半導体テクノロジーに関連する気になるカタログにチェックを入れると、まとめてダウンロードいただけます。
スループットの向上とは？課題と対策・製品を解説
目的・課題で絞り込む
カテゴリで絞り込む
検査・測定装置 |
材料 |
自動化・ITソリューション |
製造装置 |
関連技術 |
イオン注入におけるスループットの向上とは？
各社の製品
絞り込み条件：
▼チェックした製品のカタログをダウンロード
一度にダウンロードできるカタログは20件までです。
■ハイスピードモデルのウエハ搬送ロボット
450WPHの高速搬送で装置のスループット向上に貢献します。
半導体用クリーンロボット「ACTRANSシリーズ」は、技術に裏打ちされた
高い性能とグローバルネットワークによる優れたサポートでお客様の
半導体製造における様々なソリューションを提供して参ります。
大気環境用ウエハ搬送ロボット『UTW-REH5500』
お探しの製品は見つかりませんでした。
1 / 1
イオン注入におけるスループットの向上
イオン注入におけるスループットの向上とは？
半導体製造プロセスにおけるイオン注入は、ウェハーに特定の不純物イオンを導入し、電気的特性を制御する重要な工程です。スループットの向上とは、単位時間あたりに処理できるウェハー枚数を増加させ、生産効率を高めることを指します。これにより、製造コストの削減や納期短縮が期待できます。
課題
ビーム電流の限界
イオン源から引き出せるビーム電流には物理的な限界があり、これが処理速度の上限を決定づけてしまう。
ウェハー搬送時間のロス
ウェハーのロード・アンロードや位置決めにかかる時間が、全体の処理時間を圧迫し、スループットを低下させる要因となる。
アライメント精度の要求
高精度なイオン注入には、ウェハーとビームのアライメントが不可欠であり、その調整に時間がかかり、スループットを犠牲にする場合がある。
装置のダウンタイム
定期的なメンテナンスや予期せぬ故障による装置停止時間が、生産計画に影響を与え、スループットを低下させる。
対策
高輝度イオン源の開発
より高密度で安定したイオンビームを生成できるイオン源技術を導入し、単位時間あたりのイオン注入量を増やす。
自動搬送システムの最適化
ウェハーの搬送経路や搬送速度を最適化し、ロード・アンロード時間を最小限に抑えることで、装置稼働率を向上させる。
インラインアライメント技術の活用
注入プロセス中にリアルタイムでアライメント調整を行う技術を導入し、手動調整の時間を削減する。
予知保全と迅速な修理体制
装置の稼働状況を監視し、故障の兆候を早期に検知する予知保全システムを導入し、迅速な修理体制を構築する。
対策に役立つ製品例
高出力イオン源モジュール
従来よりも高い電流密度で安定したイオンビームを生成できるため、ウェハーあたりの注入時間を大幅に短縮できる。
高速ウェハーハンドリングシステム
ロボットアームや搬送ベルトの速度・精度を向上させ、ウェハーのロード・アンロード時間を短縮し、装置のアイドルタイムを削減する。
自動アライメント制御ソフトウェア
画像認識技術などを活用し、ウェハーとイオンビームの位置ずれを自動かつ高精度に補正することで、手動調整の手間と時間を省く。
装置稼働監視・診断システム
装置の各センサーデータをリアルタイムで収集・分析し、異常を検知してオペレーターに通知することで、ダウンタイムの最小化と効率的なメンテナンスを支援する。
