転管理・メンテナンス>
■クリタグループ内協業のもと、半導体・液晶工場における
 超純水製造プラントへ、高度な運転管理・メンテナンスサービスを提供

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

水ヌル除去装置『アクティブリアクター』
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『アクティブリアクター』は、特殊なセラミックを利用した「水」による
物理的アプローチであり、セラミックスを水に接触させることにより
「水」の活性化を計り、合目的な水を造る装置です。

水の分子配向を整え、水のクラスターを小さくする作用を持ち、表面張力を
低減し洗浄力の向上に寄与し、また乾燥速度の向上にも貢献。さらに、
サビの分解を促進する効果もあります。

電子回路部品製造工程においては活性水の活用により、製造タンク内の
雑菌の繁殖が防止され基材の汚れを防止する効果も現れています。

【特長】
■特殊なセラミックを利用し「水」を活性化
■表面張力を低減し洗浄力の向上に寄与
■乾燥速度が向上
■サビの分解を促進する効果

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

中型事例4 基盤洗浄籠
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株式会社永沢工機が行った基盤洗浄籠の製作加工事例をご紹介します。

お客様と仕様等を協議したのち、板金製作図を作成。
中央部のスリット幅2mmが歪により変形しない様、考慮し設計しました。

当社は、薄物板金加工を得意とし、精密板金加工のプロとして、短納期でも
高品質の実現に努めています。

【事例】
■品名:基盤洗浄籠
■寸法(mm):500*300*100
■素材:SUS304-2B t=1.0mm
■表面処理:なし
■標準リードタイム・ロット:10日/10台
■工程紹介:設計・プログラム・抜き加工・曲げ加工・溶接・組立・検査

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

超高密度大気圧プラズマ ToughPlasma FPF20-GM
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FPF20-GMは一般的な大気圧プラズマの10倍以上の超高密度ラジカルを発生させることができる世界最高レベルの大気圧プラズマ装置です。

各種パラメータは最適化されており、余計な調整は不要です。
ボタン一つで簡単に世界最高レベルの大気圧プラズマをご利用できます。
CEマーク、METマークを取得しており、EU加盟国および北米での使用も可能です。

接着不良、塗装剥がれ、表面汚れでお困りの際はお気軽にお問い合わせください。

電子瞬間湯沸器『超純水用 エマックス』
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『超純水用 エマックス』は、半導体製造工程等の超精密度を必要とする
洗浄用超純水の給湯に好適な電子瞬間湯沸器です。

給湯タンクを必要としないタンクレスタイプ。
さらに保温のための予備熱源、給排気装置もいりません。

また、超純水を加熱しても何ら電気分解されず、
化学反応が全く発生しません。

【特長】
■化学反応を起こさない
■超コンパクト計量設計
■スピーディー瞬間給湯
■取り付け簡単

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

超音波洗浄装置『MU-600SW』
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『MU-600SW』は、従来の超音波による洗浄システムに加え、循環方式による
脱気・マイクロバブル発生機能を搭載し、槽全体に均一で強力な超音波を
発生させることができる超音波洗浄装置です。

大容量の超音波洗浄槽と濯ぎ槽を一体化。超音波洗浄槽では、予浸と
超音波洗浄を同水槽で行え非常に効率的に作業を行う事が出来ます。

また、投げ込み式超音波振動子採用で水槽内清掃も手軽に行えます。

【特長】
■循環方式による脱気・マイクロバブル発生機能
■キャビテーション制御、均一的な超音波の最適化が高い洗浄力を生み出す
■予浸と超音波洗浄を同水槽で行え非常に効率的に作業を行う事ができる
■温調機能付きの超音波洗浄槽・濯ぎ槽
■より精度の高い濯ぎ効果を発揮

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

現像機洗浄剤『クリンケム5』
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『クリンケム5』は、原液を投入し機械を回すだけでスラッジを除去する
現像機洗浄剤です。

複数回使用可能なことにより、その都度廃液する必要がなく廃液処理代を
抑えることが可能。また、薬品のランニングコストも抑えられます。

除去方法は剥離ではなく、溶解、分解。従って、洗浄後のスラッジ脱落が
起こり難くく、洗浄時にノズルを取り外す必要もないため、そのまま配管と
同時に洗浄することができます。

【特長】
■1液簡単作業
■短時間処理
■溶解洗浄により洗浄直後のスラッジ脱落がない
■以前の薬剤、方法と比較して洗浄力数段UP
■複数回使用できることによるコストメリット

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

電子材料
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当社では、半導体製造工程で使用される薬剤や消耗品、精密部品の
洗浄剤を提供しております。

その他、金属加工及び表面処理に使用される各種薬剤および
メッキ廃水処理剤や、原材料及び食品添加物から衛生管理面で
必須なサニテーション商品などを提供。

また、医薬品原料関連、化粧品原料関連、試薬関連、プール・スパ・
温泉関連、防疫薬剤関連、リネン・クリーニング関連、塗料・印刷関連も
取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【取扱品目】
■高純度薬品
■フッ素系溶剤
■リチウムイオン電池材料
■イオン液体 など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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レジスト剥離・洗浄におけるレジスト剥離残渣の完全除去

レジスト剥離・洗浄におけるレジスト剥離残渣の完全除去とは?

半導体製造プロセスにおいて、フォトリソグラフィ工程でパターン形成に用いられる感光性樹脂(レジスト)を、後工程の前に完全に除去・洗浄する技術です。微細な回路パターン形成の精度を維持し、後工程での不良発生を防ぐために極めて重要です。

​課題

微細パターンへの残渣付着

回路パターンの微細化に伴い、レジスト残渣が微細な溝や開口部に付着し、除去が困難になる。

異種材料との複合残渣

レジストだけでなく、エッチング工程で生じた副生成物などが混ざり合い、除去がさらに複雑化する。

基板材料へのダメージ

強力な洗浄液や物理的な洗浄方法が、デリケートな半導体基板材料を損傷させるリスクがある。

洗浄液の残留・乾燥痕

洗浄液が基板上に残留したり、乾燥時にシミや痕跡を残したりすることで、後工程に悪影響を与える。

​対策

高機能洗浄液の開発

レジスト残渣を効率的に溶解・分散させ、かつ基板へのダメージを最小限に抑える特殊な洗浄液を使用する。

精密洗浄装置の導入

超音波、マイクロバブル、プラズマなどを利用し、微細な箇所まで均一かつ効果的に洗浄できる装置を用いる。

洗浄プロセス最適化

洗浄液の種類、温度、時間、圧力などの条件を、レジストの種類や基板材料に合わせて最適化する。

後処理技術の確立

洗浄後のリンスや乾燥工程を工夫し、洗浄液の残留や乾燥痕の発生を防ぐ技術を導入する。

​対策に役立つ製品例

低ダメージ型溶解剤

レジスト残渣を効果的に分解しつつ、シリコンや金属配線などの基板材料への化学的・物理的ダメージを極めて低く抑える。

マイクロバブル洗浄システム

微細な泡の物理的な力で、微細な凹凸に入り込んだレジスト残渣を剥離・除去する。

高純度リンス液

洗浄後の基板表面に残った洗浄液成分を迅速かつ完全に洗い流し、乾燥痕の発生を防ぐ。

精密洗浄用ガス

プラズマ化や化学反応を利用して、微細なレジスト残渣を気化・除去する。

⭐今週のピックアップ

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