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汚染物質の除去とは?課題と対策・製品を解説

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ウェーハの研磨における汚染物質の除去とは?

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨後、表面に残存する微細な異物や化学物質を除去する工程です。これにより、次工程での歩留まり向上とデバイス性能の安定化を図ります。

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当製品は、微細凹凸部のダストを超音波で除去する
高周波超音波洗浄処理システムです。

半導体ウェハやマスクなどの洗浄に使用いただけます。

ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式、その他の洗浄処理システムを
ラインアップしています。

【特長】
■微細凹凸部のダストを超音波で除去
■400kHz~5MHzのトランスデューサを備える
■最小0.1μmからのパーティクルを除去
■ノズル噴射式、洗浄槽内投込み式などをラインアップ

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

高周波超音波洗浄処理システム

セインのウルトラフローSCは、ネジ接続またはダブルフェルールチューブフィッティング付きのウルトラフロー特別バージョンです。半導体製造工程で使用される液冷システム向けに特別設計されたステンレス・スチール製です。フラット・フェースデザインのため付け外しの際に液だれがなく、クリーン環境汚濁防止、高い地球温暖化係数を持つ液体冷媒の漏出防止に有効です。また、低圧力損失かつ高い流量特性により、システム全体のエネルギー効率向上にも貢献します。

半導体製造用ウルトラフローSC クイック・カップリング

・特長
●200L/min. 以上の超大流量工程用。
●フィルタのコストダウン。
●低価格を実現。

ADK-φ130mmフィルタ専用大流量ハウジング

水処理装置『スケールウォッチャー』の半導体工場における、
導入効果事例をご紹介します。

シャワーノズル・吐出配管・ストレーナーの詰まりが無くなり、
スクラバーの不具合を改善。

また、基板完全不良率の改善と銅残りによる手直し発生率の改善も
実現しました。

【効果】
■スクラバーの不具合を改善
■ラジエータ冷却効率低下を改善
■基盤完全不良率を改善
■銅残りによる手直し発生率を改善

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

水処理・スケール除去装置 スケールウォッチャー【半導体工場編】

純水加熱器 「SP型」は、純水を70~90℃まで加熱して洗浄効果を高める、高性能純水加熱器です。
フロン等の溶剤に替わって純水が使用される、半導体や液晶製造の洗浄工程に用いられます。
全面パネル式でクリーンルーム対応。洗浄装置に連結し、遠隔操作することもできます。

【仕様】
○ヒーターエレメントおよび接液部のステンレス表面処理として、
 電解研磨を施し純水への不純物溶出を抑えている
○石英ヒーター・石英槽を使用した加熱装置に比べ、
 堅牢でかつ大幅なコストダウンを実現
○4ケ所のキャスター(アジャストボルト付き)により、
 設置およびメンテナスや定期点検等での移動が容易

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

純水加熱器 「SP型」

eアクア21シリーズは金属加工部品、ガラス・樹脂の基板及び光学レンズ洗浄の水系洗浄剤です。
洗浄性が良いことは当然として、成分中にLASを含まず、他社製品と比較してBOD、COD値が低く、排水処理の負担を軽減できます。洗浄後のリンス性も良好です。

海外拠点での実績多数あります。

水系洗浄剤 『eアクア21シリーズ』

電解研磨による電気化学的な研磨と研磨材による物理的な研磨を複合して同時に行うことによりナノレベルの超平滑面を得る研磨方法です。

【 電解複合研磨の特徴 】

◆ ナノレベルの高鏡面を実現
純チタンでも平均粗さが0.2㎛のものを平均粗さ0.002㎛(2nm)の
鏡面に仕上げることができます。
さらに、研磨条件により平均粗さ0.001㎛(1nm)の実現も可能です。

◆ 熱による金属表面の歪みがありません
物理研磨では熱による金属表面の歪みが発生してしまう
場合がありますが、電解複合研磨ではこれが起きません。

◆ 変質が少ないクリーンな表面物性
金属表面の圧縮された変質層ができません。
また研磨材の巻き込みなどもないため、
表面は非常にクリーンな状態となります。

◆ 高い非付着性・洗浄性を実現
平滑性に優れた金属表面は、非付着性・洗浄性に
優れた状態となります。

◇◇詳細はカタログをダウンロードまたはお問い合わせ下さい◇◇

超精密鏡面加工「電解複合研磨」

『芯鞘アクリル導電繊維 コアブリットB』は、特殊製法で毛材の絡みが無い
ノンシリコン毛材です。

高い導電性があるので、ブラッシングにて静電気の発生を抑え、コロナ放電
などによる除電も行います。

また、芯部分に導電性を持たせているため、導電物質の脱落による導電性の
低下やコンタミの混入がほとんどありません。

【特長】
■ブラッシングにて静電気の発生を抑える
■コロナ放電などによる除電も行う
■導電物質の脱落による導電性の低下やコンタミの混入がほとんどない
■毛材の密集度が高く精密洗浄用に優れている
■アクリル特有の表面シワがブラッシング性能を高める

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

ノンシリコン毛材『芯鞘アクリル導電繊維 コアブリットB』

水処理のランニングコスト低減を提案している流機エンジニアリングの
水処理事例をご紹介します。

精密部品/めっき工場様から、精密電子部品などの洗浄水に河川水を浄化
して利用することでコスト削減をしたいというご要望をいただきました。

【事例】
■業種:精密部品/めっき工場
■課題:精密電子部品などの洗浄水に水道水を使ってきたが、水道料金が高い
    河川水を浄化して洗浄水に利用することで、コストを削減したい

当社では、「ECOクリーン」を使って河川水の濁度を水道水レベルまで浄化。
河川水を利用できるようにすることで、水道水の10分の1の値段で給水し、
浄化利用させることによって水道水90%オフを実現しました。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【水処理事例】河川水を浄化して精密電子部品の洗浄水に

『アクティブリアクター』は、特殊なセラミックを利用した「水」による
物理的アプローチであり、セラミックスを水に接触させることにより
「水」の活性化を計り、合目的な水を造る装置です。

水の分子配向を整え、水のクラスターを小さくする作用を持ち、表面張力を
低減し洗浄力の向上に寄与し、また乾燥速度の向上にも貢献。さらに、
サビの分解を促進する効果もあります。

電子回路部品製造工程においては活性水の活用により、製造タンク内の
雑菌の繁殖が防止され基材の汚れを防止する効果も現れています。

【特長】
■特殊なセラミックを利用し「水」を活性化
■表面張力を低減し洗浄力の向上に寄与
■乾燥速度が向上
■サビの分解を促進する効果

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

水ヌル除去装置『アクティブリアクター』

『UPWV-01』は、超高純度水質維持を実現する装置です。EDIを搭載して
おり、ランニングコストを大幅に削減可能。40~70%の水リサイクルを
実現します。半導体用部品洗浄などの工程で活用いただける製品です。
原水質および流量情報に合った設計をご提案致します。

【特長】
■洗浄品質が向上する
■理論純水に近い超純水を生成
■回収ユニットを搭載
■EDI搭載により樹脂交換のコスト削減が可能
■水使用量を減らせる(SDGs対応)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

超純水製造装置UPWV-01【40~70%の水リサイクルを実現】

株式会社SCREEN SPE クォーツの保有する郡山工場は、半導体製造装置関連の
分野における創業以来の生産拠点であり、半導体ウエハー洗浄用処理槽
(石英槽)の開発・製造を鋭意的に展開しています。

クリーン度がハイレベルに保たれた工場内では、材料調達から製品出荷
までの各工程が一貫して機能し、安全かつ効率的な生産体制を構築して
います。

また、約1,700℃の高い軟化点を持つクォーツの特性を生かし、ボートや
チューブをはじめとするウエハー熱処理装置用部品の開発・製造も積極的
に行っています。

【事業内容】
■半導体洗浄装置向け石英槽および関連部品の製作加工

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

株式会社SCREEN SPE クォーツ 郡山工場 事業紹介

半導体や液晶パネルなどの製造工程において、回路に付着している余分な
化学物質を除去するために、不純物を極限まで除去した超純水で洗浄を行う
必要があります。

そこで、クリタグループでは超純水の供給サービスを新たに開始。

薬品・食品工場等で必要となる純水製造設備のメンテナンスをサポートし、
お客様の負担を軽減します。

【特長】
<運転管理・メンテナンス>
■クリタグループ内協業のもと、半導体・液晶工場における
 超純水製造プラントへ、高度な運転管理・メンテナンスサービスを提供

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

超純水・純水供給サービス

当社では、スマートフォンのガラスコーティングサービスを提供しております。

特許取得の日本製硬度9Hのガラスコーティングを実施。
防汚効果で指紋が付きにくく、常に清潔が保たれます。

ご要望の際はお気軽にご相談ください。

【特長】
■保護フィルムが不要
■煩わしい気泡とも無縁に
■画面を強力に保護
■操作性・見やすさの向上
■指紋などの汚れが落ちやすい

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせください。

スマホ ガラスコーティングサービス

極低圧の 0.002 MPaから 0.01 MPa (最大許容圧力 0.1 MPa)まで切れ目のないラミナー状の噴射が可能なノズルです。
スリット幅:100~3000mm、スリット厚:0.15~0.3mmまで用途、製品幅に応じ幅広く対応が可能です。

★デモ機貸出サービス実施中★
ウォーターナイフのデモ機貸出サービスを実施中です。
導入前の性能確認・仕様決定のご参考としてご利用ください。
詳しくは下記フォームよりお問い合わせください!

1流体ノズル ウォーターナイフ WK型

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ウェーハの研磨における汚染物質の除去

ウェーハの研磨における汚染物質の除去とは?

半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨後、表面に残存する微細な異物や化学物質を除去する工程です。これにより、次工程での歩留まり向上とデバイス性能の安定化を図ります。

課題

微細異物の残留

研磨スラリー由来の微粒子や、装置から剥離した異物がウェーハ表面に付着し、回路形成の欠陥原因となる。

化学的残留物の付着

研磨剤や洗浄液に含まれる化学成分がウェーハ表面に残り、後工程での反応を阻害したり、信頼性を低下させたりする。

洗浄液の効率低下

複雑なウェーハ形状や微細構造により、洗浄液が隅々まで行き渡らず、汚染物質の除去が不十分になる場合がある。

環境負荷とコスト

大量の洗浄液や純水の使用、排水処理など、環境負荷と製造コストの増大が課題となる。

​対策

高純度洗浄液の活用

不純物を極限まで排除した洗浄液を使用し、ウェーハ表面への二次汚染を防ぐ。

超音波・マイクロバブル洗浄

物理的な力を利用して、微細な隙間や凹凸に入り込んだ汚染物質を効果的に剥離・除去する。

自動化された洗浄システム

プログラム制御により、ウェーハの種類や汚染度に応じた最適な洗浄条件を自動で実行し、均一な洗浄を実現する。

洗浄液リサイクル技術

使用済み洗浄液を精製・再生し、再利用することで、コスト削減と環境負荷低減を図る。

​対策に役立つ製品例

高純度界面活性剤

ウェーハ表面の汚染物質を効率的に乳化・分散させ、除去を促進する。

精密洗浄装置

超音波やジェット噴流などの技術を組み合わせ、微細な汚染物質を物理的に除去する。

自動搬送・洗浄システム

ウェーハの搬送から洗浄までを自動化し、人為的な汚染リスクを低減しつつ、効率的な洗浄を行う。

洗浄液再生装置

使用済み洗浄液から不純物を除去し、再利用可能な状態に戻すことで、コストと環境負荷を削減する。

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