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汚染物質の除去とは?課題と対策・製品を解説

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ウェーハの研磨における汚染物質の除去とは?
半導体製造プロセスにおけるウェーハ研磨後、表面に残存する微細な異物や化学物質を除去する工程です。これにより、次工程での歩留まり向上とデバイス性能の安定化を図ります。
各社の製品
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【電子部品向け】RO純水製造装置スキッド型
【半導体洗浄向け】小型RO純水装置 TW-020-SRO
半導体製造用ウルトラフローSC クイック・カップリング
1流体ノズル ウォーターナイフ WK型
純水加熱器 「SP型」
純水加熱器 「SP型」は、純水を70~90℃まで加熱して洗浄効果を高める、高性能純水加熱器です。
フロン等の溶剤に替わって純水が使用される、半導体や液晶製造の洗浄工程に用いられます。
全面パネル式でクリーンルーム対応。洗浄装置に連結し、遠隔操作することもできます。
【仕様】
○ヒーターエレメントおよび接液部のステンレス表面処理として、
電解研磨を施し純水への不純物溶出を抑えている
○石英ヒーター・石英槽を使用した加熱装置に比べ、
堅牢でかつ大幅なコストダウンを実現
○4ケ所のキャスター(アジャストボルト付き)により、
設置およびメンテナスや定期点検等での移動が容易
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
水ヌル除去装置『アクティブリアクター』






