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エッチング後の洗浄効率向上とは？課題と対策・製品を解説
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エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上とは？
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水処理装置『スケールウォッチャー』の半導体工場における、
導入効果事例をご紹介します。
シャワーノズル・吐出配管・ストレーナーの詰まりが無くなり、
スクラバーの不具合を改善。
また、基板完全不良率の改善と銅残りによる手直し発生率の改善も
実現しました。
【効果】
■スクラバーの不具合を改善
■ラジエータ冷却効率低下を改善
■基盤完全不良率を改善
■銅残りによる手直し発生率を改善
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
水処理・スケール除去装置 スケールウォッチャー【半導体工場編】
当社では、半導体製造工程で使用される薬剤や消耗品、精密部品の
洗浄剤を提供しております。
その他、金属加工及び表面処理に使用される各種薬剤および
メッキ廃水処理剤や、原材料及び食品添加物から衛生管理面で
必須なサニテーション商品などを提供。
また、医薬品原料関連、化粧品原料関連、試薬関連、プール・スパ・
温泉関連、防疫薬剤関連、リネン・クリーニング関連、塗料・印刷関連も
取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【取扱品目】
■高純度薬品
■フッ素系溶剤
■リチウムイオン電池材料
■イオン液体 など
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
電子材料
この2チャンバーシステムは、優れたエッチングの均一性を提供するだけでなく、化学物質を節減します。そして、すべてのタイプのウェットエッチングプロセスに対応しています。
高い精度のタンク内における化学物質の混合、エンドポイント検出（EPD）、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムが含まれています。さらに、SicOzoneレジストストリップを同じチャンバーに適用でき、これにより柔軟性が向上するだけでなく、処理ステップを減らすこともできます。
【特長】
■最大300wphのスループット
■2つのプロセ スチャンバー
■ばらつきが1％未満の均一性
■設置面積12m2未満
■タンクシステムによる化学物質の再循環
■sic/GaNでプロセス実行可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体装置BATCHSPRAY Solvent Autoload
当資料では、「真空紫外エキシマランプ」の現状と その産業的応用について
ご紹介しております。
エキシマとは励起状態の原子または分子1個と基底状態の原子または分子1個が
会合した二量体の総称。
「真空紫外エキシマランプ」は、準単色光、一般的なランプにない短波長の
光を発光できる、瞬時点灯点滅が可能、などの特長を有しています。
また、真空紫外光は短波長で光子エネルギーが高いため、非熱過程で分子の
結合を切断することができます。
【掲載内容】
■真空紫外エキシマランプとは
■真空紫外エキシマランプの応用
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【技術資料】真空紫外エキシマランプの現状とその産業的応用
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エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上
エッチングにおけるエッチング後の洗浄効率向上とは？
半導体製造プロセスにおけるエッチング工程後、ウェハー表面に残存するエッチング副生成物やレジスト残渣などを効率的に除去し、次工程への影響を最小限に抑えるための技術や手法のこと。これにより、歩留まり向上、信頼性確保、製造コスト削減に貢献します。
課題
微細構造への残渣付着
微細化が進む半導体デバイスでは、エッチング後の微細な溝や穴の内部にエッチング副生成物やレジスト残渣が残りやすく、除去が困難になっています。
洗浄液の浸透性不足
複雑な3次元構造や高アスペクト比構造を持つウェハーでは、従来の洗浄液が奥深くまで浸透しにくく、効果的な洗浄ができない場合があります。
過剰な洗浄によるダメージ
洗浄効率を上げるために強力な洗浄方法を用いると、エッチングで形成された微細構造自体を損傷したり、材料を溶解したりするリスクがあります。
洗浄時間の長期化とコスト増
洗浄効率が低いと、洗浄時間を長く取る必要があり、生産性の低下やエネルギー消費の増加、それに伴う製造コストの上昇を招きます。
対策
高機能洗浄液の開発
エッチング副生成物やレジスト残渣に対して高い溶解性・分散性を持つ、低ダメージな新規洗浄液を開発・適用します。
超音波・プラズマ洗浄の最適化
洗浄液の浸透性を高めるために、超音波の周波数や強度、プラズマ洗浄のガス種やパワーを最適化し、効率的な残渣除去を実現します。
複数ステップ洗浄プロセスの導入
異なる特性を持つ洗浄液や洗浄方法を組み合わせた複数ステップの洗浄プロセスを設計し、段階的に残渣を除去することで、全体的な効率と安全性を両立させます。
インラインモニタリングとフィードバック制御
洗浄工程中にウェハーの状態をリアルタイムでモニタリングし、洗浄度合いに応じて洗浄条件を自動調整することで、常に最適な洗浄を実現します。
対策に役立つ製品例
特殊界面活性剤配合洗浄液
微細構造の隙間への浸透性を高め、エッチング残渣を効率的に剥離・分散させることで、洗浄時間を短縮し、ダメージを低減します。
高周波超音波洗浄装置
微細なキャビテーションを発生させ、構造内部の残渣を物理的に剥離します。洗浄液との組み合わせで、より効果的な洗浄が可能です。
低ダメージプラズマ洗浄システム
特定の残渣にのみ反応するプラズマガスを使用し、ウェハー表面へのダメージを最小限に抑えつつ、残渣を効率的に除去します。
自動洗浄プロセス制御システム
洗浄液濃度、温度、時間、超音波強度などをリアルタイムで最適化し、常に一定の高い洗浄品質を維持することで、歩留まり向上に貢献します。
