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不純物再付着の防止とは?課題と対策・製品を解説

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レジスト剥離・洗浄における不純物再付着の防止とは?

半導体製造プロセスにおいて、フォトリソグラフィ工程で形成されたレジストパターンを剥離・洗浄する際に、微細な不純物がウェハー表面に再付着してしまうことを指します。これは、後工程での歩留まり低下やデバイス性能の劣化に直結するため、厳格な管理が求められる重要な課題です。

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・特長
●200L/min. 以上の超大流量工程用。
●フィルタのコストダウン。
●低価格を実現。

ADK-φ130mmフィルタ専用大流量ハウジング

『芯鞘アクリル導電繊維 コアブリットB』は、特殊製法で毛材の絡みが無い
ノンシリコン毛材です。

高い導電性があるので、ブラッシングにて静電気の発生を抑え、コロナ放電
などによる除電も行います。

また、芯部分に導電性を持たせているため、導電物質の脱落による導電性の
低下やコンタミの混入がほとんどありません。

【特長】
■ブラッシングにて静電気の発生を抑える
■コロナ放電などによる除電も行う
■導電物質の脱落による導電性の低下やコンタミの混入がほとんどない
■毛材の密集度が高く精密洗浄用に優れている
■アクリル特有の表面シワがブラッシング性能を高める

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

ノンシリコン毛材『芯鞘アクリル導電繊維 コアブリットB』

【カテゴリー】
化成品、電子・金属、食品、医療・衛生

【特長】
■伝導率1.5μS/cm以下

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

純水

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レジスト剥離・洗浄における不純物再付着の防止

レジスト剥離・洗浄における不純物再付着の防止とは?

半導体製造プロセスにおいて、フォトリソグラフィ工程で形成されたレジストパターンを剥離・洗浄する際に、微細な不純物がウェハー表面に再付着してしまうことを指します。これは、後工程での歩留まり低下やデバイス性能の劣化に直結するため、厳格な管理が求められる重要な課題です。

課題

洗浄液中の微粒子混入

洗浄液中に含まれる微細なパーティクルが、剥離・洗浄工程中にウェハー表面に付着し、不純物源となる。

剥離残渣の付着

レジストの剥離が不十分な場合、剥離残渣がウェハー表面に残り、後工程で問題を引き起こす。

洗浄水の不純物

使用する洗浄水に含まれるイオンや有機物などの不純物が、ウェハー表面に付着・残留する。

乾燥工程でのパーティクル付着

洗浄後の乾燥工程において、空気中のパーティクルや乾燥ムラによる不純物付着が発生する。

​対策

高純度洗浄液の採用

パーティクル含有量が極めて低い高純度な洗浄液を使用し、洗浄液由来の不純物混入を徹底的に排除する。

最適化された剥離・洗浄条件

レジストの種類や膜厚に応じた最適な剥離剤・洗浄剤の選定と、洗浄時間・温度・圧力などの条件を精密に制御する。

超純水製造・管理の徹底

不純物を極限まで除去した超純水を製造・供給し、洗浄水の品質を常に一定に保つことで、水由来の不純物付着を防ぐ。

クリーンな乾燥環境の構築

パーティクルフリーの乾燥装置や、窒素パージなどを活用し、乾燥工程での不純物付着リスクを最小限に抑える。

​対策に役立つ製品例

超高純度剥離液

微細なパーティクルや金属不純物を極限まで排除した剥離液であり、ウェハー表面への不純物再付着を効果的に抑制する。

精密洗浄装置

洗浄液の噴射圧や角度、洗浄時間を精密に制御し、剥離残渣や微細パーティクルを効率的に除去する機能を持つ。

高機能洗浄剤

レジスト残渣を効果的に溶解・分散させ、かつウェハー表面へのダメージを最小限に抑える特殊な界面活性剤を含む洗浄剤。

クリーン乾燥システム

クリーンルーム環境下で、パーティクル混入を防ぎながら均一な乾燥を実現する装置。不活性ガスを用いた乾燥も可能。

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